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지지층; 및상기 지지층에 파릴렌 또는 파릴렌계 유도체로 증착 코팅되며,상기 지지층은 불소계 다공성 지지체인, 개질 다공성 지지체
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제 1항에 있어서,상기 파릴렌계 유도체는 극성기를 포함하는 파릴렌을 포함하는, 개질 다공성 지지체
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제 2항에 있어서,상기 불소계 다공성 지지체는 확장형 폴리테트라플루오로에틸렌(ePTFE)인 것을 포함하는 것인, 개질 다공성 지지체
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제 2항에 있어서,상기 극성기를 포함하는 파릴렌은 하기 화학식 1의 다이머로 제조되는 것인, 개질 다공성 지지체
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제 4항에 있어서,상기 화학식 1에서 R1, R2, R3 및 R4는 서로 독립적으로 수소, 아미노기, 카르복실기, 히드록시기, 포밀기 또는 아세틸기이며, R1, R2, R3 및 R4는 동시에 수소인 경우는 제외하는 것인 개질 다공성 지지체
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제 2항에 있어서,상기 박막 코팅의 두께는 20 ㎚ 내지 100㎚인 것인 개질 다공성 지지체
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제 1항 내지 6항에서 선택되는 어느 한 항의 강화복합막에 이오노머 용액을 함침하여 제조되며, 상기 이오노머 용액의 용매는 DMSO, NMP, DMF 및 DMAC에서 선택되는 어느 하나 이상인, 강화복합막
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제 7항에 있어서,상기 강화복합막은 이온전도도가 80℃, 상대습도가 20 내지 80%의 조건에서 1
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제 7항에 있어서,상기 강화복합막의 인장강도는 30 MPa 이상이며, 신율은 90% 이상인, 강화복합막
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제 7항에 있어서,상기 강화복합막을 포함하는 것인, 전자소재
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제 10항에 있어서,상기 전자소재는 연료전지, 흐름전지, 이차전지 및 슈퍼캐패시터에서 선택되는 어느 하나인 것인, 전자소재
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상기 지지층은 불소계 다공성 지지체에 극성기를 포함하는 파릴렌으로 박막 코팅하여 개질 다공성 지지체를 제조하는 단계;상기 개질 다공성 지지체에 이오노머 용액을 함침하여 강화복합막을 제조하는 단계를 포함하며,상기 불소계 다공성 지지체는 ePTFE인 것을 포함하는 것이며,상기 이오노머 용액의 용매는 DMSO, NMP, DMF 및 DMAC에서 선택되는 어느 하나 이상인, 강화복합막 제조방법
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제 12항에 있어서,상기 극성기를 포함하는 파릴렌은 하기 화학식 1의 다이머로 제조되는 것인, 강화복합막 제조방법
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제 12항에 있어서,상기 코팅 방식은 화학기상증착(chemical vapor deposition) 공정으로 코팅되는 것인, 강화복합막 제조방법
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제 14항에 있어서,상기 화학기상증착 조건은 불활성 캐리어 가스 10 내지 20 sccm, 고체 승화온도 100 내지 150 ℃, 내부 기압 0
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제 14항에 있어서,상기 박막 코팅의 두께는 10 ㎚ 내지 100㎚인 것인 강화복합막 제조방법
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