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티타늄 기판을 양극산화하여 이산화티타늄 층을 형성하는 단계(제1 단계);상기 이산화티타늄 층이 형성된 티타늄 기판을 전해액에 담지하고 고전압을 인가하여 산화티타늄 층에 도펀트를 주입하는 단계(제2 단계);를 포함하고,상기 제2 단계는 10~300 V의 전압을 5 내지 15초 동안 인가하여 도펀트를 주입하고,상기 전해액은 0
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제 1 항에 있어서,상기 제1 단계는 수계 용매 또는 극성 유기용매를 포함하는 혼합용액에 티타늄 기판을 담지하여 5 내지 50 V의 전압을 2 내지 4시간 동안 인가하여 양극산화를 수행하는 것을 특징으로 하는 PN접합 이산화티타늄의 제조방법
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제 2 항에 있어서,상기 제1 단계는 수계 용매를 사용하는 경우, 0
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제 2 항에 있어서,상기 제1 단계는 극성 유기용매를 사용하는 경우, 0
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제 1 항에 있어서,상기 제1 단계에서 제조된 산화티타늄 층은 길이가 800 nm 내지 1
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제 1 항에 있어서,상기 제2 단계를 통해 제조된 산화티타늄 층은 전체 두께의 20% 내지 50%가 도펀트가 주입되어 p형 이산화티타늄이 형성된 것을 특징으로 하는 PN접합 이산화티타늄의 제조방법
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제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 따른 PN접합 이산화티타늄의 제조방법으로 제조된 PN접합 이산화티타늄
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