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탄소강 기판; 및상기 탄소강 기판에 형성된 환원된 산화그래핀 코팅층을 포함하는 것을 특징으로 하는 히트싱크용 탄소강 소재
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제1항에 있어서, 상기 환원된 산화그래핀 코팅층은 10∼500 ㎚의 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 히트싱크용 탄소강 소재
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제1항에 있어서, 상기 환원된 산화그래핀 코팅층은 상기 탄소강 기판에 산화그래핀 분산액이 스프레이코팅법으로 반복 코팅되고 HI(Hydrogen iodide) 분위기에서 화학적 환원(chemical reduction) 되어 형성된 것을 특징으로 하는 히트싱크용 탄소강 소재
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흑연을 산(acid) 용액에 담그고 교반하는 단계;상기 산 용액에서 흑연을 꺼내 세척하고 건조하는 단계;건조된 흑연을 열처리 과정을 거쳐 흑연의 층간 거리를 넓히고 팽창흑연으로 합성하는 단계;상기 팽창흑연을 황산 및 과산화망간칼륨 혼합 용액에 담가서 상기 팽창흑연이 산화되면서 박리되게 하는 단계; 산화 및 박리가 이루어진 결과물을 세정(washing)하여 산과 염기를 제거하고 산화그래핀을 수득하는 단계;상기 산화그래핀을 용매에 분산시켜 옅은 갈색(light brown)을 나타내는 산화그래핀 분산액을 준비하는 단계; 상기 산화그래핀 분산액을 탄소강 기판에 코팅하는 단계; 및상기 산화그래핀 분산액이 코팅된 탄소강 기판에 대하여 화학적 환원(chemical reduction)을 진행하여 환원된 산화그래핀이 코팅된 탄소강 기판을 수득하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 히트싱크용 탄소강 소재의 제조방법
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제4항에 있어서, 상기 열처리는 900 ~ 1200 ℃의 온도로 산화 분위기에서 실시하는 것을 특징으로 하는 히트싱크용 탄소강 소재의 제조방법
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제4항에 있어서, 상기 코팅은 스프레이 코팅법을 이용하여 복수 회 반복 실시하는 것을 특징으로 하는 히트싱크용 탄소강 소재의 제조방법
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제4항에 있어서, 상기 탄소강 기판에 형성된 환원된 산화그래핀 코팅층은 10∼500 ㎚의 두께를 갖게 하는 것을 특징으로 하는 히트싱크용 탄소강 소재의 제조방법
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제4항에 있어서, 상기 산 용액은 황산과 질산의 혼합용액인 것을 특징으로 하는 히트싱크용 탄소강 소재의 제조방법
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제4항에 있어서, 상기 산 용액은 황산과 질산이 1:10∼10:1의 부피비로 혼합된 용액이고, 상기 교반은 10∼1500 rpm의 속도로 수행하는 것을 특징으로 하는 히트싱크용 탄소강 소재의 제조방법
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제4항에 있어서, 상기 황산과 과산화망간칼륨 혼합 용액은 황산과 과산화망간칼륨이 1:20∼20:1의 부피비로 혼합된 용액인 것을 특징으로 하는 히트싱크용 탄소강 소재의 제조방법
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제4항에 있어서, 상기 화학적 환원(chemical reduction)은 HI(Hydrogen iodide) 분위기에 수행하는 것을 특징으로 하는 히트싱크용 탄소강 소재의 제조방법
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제4항에 있어서, 상기 세정 공정 전 또는 상기 세정 공정 후에 여과(filtration) 공정을 실시하고, 상기 여과 공정은 나노 크기의 기공을 갖는 멤브레인(membrane)을 통과시켜 필터링(filtering) 하는 것을 특징으로 하는 히트싱크용 탄소강 소재의 제조방법
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제12항에 있어서, 상기 멤브레인은 폴리테트라플루오로에틸렌 멤브레인을 이용하고, 상기 멤브레인은 50∼900nm의 기공 크기를 갖는 것을 특징으로 하는 히트싱크용 탄소강 소재의 제조방법
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