| 1 |
1
가스, 대기, 공기 등의 모니터링에 사용되는 시험용 가스 센서에 의해 측정되는 가스를 수용하는 가스 챔버부;상기 가스 챔버부의 일측에 연통되게 연결되고, 설정 농도의 표준 가스 또는 상기 표준 가스를 함유하지 않는 배경 가스 중 적어도 하나를 선택적으로 공급하는 가스 공급부;상기 가스 챔버부의 타측에 연통되게 연결되고, 상기 가스 챔버부에 수용된 가스를 외부로 배출하는 가스 배출부; 및상기 가스 챔버부에 설치된 상기 시험용 가스 센서의 측정 결과를 분석하여 상기 시험용 가스 센서의 성능을 검정 및 교정하는 센서 교정부;를 포함하는 시험용 가스 센서의 교정 장치
|
| 2 |
2
제1항에 있어서,상기 센서 교정부는, 상기 가스 챔버부의 가스 농도가 미리 설정된 제1 농도에 도달되면 상기 시험용 가스 센서의 제1 측정값을 획득하고,상기 가스 공급부에 의해 상기 가스 챔버부의 가스 농도가 상기 제1 농도보다 증가 또는 감소되면 상기 시험용 가스 센서의 측정값을 미리 설정된 측정 간격에 따라 획득하는 것을 특징으로 하는 시험용 가스 센서의 교정 장치
|
| 3 |
3
제2항에 있어서,상기 측정 간격은, 상기 가스 챔버부의 가스 농도가 이전의 측정 시점보다 1/2의 비율로 증가 또는 감소시키는 반감기마다 상기 시험용 가스 센서의 측정값을 획득하도록 설정되는 것을 특징으로 하는 시험용 가스 센서의 교정 장치
|
| 4 |
4
제3항에 있어서,상기 가스 공급부는,상기 표준 가스를 상기 가스 챔버부에 공급하는 농도 증가 모드를 통해 상기 가스 챔버부의 가스 농도를 상기 제1 농도보다 높은 고농도로 형성하고, 상기 배경 가스를 상기 가스 챔버부에 공급하는 농도 감소 모드를 통해 상기 가스 챔버부의 가스 농도를 상기 제1 농도보다 낮은 저농도로 형성하는 것을 특징으로 하는 시험용 가스 센서의 교정 장치
|
| 5 |
5
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,상기 가스 챔버부는, 상기 시험용 가스 센서에 의해 측정되는 가스를 수용하는 가스 챔버;상기 가스 챔버의 일 부위에 관통되게 형성되고, 상기 가스 공급부에서 공급되는 상기 표준 가스가 유입되는 표준가스 유입구;상기 가스 챔버의 다른 부위에 관통되게 형성되고, 상기 가스 공급부에서 공급되는 상기 배경 가스가 유입되는 배경가스 유입구;상기 가스 챔버의 또 다른 부위에 관통되게 형성되고, 상기 가스 챔버에서 배출되는 가스가 유출되는 가스 유출구; 및상기 시험용 가스 센서를 착탈 가능하게 설치하도록 상기 가스 챔버에 마련된 센서 설치 포트;를 포함하는 것을 특징으로 하는 시험용 가스 센서의 교정 장치
|
| 6 |
6
제5항에 있어서,상기 센서 설치 포트는,복수개의 상기 시험용 가스 센서를 동시에 검정하여 교정하도록 상기 가스 챔버의 복수 위치에 각각 형성된 것을 특징으로 하는 시험용 가스 센서의 교정 장치
|
| 7 |
7
제6항에 있어서,상기 센서 설치 포트들 중 어느 하나에는, 상기 시험용 가스 센서들의 검정 및 교정에 활용되기 위한 기준 측정값을 제공하는 기준 가스 센서가 설치되는 것을 특징으로 하는 시험용 가스 센서의 교정 장치
|
| 8 |
8
제5항에 있어서,상기 가스 공급부는,상기 표준 가스를 상기 표준가스 유입구로 공급하는 표준가스 챔버;상기 표준 가스의 공급을 조절하도록 상기 표준가스 챔버와 상기 표준가스 유입구를 연결하는 경로에 배치되는 표준가스 유량제어기;상기 배경 가스를 상기 배경가스 유입구로 공급하는 배경가스 챔버; 및상기 배경 가스의 공급을 조절하도록 상기 배경가스 챔버와 상기 배경가스 유입구를 연결하는 경로에 배치되는 배경가스 유량제어기;를 포함하는 것을 특징으로 하는 시험용 가스 센서의 교정 장치
|
| 9 |
9
제5항에 있어서,상기 가스 배출부는,상기 가스 유출구를 통한 가스의 배출을 조절하도록 상기 가스 유출구에서 외부로 연장된 경로에 배치되는 배출가스 유량제어기;를 포함하는 것을 특징으로 하는 시험용 가스 센서의 교정 장치
|
| 10 |
10
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,상기 가스 챔버부에 수용된 가스를 균일하게 혼합시키도록 상기 가스 챔버부의 내부에 마련된 가스 혼합부;를 더 포함하고,상기 가스 혼합부는 상기 가스 챔버부의 내부를 강제로 대류시키기 위한 교반 팬을 구비한 것을 특징으로 하는 시험용 가스 센서의 교정 장치
|
| 11 |
11
가스 공급부가 가스 챔버부에 배경 가스를 공급함과 아울러 가스 배출부가 상기 가스 챔버부의 가스를 배출함으로써 상기 가스 챔버부의 가스 농도를 상기 배경 가스의 농도로 설정하는 단계;상기 가스 공급부가 상기 가스 챔버부에 상기 배경 가스 대신에 표준 가스를 공급함과 아울러 상기 가스 배출부가 상기 가스 챔버부의 가스를 배출함으로써 상기 가스 챔버부의 가스 농도를 증가시키는 단계;상기 가스 챔버부의 가스 농도가 상기 표준 가스의 농도를 기준으로 1/2에 해당하는 제1 농도에 도달하면, 상기 가스 공급부와 상기 가스 배출부의 작동을 중단시킨 후 센서 교정부가 상기 가스 챔버부에 설치된 시험용 가스 센서의 측정값을 획득하는 단계; 및상기 가스 공급부가 상기 가스 챔버부에 상기 표준 가스 또는 상기 배경 가스를 공급함과 아울러 상기 가스 배출부가 상기 가스 챔버부의 가스를 배출함으로써 상기 가스 챔버부의 가스 농도를 증감시키는 단계;상기 센서 교정부가 미리 설정된 측정 간격에 따라 상기 시험용 가스 센서의 측정값을 획득하는 단계; 및 상기 센서 교정부가 상기 시험용 가스 센서의 측정 결과를 분석하여 상기 시험용 가스 센서의 성능을 검정 및 교정하는 단계;를 포함하는 시험용 가스 센서의 교정 방법
|
| 12 |
12
제11항에 있어서,상기 가스 챔버부의 가스 농도를 증감시키는 단계에서는, 상기 가스 공급부가 상기 표준 가스를 상기 가스 챔버부에 공급하는 농도 증가 모드를 통해 상기 가스 챔버부의 가스 농도를 상기 제1 농도보다 높은 고농도로 형성하고, 상기 배경 가스를 상기 가스 챔버부에 공급하는 농도 감소 모드를 통해 상기 가스 챔버부의 가스 농도를 상기 제1 농도보다 낮은 저농도로 형성하며,상기 시험용 가스 센서의 측정값을 획득하는 단계에서는, 상기 가스 챔버부의 가스 농도가 이전의 측정 시점보다 1/2의 비율로 증가 또는 감소시키는 반감기에 대응되는 상기 측정 간격에 따라 상기 시험용 가스 센서의 측정값을 획득하는 것을 특징으로 하는 시험용 가스 센서의 교정 방법
|
| 13 |
13
제12항에 있어서,상기 가스 챔버부의 가스 농도를 증감시키는 단계에서는, 상기 가스 공급부가 상기 가스 챔버부의 가스 농도를 선형적으로 증감시키거나, 상기 가스 공급부가 상기 가스 챔버부의 가스 농도를 상기 측정 간격에 따라 단계적으로 증감시키는 것을 특징으로 하는 시험용 가스 센서의 교정 방법
|
| 14 |
14
제11항에 있어서,상기 가스 챔버부의 가스 농도를 상기 배경 가스의 농도로 설정하는 단계 이전에 실시하고, 상기 가스 챔버부의 내부에 마련된 가스 혼합부를 작동시켜 상기 가스 챔버부의 가스를 균일하게 혼합시키는 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 시험용 가스 센서의 교정 방법
|
| 15 |
15
제11항에 있어서,상기 가스 챔버부의 가스 농도를 상기 배경 가스의 농도로 설정하는 단계 및 상기 가스 챔버부의 가스 농도를 증가시키는 단계의 사이에 실시하고, 상기 센서 교정부가 상기 시험용 가스 센서의 측정값을 획득하여 상기 시험용 가스 센서에 대한 저농도 구간의 측정 오차를 교정하는 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 시험용 가스 센서의 교정 방법
|
