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베이스 기판; 상기 베이스 기판 상에 소정의 배열을 가지며 배열되는 복수의 렌즈들을 포함하는 렌즈부; 및상기 렌즈들 중 적어도 하나의 상면에 평탄화층으로 형성되고, 상기 평탄화층의 구조에 따라 상기 렌즈를 관통한 광의 초점거리는 서로 다르게 가변되는 평탄화부를 포함하고, 상기 렌즈들 각각의 상면은 곡면으로 형성되며, 상기 평탄화층의 상면은 평면으로 형성되는 것을 특징으로 하는 마이크로 렌즈 어레이
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제1항에 있어서, 상기 렌즈들은, 모두 동일한 형상을 가지는 것을 특징으로 하는 마이크로 렌즈 어레이
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제1항에 있어서, 상기 렌즈들 중 상기 평탄화층이 형성되는 렌즈들 각각의 상면에는, 서로 다른 굴절률을 가지는 상기 평탄화층이 형성되는 것을 특징으로 하는 마이크로 렌즈 어레이
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제1항에 있어서, 상기 렌즈들 중 상기 평탄화층이 형성되는 렌즈들 각각의 상면에는, 상기 평탄화층이 복수의 층으로 중첩되어 서로 다른 굴절률을 나타내는 것을 특징으로 하는 마이크로 렌즈 어레이
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제1항에 있어서, 상기 렌즈들 중 상기 평탄화층이 형성되지 않은 렌즈는, 상기 평탄화층이 형성되는 렌즈와 서로 다른 굴절률을 가지는 것을 특징으로 하는 마이크로 렌즈 어레이
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제1항에 있어서, 상기 베이스 기판의 하부에 위치하는 발광부를 더 포함하며, 상기 발광부에서 발광된 서로 다른 파장을 가지는 광은, 상기 렌즈부 및 상기 평탄화부를 통과하여 동일한 초점거리를 가지도록 굴절되는 것을 특징으로 하는 마이크로 렌즈 어레이
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7
베이스 기판 상에 렌즈부를 형성하는 단계; 상기 렌즈부 상에 제1 평탄화층을 균일한 높이로 형성하는 단계; 상기 제1 평탄화층 상에 광투과부와 광차단부가 형성된 광마스크부를 위치시키며 노광 및 현상하는 단계; 상기 노광 및 현상에 따라 상기 제1 평탄화층은 상기 렌즈부의 적어도 하나의 제1 렌즈 상에만 잔류하는 단계; 상기 렌즈부 상에 제2 평탄화층을 균일한 높이로 형성하는 단계; 상기 제2 평탄화층 상에 광투과부와 광차단부가 형성된 광마스크부를 위치시키며 노광 및 현상하는 단계; 및상기 노광 및 현상에 따라 상기 제2 평탄화층은 상기 렌즈부의 적어도 하나의 제2 렌즈 상에만 잔류하는 단계를 포함하는 마이크로 렌즈 어레이의 제조방법
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8
제7항에 있어서, 상기 제2 평탄화층을 균일한 높이로 형성하는 단계에서, 상기 제2 평탄화층은, 상기 제1 평탄화층 및 상기 렌즈부 상에 균일한 높이로 형성되는 것을 특징으로 하는 마이크로 렌즈 어레이의 제조방법
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제8항에 있어서, 상기 제1 평탄화층 상에 광투과부와 광차단부가 형성된 광마스크부를 위치시키며 노광 및 현상하는 단계에서, 상기 광차단부는 상기 제1 렌즈의 상면에만 위치하고, 상기 제2 평탄화층 상에 광투과부와 광차단부가 형성된 광마스크부를 위치시키며 노광 및 현상하는 단계에서, 상기 광차단부는 상기 제2 렌즈의 상면에만 위치하는 것을 특징으로 하는 마이크로 렌즈 어레이의 제조방법
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10
제7항에 있어서, 상기 제2 평탄화층을 균일한 높이로 형성하는 단계에서, 상기 제2 평탄화층은, 상기 제1 평탄화층이 형성되지 않은 렌즈부 상에 상기 제1 평탄화층과 균일한 높이로 형성되는 것을 특징으로 하는 마이크로 렌즈 어레이의 제조방법
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제10항에 있어서, 상기 제1 평탄화층 상에 광투과부와 광차단부가 형성된 광마스크부를 위치시키며 노광 및 현상하는 단계에서, 상기 광차단부는 상기 제1 렌즈의 상면에만 위치하고, 상기 제2 평탄화층 상에 광투과부와 광차단부가 형성된 광마스크부를 위치시키며 노광 및 현상하는 단계에서, 상기 광차단부는 상기 제1 평탄화층 및 상기 제2 렌즈의 상면에 위치하는 것을 특징으로 하는 마이크로 렌즈 어레이의 제조방법
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베이스 기판 상에 렌즈부를 형성하는 단계; 상기 렌즈부 상에 제1 평탄화층을 균일한 높이로 형성하는 단계; 상기 제1 평탄화층 상에 광투과부와 광차단부가 형성된 광마스크부를 위치시키며 노광 및 현상하는 단계; 상기 노광 및 현상에 따라 상기 제1 평탄화층은 상기 렌즈부의 제1 렌즈들 상에만 잔류하는 단계; 상기 제1 평탄화층 및 상기 렌즈부 상에 제2 평탄화층을 균일한 높이로 형성하는 단계; 상기 제2 평탄화층 상에 광투과부와 광차단부가 형성된 광마스크부를 위치시키며 노광 및 현상하는 단계; 및상기 노광 및 현상에 따라 상기 제2 평탄화층은 상기 제1 렌즈들 중 일부와 상기 렌즈부의 제2 렌즈들 상에 잔류하는 단계를 포함하는 마이크로 렌즈 어레이의 제조방법
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제12항에 있어서, 상기 제1 평탄화층, 상기 제2 평탄화층 및 상기 렌즈부 상에 제3 평탄화층을 균일한 높이로 형성하는 단계; 상기 제3 평탄화층 상에 광투과부와 광차단부가 형성된 광마스크부를 위치시키며 노광 및 현상하는 단계; 및상기 노광 및 현상에 따라 상기 제3 평탄화층은 상기 제1 렌즈들 중 일부, 상기 제2 렌즈들 중 일부, 및 상기 렌즈부의 제3 렌즈들 상에 잔류하는 단계를 더 포함하는 마이크로 렌즈 어레이의 제조방법
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