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소정 시간 간격으로 전압을 인가하는 전압 인가부와, 상기 인가되는 전압에 기초하여 전자빔을 생성하고, 상기 생성된 전자빔을 서로 다른 물질로 구성되는 복수의 타겟 중 적어도 하나에 충돌시키는 빔 제공부와, 상기 전자빔의 진행 방향에 수직으로 배치되는 전자석을 포함하며, 상기 전자석에 의해 발생되는 자기장을 이용하여 상기 전자빔이 제공되는 경로를 제어하는 빔 제어부와, 상기 복수의 타겟을 포함하며, 상기 생성된 전자빔이 상기 복수의 타겟 중 적어도 하나에 충돌됨에 기초하여 다중 에너지의 엑스선을 발생시키는 엑스선 발생부를 포함하고,상기 전자빔은,상기 자기장에 의해 진행 경로가 소정 각도만큼 휘어져 상기 복수의 타겟 중 하나와 충돌하고,상기 전자빔이 휘어지는 각도는 상기 자기장 및 상기 전자빔에 인가되는 전압의 크기에 따라 상이하며,상기 전압 인가부는, 상기 소정 시간 간격으로 서로 다른 값을 가지는 전압을 상기 빔 제공부에 인가하고, 상기 빔 제공부는, 상기 서로 다른 값을 가지는 전압에 대응하여 서로 다른 에너지를 가지는 전자빔을 상기 소정 시간 간격으로 생성하며, 상기 서로 다른 에너지를 가지는 전자빔은, 상기 자기장에 의해 진행 경로가 상이한 각도로 휘어져 상기 복수 개의 타겟 중 서로 다른 타겟에 충돌하는,다중 에너지 엑스선 발생 장치
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제1항에 있어서,상기 전압 인가부는 음극과 양극을 포함하고, 상기 빔 제공부는 상기 음극과 연결되고, 상기 엑스선 발생부는 상기 양극과 연결되는다중 에너지 엑스선 발생 장치
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제1항에 있어서,상기 복수의 타겟은, 크롬, 로듐 및 구리 중 하나 이상을 포함하는 타겟을 포함하는 다중 에너지 엑스선 발생 장치
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제1항에 있어서, 상기 전자석은, 소정 거리를 가지고 이격되어 서로 마주보는 형태로 배치되는 제1 전자석과 제2 전자석을 포함하는 다중 에너지 엑스선 발생 장치
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제6항에 있어서, 상기 제1 전자석과 상기 제2 전자석 사이의 공간은, 상기 전자빔이 진행되는 경로를 포함하는 다중 에너지 엑스선 발생 장치
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제1항에 있어서,상기 복수의 타겟은, 제1 타겟과 제2 타겟을 포함하며, 상기 전자빔은, 상기 인가되는 전압이 기지정된 제1 전압인 경우 상기 제1 타겟과 충돌하고, 상기 인가되는 전압이 기지정된 제2 전압인 경우 상기 제2 타겟과 충돌하는 다중 에너지 엑스선 발생 장치
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소정 시간 간격으로 전압을 인가하는 단계와, 상기 인가되는 전압에 기초하여 전자빔을 생성하고, 상기 생성된 전자빔을 서로 다른 물질로 구성되는 복수의 타겟 중 적어도 하나에 충돌시키는 단계와, 상기 전자빔의 진행 방향에 수직으로 배치되는 전자석에 의해 발생되는 자기장을 이용하여 상기 전자빔이 제공되는 경로를 제어하는 단계와, 상기 생성된 전자빔이 상기 복수의 타겟 중 적어도 하나에 충돌됨에 기초하여 다중 에너지의 엑스선을 발생시키는 단계를 포함하고,소정 시간 간격으로 전압을 인가하는 전압 인가부와, 상기 인가되는 전압에 기초하여 전자빔을 생성하고, 상기 생성된 전자빔을 서로 다른 물질로 구성되는 복수의 타겟 중 적어도 하나에 충돌시키는 빔 제공부와, 상기 전자빔의 진행 방향에 수직으로 배치되는 전자석을 포함하며, 상기 전자석에 의해 발생되는 자기장을 이용하여 상기 전자빔이 제공되는 경로를 제어하는 빔 제어부와, 상기 복수의 타겟을 포함하며, 상기 생성된 전자빔이 상기 복수의 타겟 중 적어도 하나에 충돌됨에 기초하여 다중 에너지의 엑스선을 발생시키는 엑스선 발생부를 포함하고,상기 전자빔은,상기 자기장에 의해 진행 경로가 소정 각도만큼 휘어져 상기 복수의 타겟 중 하나와 충돌하고,상기 전자빔이 휘어지는 각도는 상기 자기장 및 상기 전자빔에 인가되는 전압의 크기에 따라 상이하며,상기 전압 인가부는, 상기 소정 시간 간격으로 서로 다른 값을 가지는 전압을 상기 빔 제공부에 인가하고, 상기 빔 제공부는, 상기 서로 다른 값을 가지는 전압에 대응하여 서로 다른 에너지를 가지는 전자빔을 상기 소정 시간 간격으로 생성하며, 상기 서로 다른 에너지를 가지는 전자빔은, 상기 자기장에 의해 진행 경로가 상이한 각도로 휘어져 상기 복수 개의 타겟 중 서로 다른 타겟에 충돌하는,다중 에너지 엑스선 발생 방법
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