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펄스 레이저 시스템

  • 기술번호 : KST2023001660
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명의 실시예들에 따른 펄스 레이저 시스템은, 레이저 오실레이터, 상기 레이저 오실레이터의 후단에 배치되는 제1 광 증폭부, 상기 제1 광 증폭부의 후단에 배치되는 제1 광 조절부 및 상기 제1 광 조절부의 후단에 배치되는 제2 광 증폭부를 포함하되, 상기 제1 광 조절부는 포화 흡수체부, 상기 포화 흡수체부의 후단에 배치되는 조절 압축부 및 상기 조절 압축부의 후단에 배치되는 제1 플라즈마 미러부를 포함한다.
Int. CL H01S 3/00 (2023.01.01) H01S 3/10 (2023.01.01) H01S 3/23 (2006.01.01)
CPC H01S 3/0057(2013.01) H01S 3/1003(2013.01) H01S 3/2316(2013.01) H01S 3/0078(2013.01) H01S 3/0092(2013.01)
출원번호/일자 1020230097687 (2023.07.26)
출원인 한국전자통신연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2023-0114260 (2023.08.01) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보 대한민국  |   1020160121005   |   2016.09.21
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 국내출원/분할
원출원번호/일자 10-2017-0015823 (2017.02.03)
관련 출원번호 1020170015823
심사청구여부/일자 Y (2023.07.26)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 송동훈 대전광역시 유성구
2 정문연 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 고려 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 *길 ** *층(역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
최종권리자 정보가 없습니다
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [분할출원]특허출원서
[Divisional Application] Patent Application		 2023.07.26 수리 (Accepted) 1-1-2023-0826482-10
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
레이저 오실레이터;상기 레이저 오실레이터의 후단에 배치되는 제1 광 증폭부;상기 제1 광 증폭부의 후단에 배치되는 제1 광 조절부; 및상기 제1 광 조절부의 후단에 배치되는 제2 광 증폭부를 포함하되,상기 제1 광 조절부는:포화 흡수체부;상기 포화 흡수체부의 후단에 배치되는 조절 압축부; 및상기 조절 압축부의 후단에 배치되는 제1 플라즈마 미러부를 포함하고,상기 제1 플라즈마 미러부는:제1 및 제2 미러들; 및상기 제1 및 제2 미러들을 이동시키는 구동부를 포함하는 펄스 레이저 시스템
2 2
레이저 오실레이터;상기 레이저 오실레이터의 후단에 배치되는 제1 광 증폭부;상기 제1 광 증폭부의 후단에 배치되는 제1 광 조절부;상기 제1 광 조절부의 후단에 배치되는 제2 광 증폭부; 및상기 제2 광 증폭부의 후단에 배치되는 제2 광 조절부를 포함하되,상기 제1 광 조절부는:포화 흡수체부;상기 포화 흡수체부의 후단에 배치되는 조절 압축부; 및상기 조절 압축부의 후단에 배치되는 제1 플라즈마 미러부를 포함하고,상기 제2 광 조절부는 제2 플라즈마 미러를 포함하는 펄스 레이저 시스템
3 3
제 2 항에 있어서,상기 제1 및 제2 광 증폭부들 각각은 처프 펄스 증폭부(CPA) 또는 광 매개 처프 펄스부 증폭부(OPCPA)인 펄스 레이저 시스템
4 4
레이저 오실레이터;상기 레이저 오실레이터에서 생성된 레이저를 증폭하는 제1 및 제2 광 증폭부들; 및상기 제1 및 제2 증폭부들 사이에 배치되어 상기 레이저의 대조비를 향상시키는 제1 광 조절부를 포함하되,상기 제1 광 조절부는:상기 레이저의 제1 구간의 대조비를 향상시키는 비선형 교차 편광 필터부;상기 레이저의 제2 구간의 대조비를 향상시키는 제1 플라즈마 미러부; 및상기 비선형 교차 편광 필터부와 상기 제1 플라즈마 미러부 사이에 배치되는 포화 흡수체부를 더 포함하되,상기 포화 흡수체부는 상기 제1 및 제2 구간들보다 좁은 제3 구간의 대조비를 향상시키는 펄스 레이저 시스템
5 5
레이저 오실레이터;상기 레이저 오실레이터에서 생성된 레이저를 증폭하는 제1 및 제2 광 증폭부들; 및상기 제1 및 제2 증폭부들 사이에 배치되어 상기 레이저의 대조비를 향상시키는 제1 광 조절부를 포함하되,상기 제1 광 조절부는:상기 레이저의 제1 구간의 대조비를 향상시키는 비선형 교차 편광 필터부; 상기 레이저의 제2 구간의 대조비를 향상시키는 제1 플라즈마 미러부;상기 비선형 교차 편광 필터부의 전단에 배치되는 제1 조절 압축부; 및포화 흡수체부와 상기 제1 플라즈마 미러부 사이에 배치되는 제2 조절 압축부를 더 포함하는 펄스 레이저 시스템
6 6
레이저 오실레이터;상기 레이저 오실레이터에서 생성된 레이저를 증폭하는 제1 및 제2 광 증폭부들;상기 제1 및 제2 증폭부들 사이에 배치되어 상기 레이저의 대조비를 향상시키는 제1 광 조절부; 및상기 제2 광 증폭부의 후단에 배치되는 제2 광 조절부를 포함하되,상기 제1 광 조절부는:상기 레이저의 제1 구간의 대조비를 향상시키는 비선형 교차 편광 필터부; 및상기 레이저의 제2 구간의 대조비를 향상시키는 제1 플라즈마 미러부를 포함하고, 상기 제2 광 조절부는 제2 플라즈마 미러를 포함하는 펄스 레이저 시스템
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패밀리정보가 없습니다
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