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우레아(CO(NH2)2)를 포함하는 처리 대상수가 수용된 제1 반응조;상기 제1 반응조에 염소(Cl) 포함 물질을 주입하도록 구성되는 염소 주입부;상기 제1 반응조에 산(acid)을 주입하도록 구성되며, 상기 제1 반응조에 수용된 처리 대상수의 pH가 2
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제1항에 있어서,상기 염소 포함 물질은 차아염소산나트륨(NaOCl) 및 하이포아염소산(HOCl) 중 하나 이상을 포함하고,상기 제1 반응조에서 상기 처리 대상수에 포함된 상기 우레아(CO(NH2)2)는 염소(Cl2)와 반응하여 1,1,3,3-테트라클로로 우레아(CO(NCl2)2)가 형성되는 수 처리 장치
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제2항에 있어서,상기 제1 및 제2 반응조들과 연결되어, 상기 제1 반응조로부터의 상기 제1 처리수를 상기 제2 반응조에 주입하는 제1 처리수 주입부를 더 포함하고,상기 제2 반응조에서 상기 제1 처리수에 포함된 상기 1,1,3,3-테트라클로로 우레아(CO(NCl2)2)는 이산화탄소(CO2), 염화 이온(Cl-) 및 질산염(NO-3-)으로 분해되는 수 처리 장치
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제1항에 있어서,상기 제2 반응조와 연결되는 제3 반응조; 및상기 제2 및 제3 반응조들과 연결되어, 상기 제2 반응조로부터의 제2 처리수를 상기 제3 반응조에 주입하는 제2 처리수 주입부를 더 포함하고,상기 제3 반응조에서 상기 제2 처리수에 포함된 잔류 염소를 제거하는 수 처리 장치
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제4항에 있어서,상기 제3 반응조에 연결된 염소 제거제 주입부를 더 포함하고,상기 염소 제거제 주입부로부터 상기 제3 반응조로 아황산나트륨(Na2SO3)이 주입되는 수 처리 장치
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제1항에 있어서,상기 염소 주입부로부터 상기 제1 반응조에 주입되는 상기 염소의 농도는 상기 처리 대상수 내의 상기 우레아(CO(NH2)2)의 농도의 10배 내지 100배인 수 처리 장치
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7
우레아(CO(NH2)2)를 포함하는 처리 대상수, 염소(Cl) 포함 물질 및 제1 pH 조절제를 포함하는 제1 용액을 형성하는 제1 단계; 및상기 제1 용액에 제2 pH 조절제를 주입하여 제2 용액을 형성하는 제2 단계를 포함하되,상기 제1 용액의 pH는 상기 제1 pH 조절제에 의해 2
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제7항에 있어서,상기 제1 단계에서 상기 우레아(CO(NH2)2)는 염소(Cl2)와 반응하여 1,1,3,3-테트라클로로우레아(CO(NCl2)2)가 형성되고, 상기 제2 단계에서 상기 1,1,3,3-테트라클로로우레아(CO(NCl2)2)는 이산화탄소(CO2) 및 무기 이온으로 분해되는 수 처리 방법
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제7항에 있어서,상기 제1 단계와 상기 제2 단계 사이에, 상기 제1 용액을 30분 내지 120분간 반응시키는 제1 반응 단계; 및상기 제2 단계 이후, 상기 제2 용액을 120분 내지 150분간 반응시키는 제2 반응 단계를 더 포함하는 수 처리 방법
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제7항에 있어서,상기 제2 용액에 아황산염을 주입하여 제3 용액을 형성하는 제3 단계를 더 포함하는 수 처리 방법
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