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금속, 탄화 가능한 유기물, 열분해성 고분자 입자, 및 용매를 혼합하는 단계;상기 혼합물을 공기 중에서 제1 열처리하는 단계;H2/Ar 혼합 가스 하에서 제2 열처리하는 단계; 및공기 중에서 제3 열처리하는 단계를 포함하고,중공형 흑연질 탄소 나노 스피어(Hollow Graphitic Carbon Nanosphere, HGCNs) 및 셀렌화된 금속 입자를 제조하는 나노복합체의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 제1 열처리하는 단계는 100 ℃ 내지 200 ℃의 온도에서 수행되는 나노복합체의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 제2 열처리하는 단계는 5 % 내지 10 %의 H2/Ar 혼합 가스 하에서 2 ℃/분 내지 8 ℃/분의 가열 속도로 600 ℃ 내지 800 ℃에서 수행되는 나노복합체의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 제3 열처리하는 단계는 2 ℃/분 내지 8 ℃/분의 가열 속도로 200 ℃ 내지 400 ℃에서 수행되는 나노복합체의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 제1 열처리하는 단계, 제2 열처리하는 단계, 및 제3 열처리하는 단계는 연속적으로 이루어지는 나노복합체의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 제3 열처리하는 단계 이후, 셀렌화 공정 또는 황화 공정을 더 포함하는 나노복합체의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 탄화 가능한 유기물은 sucrose, dextrin, citric acid, ethylen glycol, poly ethylen glycol, PVP( Polyvinylpyrrolidone), PEDOT(Polyethylenedioxythiophene), PAN(Polyacrylonitrile), PAA(polyacrylic acid), PVA(polyvinylalcohol), PMMA(polymethyl methacrylate), PVDF( polyvinylidene fluoride), PVac(polyvinylacetate), PS(polystyrene), PVC(polyvinylchloride), PEI(polyetherimide), PBI(polybenzimidasol), PEO(polyethyleneoxide), PCL(poly e-caprolactone), PA-6(polyamide-6), PTT(polytrimethylenetetraphthalate), PDLA(poly D,L-lactic acid), polycarbonate, polydioxanone, polyglicolide 및 dextran으로 이루어진 군에서선택된 적어도 어느 하나를 포함하는 나노복합체의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 열분해성 고분자 입자는 폴리스티렌, 폴리비닐아세테이트, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리비닐피롤리돈, 폴리비닐알콜, 폴리카보네이트, 폴리에스테르, 폴리에테르이미드, 폴리에틸렌, 폴리에틸렌옥사이드, 폴리우레탄, 폴리비닐클로라이드로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 어느 하나를 포함하는 나노복합체의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 용매는 DMF(N, N-Dimethylformamide) water, ethanol, methanol, isopropanol, DCM(Dichloromethane), MC(methylene chloride), acetic acid, acetonitrile, DMA(N,N-dimethylacetamide), m-cresol, toluene, tetrahydrofuran, formic acid, pyridine, aceton, acetonitrile, chloroform, ethyl acetate 및 trifluoroethanol로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 어느 하나를 포함하는 나노복합체의 제조 방법
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