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복수의 하부 전극을 구비하는 반사층;상기 반사층 상에 형성되고, 복수의 복굴절층을 구비하는 복굴절 물질 및 상기 복굴절 물질 상에 형성되는 편광 선택 소자을 포함하고, 상기 복굴절 물질은 상기 편광 선택 소자와의 인접면에 형성된 공통 전극을 구비하고, 상기 공통 전극과 상기 복수의 하부 전극 각각에 인가되는 전기적 신호에 대응하여 변경되는 상기 복수의 복굴절층의 분포에 기반하여 상기 편광 선택 소자를 통해 입사하는 광의 복소 진폭이 조절되는 것을 특징으로 하는반사형 복소수 공간 광 변조기
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제1항에 있어서,상기 편광 선택 소자는 기설정된 제1 편광에 대응되는 제1 광이 입사되면 상기 제1 광은 상기 복굴절 물질로 입사 시키고, 제2 편광에 대응되는 제2 광이 입사되면 상기 제2 광은 투과 시키는 것을 특징으로 하는 반사형 복소수 공간 광 변조기
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제2항에 있어서,상기 복굴절 물질은 상기 입사되는 제1 광이 상기 반사층을 통해 반사되고, 상기 반사된 제1 광에 대응되는 제3 광 및 제4 광이 상기 복굴절 물질로 입사되는 것을 특징으로 하는반사형 복소수 공간 광 변조기
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제3항에 있어서,상기 편광 선택 소자는 상기 입사되는 제3 광 및 제4 광 중 상기 제1 편광에 대응되는 상기 제3 광은 상기 제1 광의 입사 방향으로 출사 시키고, 상기 제4 광은 투과 시키는 것을 특징으로 하는반사형 복소수 공간 광 변조기
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제3항에 있어서,상기 복굴절 물질은 상기 복수의 복굴절층의 극각 분포와 방위각 분포가 비대칭적인 분포를 이루도록 배치되는 것을 특징으로 하는 반사형 복소수 공간 광 변조기
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제3항에 있어서,상기 복수의 복굴절층은 상기 복굴절 물질 내에서 비대칭적으로 분포되되, 상기 제1 광이 상기 반사층으로 인해 상기 복굴절 물질을 2회 통과함에 따라 대칭적으로 분포 되었을 때와 동일하게 상기 복소 진폭이 조절되는 것을 특징으로 하는 반사형 복소수 공간 광 변조기
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제1항에 있어서,상기 편광 선택 소자는 PBS (Polarizing beam spiltter)인 것을 특징으로 하는반사형 복소수 공간 광 변조기
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제1항에 있어서,상기 복수의 복굴절층은 단축 복굴절층인 것을 특징으로 하는 반사형 복소수 공간 광 변조기
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제1항에 있어서,상기 복수의 복굴절층은 액정(Liquid Crystal; LC) 물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 반사형 복소수 공간 광 변조기
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10
제1항에 있어서,상기 반사층은 반사면을 구비하는 거울 및 기판 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 반사형 복소수 공간 광 변조기
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