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상부를 통과하는 미세입자를 향해 자기장 영역이 일정하게 제공되는 자기장인 고정자기장을 발생시키는 고정자기장발생부; 및상기 고정자기장발생부의 상단에 형성되고, 자기장 영역이 가변되는 자기장인 조작자기장을 발생시켜 상기 미세입자에 제공하는 조작자기장발생부를 포함하고,상기 조작자기장발생부에서 생성된 조작자기장의 제어에 의하여, 상기 고정자기장발생부의 표면 상 위치한 자속밀도 국소 최대점이 이동하게 되는 것을 특징으로 하는 자기장 제어를 이용한 입자 이동 제어장치
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청구항 1에 있어서,상기 자속밀도 국소 최대점은, 상기 조작자기장의 영역 내에서 자속밀도가 가장 최대인 지점인 것을 특징으로 하는 자기장 제어를 이용한 입자 이동 제어장치
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청구항 1에 있어서,상기 조작자기장발생부는, 전자석으로 형성되는 조작자기장발생기를 적어도 하나 이상 포함하는 것을 특징으로 하는 자기장 제어를 이용한 입자 이동 제어장치
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청구항 3에 있어서,상기 조작자기장발생기는, 링 형상의 전도체를 적어도 하나 이상 구비하는 것을 특징으로 하는 자기장 제어를 이용한 입자 이동 제어장치
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청구항 4에 있어서,복수 개의 전도체 각각은 서로 상이한 직경을 구비하고, 상기 복수 개의 전도체는 동심원 배열되는 것을 특징으로 하는 자기장 제어를 이용한 입자 이동 제어장치
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청구항 3에 있어서,상기 조작자기장발생기는, 상기 고정자기장발생부의 상부면에 수평한 방향으로 복수 개 배치되는 것을 특징으로 하는 자기장 제어를 이용한 입자 이동 제어장치
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청구항 3에 있어서,상기 조작자기장발생기는, 상기 고정자기장발생부의 상부면에 수직한 방향으로 복수 개 배치되는 것을 특징으로 하는 자기장 제어를 이용한 입자 이동 제어장치
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청구항 1에 있어서,상기 고정자기장발생부는, 지속적으로 자기장을 발생시키는 고정자기장발생기를 적어도 하나 이상 포함하는 것을 특징으로 하는 자기장 제어를 이용한 입자 이동 제어장치
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청구항 8에 있어서,상기 고정자기장발생기는, 전자석 또는 영구자석을 포함하는 것을 특징으로 하는 자기장 제어를 이용한 입자 이동 제어장치
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10
청구항 8에 있어서,복수 개의 고정자기장발생기는 수직한 방향으로 배치되어 각각 결합하는 것을 특징으로 하는 자기장 제어를 이용한 입자 이동 제어장치
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청구항 1 내지 청구항 10 중 선택되는 어느 하나의 항에 의한 자기장 제어를 이용한 입자 이동 제어장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 미세입자 분리 시스템
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청구항 1의 자기장 제어를 이용한 입자 이동 제어장치를 이용한 입자 이동 제어방법에 있어서,상기 고정자기장발생부와 복수 개의 조작자기장발생부가 결합시켜 마련하는 제1단계;상기 복수 개의 조작자기장발생부 중 일부 조작자기장발생부에 인가되는 전기를 제어하여 하나의 위치에 자속밀도 국소 최대점을 형성시키는 제2단계;하나의 위치로 상기 미세입자가 이동하는 제3단계;상기 복수 개의 조작자기장발생부 중 나머지 조작자기장발생부에 인가되는 전기를 제어하여 상기 하나의 위치에 있는 자속밀도 국소 최대점을 다른 위치로 이동시키는 제4단계; 및상기 미세입자가 하나의 위치에서 다른 위치로 이동하는 제5단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 입자 이동 제어방법
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