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자기 입자 이미징(magnetic particle imaging, MPI) 기술을 이용하여 타겟에 대한 이미지 정보를 획득하기 위한 장치에 있어서,상기 장치는,제1 자성체 및 제2 자성체를 포함하는 자기장 발생 수단; 및 상기 자기장 발생 수단과 동작 가능하게 연결되는 적어도 하나의 프로세서를 포함하며,상기 적어도 하나의 프로세서는,상기 자기장 발생 수단을 통하여 미리 정해진 규칙에 기반하여 상기 타겟의 주변 공간에 자기장을 형성하고,상기 주변 공간에서 자기장의 세기가 임계 값 미만인 지점, 선 또는 면에 대응하는 위치를 필드 프리 라인(field free line, FFL)으로 결정하고,상기 필드 프리 라인이 미리 정해진 경로를 따라 이동하도록 상기 자기장 발생 수단에 대한 제1 제어 명령을 제공하고,상기 제1 제어 명령에 기반하여 상기 자기장 발생 수단이 이동하는 것에 대응하여, 변경된 필드 프리 라인을 식별하고,상기 변경된 필드 프리 라인에 기반하여 상기 타겟의 이미지 정보를 생성하도록 구성되고,상기 제1 자성체 및 상기 제2 자성체에서 발생하는 자기장은 상기 타겟을 기준으로 비대칭적인 장치
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제1 항에 있어서,상기 미리 정해진 경로는,상기 타겟을 기준으로 비대칭적으로 형성되는 제1 경로인 장치
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제1 항에 있어서,상기 적어도 하나의 프로세서는,상기 제1 자성체 및 상기 제2 자성체의 위치를 서로 변경하거나, 상기 제1 자성체 및 상기 제2 자성체가 발생하는 자기장의 세기를 서로 변경하도록 제어하는 제2 제어 명령을 제공하도록 더 구성되고,상기 변경된 필드 프리 라인은,상기 제2 제어 명령에 기반하여 상기 자기장 발생 수단이 이동하는 것에 대응하여 식별되는 장치
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제1 항에 있어서,상기 제1 자성체 및 상기 제2 자성체로부터 발생하는 자기장은, 상기 타겟을 기준으로 대칭적으로 발생하고,상기 미리 정해진 경로는,상기 타겟을 기준으로 대칭적으로 형성되는 제2 경로인 장치
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제2 항 또는 제4 항에 있어서,상기 적어도 하나의 프로세서는,상기 제1 경로를 따라 이동하는 필드 프리 라인 및 상기 제2 경로를 따라 이동하는 필드 프리 라인에 기반하여, 최종 필드 프리 라인을 식별하고,상기 최종 필드 프리 라인에 기반하여 상기 타겟의 이미지 정보를 생성하도록 구성되는 장치
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자기 입자 이미징(magnetic particle imaging, MPI) 기술을 이용하여 타겟에 대한 이미지 정보를 획득하기 위한 장치의 동작 방법에 있어서,자기장 발생 수단을 통하여 미리 정해진 규칙에 기반하여 타겟의 주변 공간에 자기장을 형성하는 단계;상기 주변 공간에서 자기장의 세기가 임계 값 미만인 지점, 선 또는 면에 대응하는 위치를 필드 프리 라인(field free line, FFL)으로 결정하는 단계;상기 필드 프리 라인이 미리 정해진 경로를 따라 이동하도록 상기 자기장 발생 수단에 대한 제1 제어 명령을 제공하는 단계;상기 제1 제어 명령에 기반하여 상기 자기장 발생 수단이 이동하는 것에 대응하여, 변경된 필드 프리 라인을 식별하는 단계; 및상기 변경된 필드 프리 라인에 기반하여 상기 타겟의 이미지 정보를 생성하는 단계를 포함하고,상기 자기장 발생 수단에 포함되는 제1 자성체 및 제2 자성체에서 각각 발생하는 자기장은 상기 타겟을 기준으로 비대칭적인 방법
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제6 항에 있어서,상기 미리 정해진 경로는,상기 타겟을 기준으로 비대칭적으로 형성되는 제1 경로인 방법
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8
제6 항에 있어서,상기 제1 자성체 및 상기 제2 자성체의 위치를 서로 변경하거나, 상기 제1 자성체 및 상기 제2 자성체가 발생하는 자기장의 세기를 서로 변경하도록 제어하는 제2 제어 명령을 제공하는 단계를 더 포함하고,상기 변경된 필드 프리 라인은,상기 제2 제어 명령에 기반하여 상기 자기장 발생 수단이 이동하는 것에 대응하여 식별되는 방법
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제6 항에 있어서,상기 제1 자성체 및 상기 제2 자성체로부터 발생하는 자기장은, 상기 타겟을 기준으로 대칭적으로 발생하고,상기 미리 정해진 경로는,상기 타겟을 기준으로 대칭적으로 형성되는 제2 경로인 방법
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제7 항 또는 제9 항에 있어서,상기 제1 경로를 따라 이동하는 필드 프리 라인 및 상기 제2 경로를 따라 이동하는 필드 프리 라인에 기반하여, 최종 필드 프리 라인을 식별하는 단계;상기 최종 필드 프리 라인에 기반하여 상기 타겟의 이미지 정보를 생성하는 단계를 더 포함하는 방법
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자기 입자 이미징(magnetic particle imaging, MPI) 기술을 이용하여 타겟에 대한 이미지 정보를 획득하기 위한 장치에 있어서,상기 장치는,타겟을 기준으로 대칭적으로 배치되는 제1 자기장 발생 수단;상기 타겟을 기준으로 비대칭적으로 배치되는 제2 자기장 발생 수단; 및상기 제1 자기장 발생 수단 및 상기 제2 자기장 발생 수단과 동작 가능하게 연결되는 적어도 하나의 프로세서를 포함하며,상기 적어도 하나의 프로세서는,상기 제1 자기장 발생 수단 및 제2 자기장 발생 수단을 통하여 미리 정해진 규칙에 기반하여 상기 타겟의 주변 공간에 자기장을 형성하고,상기 주변 공간에서 자기장의 세기가 임계 값 미만인 지점, 선 또는 면에 대응하는 위치를 필드 프리 라인(field free line, FFL)으로 결정하고-상기 필드 프리 라인은, 상기 제1 자기장 발생 수단 및 상기 제2 자기장 발생 수단에 각각 대응하는 제1 필드 프리 라인 및 제2 필드 프리 라인을 포함함-,상기 제1 필드 프리 라인 및 상기 제2 필드 프리 라인이 각각 미리 정해진 경로를 따라 이동함으로써 점유하는 영역을 각각 제1 영역 및 제2 영역으로 식별하고,상기 식별된 제1 영역 및 제2 영역에 기반하여 상기 타겟의 이미지 정보를 생성하도록 구성되는 장치
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제11 항에 있어서,상기 미리 정해진 경로는,상기 타겟을 기준으로 대칭적으로 형성되는 제1 경로; 및상기 타겟을 기준으로 비대칭적으로 형성되는 제2 경로를 포함하고,상기 제1 경로는 상기 제1 영역에 대응하고, 상기 제2 경로는 상기 제2 영역에 대응하는 장치
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제11 항에 있어서,상기 적어도 하나의 프로세서는,상기 제1 영역 및 상기 제2 영역 중 중첩되는 영역을 식별하도록 구성되고,상기 식별된 제1 영역 및 제2 영역에 기반하여 상기 타겟의 이미지 정보를 생성하기 위해, 상기 중첩되는 영역을 제외하도록 구성되는 장치
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자기 입자 이미징(magnetic particle imaging, MPI) 기술을 이용하여 타겟에 대한 이미지 정보를 획득하기 위한 장치의 동작 방법에 있어서,상기 제1 자기장 발생 수단 및 제2 자기장 발생 수단을 통하여 미리 정해진 규칙에 기반하여 상기 타겟의 주변 공간에 자기장을 형성하는 단계- 상기 제1 자기장 발생 수단은 타겟을 기준으로 대칭적으로 배치되고, 상기 제2 자기장 발생 수단은 상기 타겟을 기준으로 비대칭적으로 배치됨-;상기 주변 공간에서 자기장의 세기가 임계 값 미만인 지점, 선 또는 면에 대응하는 위치를 필드 프리 라인(field free line, FFL)으로 결정하는 단계-상기 필드 프리 라인은, 상기 제1 자기장 발생 수단 및 상기 제2 자기장 발생 수단에 각각 대응하는 제1 필드 프리 라인 및 제2 필드 프리 라인을 포함함-;상기 제1 필드 프리 라인 및 상기 제2 필드 프리 라인이 각각 미리 정해진 경로를 따라 이동함으로써 점유하는 영역을 각각 제1 영역 및 제2 영역으로 식별하는 단계; 및상기 식별된 제1 영역 및 제2 영역에 기반하여 상기 타겟의 이미지 정보를 생성하는 단계를 포함하는 방법
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제14 항에 있어서,상기 미리 정해진 경로는,상기 타겟을 기준으로 대칭적으로 형성되는 제1 경로; 및상기 타겟을 기준으로 비대칭적으로 형성되는 제2 경로를 포함하고,상기 제1 경로는 상기 제1 영역에 대응하고, 상기 제2 경로는 상기 제2 영역에 대응하는 방법
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제14 항에 있어서,상기 제1 영역 및 상기 제2 영역 중 중첩되는 영역을 식별하는 단계를 더 포함하고,상기 식별된 제1 영역 및 제2 영역에 기반하여 상기 타겟의 이미지 정보를 생성하는 단계는, 상기 중첩되는 영역을 제외하는 단계를 더 포함하는 방법
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