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아미노산 작용기가 개질된 폴리플루오르화비닐리덴(PVDF)을 포함하는, 멤브레인
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제1항에 있어서,멤브레인 표면에 아미노기(-NH2) 및 카복시기(-COOH)가 형성된, 멤브레인
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제1항에 있어서,상기 아미노산 작용기는 시스테인(cysteine), 세린(serine), 라이신(lysine) 중 1종 이상의 작용기를 포함하는, 멤브레인
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제1항에 있어서,상기 멤브레인은 중공사형(Hollow Fiber)인, 멤브레인
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제1항에 있어서,평균 기공 크기가 200 내지 300 nm인, 멤브레인
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제1항 내지 제5항 중 어느 한 항의 멤브레인을 포함하는, 필터
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7
제6항에 있어서,상기 멤브레인은 박테리아 제거용으로 포함된, 필터
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8
(S1) 폴리플루오르화비닐리덴(PVDF) 멤브레인에 라디칼을 형성하는 단계: 및(S2) 상기 라디칼이 형성된 멤브레인을 아미노산 작용기로 개질하는 단계:를 포함하는, 멤브레인의 제조방법
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9
제8항에 있어서,상기 폴리플루오르화비닐리덴(PVDF) 멤브레인은 중공사형(Hollow Fiber) 멤브레인을 사용하는 것인, 멤브레인의 제조방법
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10
제8항에 있어서,상기 S1 단계는 상기 폴리플루오르화비닐리덴(PVDF) 멤브레인을 과황산칼륨(potassium persulfate) 용액에 침지하여 상기 멤브레인에 라디칼을 형성하는 단계인, 멤브레인의 제조방법
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제8항에 있어서,상기 S2 단계는 상기 라디칼이 형성된 멤브레인을 아미노산 수용액에 침지하여 상기 멤브레인을 아미노산 작용기로 개질하는 단계인, 멤브레인의 제조방법
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제11항에 있어서,상기 아미노산 수용액의 농도는 0
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제8항에 있어서,상기 아미노산 작용기는 시스테인(cysteine), 세린(serine), 라이신(lysine) 중 1종 이상의 작용기를 포함하는, 멤브레인의 제조방법
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