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휘발성 유기 화합물(VOC) 함유 배기 가스를 저온 플라즈마와 반응시켜서, VOC-유래 중간체 함유 배기 가스를 생성하는 플라즈마 반응 단계; 및상기 VOC-유래 중간체 함유 배기 가스를 연소시켜서 이산화탄소와 물을 생성하는 연소 단계;를 포함하는, 배기 가스의 처리 방법
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청구항 1에 있어서,상기 저온 플라즈마는 온도가 15 내지 150 ℃인, 배기 가스의 처리 방법
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청구항 1에 있어서,상기 저온 플라즈마는 유전체 장벽 방전(Dielectric Barrier Discharge)에 의해 발생된 것인, 배기 가스의 처리 방법
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청구항 1에 있어서,상기 저온 플라즈마는 산화질소(NO), 질소(N2), 산소(O) 및 오존(O3)으로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상을 포함하는 플라즈마를 포함하는, 배기 가스의 처리 방법
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청구항 1에 있어서,상기 연소 단계에서는 상기 VOC-유래 중간체 함유 배기 가스를 600 내지 790 ℃에서 연소시키는, 배기 가스의 처리 방법
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청구항 1에 있어서,상기 연소 단계는 상기 플라즈마 반응 단계가 종료된 후에 상기 플라즈마 반응 단계가 수행되는 유닛과는 다른 별도의 유닛에서 독립적으로 수행되는 것인, 배기 가스의 처리 방법
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청구항 6에 있어서,상기 연소 단계는 축열식 연소기(Regenerative Thermal Oxidizer)를 이용하여 수행되는, 배기 가스의 처리 방법
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청구항 1에 있어서,플라즈마 반응 단계 이전에,휘발성 유기 화합물(VOC) 함유 배기 가스를 15 내지 150 ℃로 예열하는 단계를 추가로 포함하는, 배기 가스의 처리 방법
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저온 플라즈마와, 휘발성 유기 화합물(VOC) 함유 배기 가스를 반응시켜서, VOC-유래 중간체 함유 배기 가스를 생성하는 플라즈마 반응부; 및상기 VOC-유래 중간체 함유 배기 가스를 연소시켜서 이산화탄소와 물을 생성하는 연소 반응부;를 포함하는, 배기 가스의 처리 장치
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청구항 9에 있어서,유전체 장벽 방전(Dielectric Barrier Discharge)에 의해 저온 플라즈마를 생성하는 저온 플라즈마 발생기를 더 포함하는, 배기 가스의 처리 장치
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청구항 9에 있어서,상기 연소 반응부는 상기 플라즈마 반응부와 독립되어 배치된 것인, 배기 가스의 처리 장치
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청구항 9에 있어서,상기 연소 반응부는 축열식 연소기(Regenerative Thermal Oxidizer)인 것인, 배기 가스의 처리 장치
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청구항 9에 있어서,상기 휘발성 유기 화합물 함유 배기 가스를 예열하는 예열기를 추가로 포함하는, 배기 가스의 처리 장치
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