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폴리벤즈이미다졸을 포함하는 도프용액을 기재면에 코팅하여 캐스팅하는 단계;상기 캐스팅한 코팅층을 상전이 하여 분리막을 제조하는 단계; 및 상기 분리막을 금속산화염 수용액에 투입하여 가교하는 단계;를 포함하는 개질분리막 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 도프용액은 폴리벤즈이미다졸 및 용매를 포함하는 것인 개질분리막 제조방법
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제 2항에 있어서,상기 용매는 디메틸설폭사이드, 메틸피롤리돈, 디메틸아세트아미드 및 톨루엔에서 선택되는 하나 또는 둘 이상을 포함하는 것인 개질분리막 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 도프용액은 공용매가 1 내지 20 중량%를 더 포함하는 것인 개질분리막 제조방법
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제 4항에 있어서,상기 공용매는 테트라하이드로퓨란, 아세토니트릴, 디메틸포름아미드 및 아세톤에서 선택되는 하나 또는 둘 이상인 개질분리막 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 도프용액은 폴리벤즈이미다졸이 10 내지 80 중량%를 포함하는 것인 개질분리막 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 금속산화염 수용액은 금속산화염이 0
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제 1항에 있어서,상기 금속산화염 수용액은 과망간산리튬, 과망간산칼륨, 과망간산나트륨, 중크롬산칼륨, 무수크롬산칼륨, 과황산나트륨, 과황산칼륨 및 과황산암모늄에서 선택되는 하나 또는 둘 이상을 포함하는 것인 개질분리막 제조방법
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제 8항에 있어서,상기 금속산화염 수용액은 과망간산리튬, 과망간산칼륨 및 과망간산나트륨에서 선택되는 하나 또는 둘 이상을 포함하는 것인 개질분리막 제조방법
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제 1항에 있어서, 상기 가교하는 단계;는 반응시간이 1 내지 24 시간인 개질분리막 제조방법
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폴리벤즈이미다졸을 가교한 개질분리막으로서, 상기 개질분리막은 300 내지 1000 g/mol 분자량인 폴리프로필렌글리콜에 대한 선택도가 가교전 30 내지 70 % 대비, 가교 후 60 내지 99 % 것인 개질분리막
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제 11항에 있어서, 상기 개질분리막은 중량평균분자량이 300 내지 500 g/mol인 폴리프로필렌글리콜에 대한 선택도가 가교전 30 내지 40% 대비, 가교 후의 60 내지 80 % 것인 개질분리막
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제 11항에 있어서, 상기 개질분리막은 중량평균분자량이 500 내지 700 g/mol인 폴리프로필렌글리콜에 대한 선택도가 가교 전 40 내지 60 % 대비, 가교 후 80 내지 90 % 것인 개질분리막
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제 11항에 있어서, 상기 개질분리막은 중량평균분자량이 700 내지 900 g/mol인 폴리프로필렌글리콜에 대한 선택도가 가교전 60 내지 70 % 대비, 가교 후 90 내지 99 %인 개질분리막
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제 11항에 있어서,상기 개질분리막은 하기 식 1을 만족하는 것인 개질분리막:[식 1]M1/M0 003e# 0
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