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인광 물질 코팅을 이용하여 온도장 및 변형장을 동시 획득하는 시스템에 있어서,측정대상물질(S)에 기설정된 물질을 마스크 기반 패턴 또는 겹침 기반 패턴을 포함하는 패턴으로 코팅하는 코팅부(30);상기 측정대상물질(S)에 광을 조사하는 광원부(10);상기 광원부(10)으로부터 광 조사된 상기 측정대상물질(S)의 인광 이미지를 획득하는 촬영부(20);상기 획득된 인광 이미지를 이용하여 온도장을 연산하는 온도장 연산부(40);및상기 획득된 인광 이미지를 이용하여 변형장을 연산하는 변형장 연산부(50);를 포함하는,시스템
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제1항에 있어서,상기 온도장 연산부(40)는 상기 측정대상물질(S)의 상기 인광 이미지에서 인광 물질이 코팅된 주변 영역과 인광 물질이 코팅되지 않은 마스킹 영역을 판단하고, 상기 마스킹 영역을 상기 주변 영역의 인광 신호를 이용하여 보간하는,시스템
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제1항 또는 제2항에 있어서,상기 온도장 연산부(40)는 상기 인광 이미지에서 인광 신호의 수명주기(lifetime)을 판단하여 측정대상물질(S)의 온도장을 획득하고,상기 변형장 연산부(50)는 상기 인광 이미지에서 디지털 이미지 상관기법(DIC, Digital image correlation)를 이용하여 측정대상물질(S)의 변형장을 획득하는,시스템
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제1항에 있어서,상기 코팅부(30)는 측정대상물질(S)에 마스크 영역을 지정하는 마스크를 이용하여 마스크 기반 패턴을 가지도록 코팅하는,시스템
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제1항에 있어서,상기 코팅부(30)는 미리 인광 물질로 코팅된 측정대상물질(S)에 기설정된 물질을 겹쳐지도록 패턴 코팅하고,상기 기설정된 물질은 비인광물질인염료를 포함하는,시스템
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제1항에 따른 시스템을 이용하여, 온도장 및 변형장을 획득하는 방법으로서,(a) 상기 코팅부(30)가 측정대상물질(S)에 기설정된 물질을 이용하여, 기설정된 패턴으로 코팅하는 단계;(b) 열원(H)이 상기 측정대상물질(S)을 기설정된 온도로 가열하는 단계;(c) 상기 촬영부(20)가 상기 측정대상물질(S)로부터 기설정된 간격마다 촬영된 다수의 인광 이미지를 획득하는 단계;(d) 상기 온도장 연산부(40)가 상기 인광 이미지에서 상기 측정대상물질(S)에 코팅된 인광 물질의 시간에 따른 수명주기를 판단하고, 해당 수명주기를 이용하여 미리 획득된 보정 곡선을 이용하여 온도장을 획득하는 단계; 및(e) 상기 변형장 연산부(50)가 상기 인광 이미지를 이용하여, 변형장을 획득하는 단계; 를 포함하는,방법
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제6항에 있어서,상기 (d)단계는,(d1) 상기 온도장 연산부(40)가 상기 다수의 인광 이미지 중 완전 여기 상태로서 소광 이전의 기준 이미지를 확인하는 단계; (d2) 상기 온도장 연산부(40)는 상기 기준 이미지 중 마스킹 영역과 해당 마스킹 영역을 제외한 주변 영역을 판단하는 단계;(d3) 상기 온도장 연산부(40)는 상기 마스킹 영역이 상기 주변 영역에 대해 기설정된 값 미만의인광 신호를 갖는지 판단하는 단계;(d4) 상기 온도장 연산부(40)는 상기 마스킹 영역이 상기 주변 영역에 비해 기설정된 값 미만의 인광 신호를 갖는 경우, 상기 주변 영역의 인광 신호를 이용하여 상기 마스킹 영역을 보간하는 단계; 및(d5) 상기 온도장 연산부(40)는 상기 다수의 이미지의 인광 신호를 수명주기로 연산하여 미리 획득된 보정곡선을 통해 온도로 변환하고, 온도장을 획득하는 단계;를 포함하는,방법
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제6항에 있어서,상기 (e)단계는,(e1) 상기 변형장 연산부(50)가 상기 기설정된 온도에서 획득된 다수의 인광이미지 중, 완전 여기 상태에서 변형 후 이미지를 추출하는 단계; 및(e2) 상기 변형장 연산부(50)가 변형 전 이미지와 상기 변형 후 이미지를 이용하여, 기설정된 방법으로 변형장을 획득하는 단계;를 포함하고,상기 기설정된 방법은 디지털 이미지 상관 기법(DIC)이고, 상기 변형장 연산부(50)는 상기 변형 전 이미지 대비 상기 변형 후 이미지의 이동량과 변형률을 연산하고,상기 변형 전 이미지는 상기 측정대상물질(S)의 가열하기 전 또는 기준 시점으로부터 획득된 인광 이미지인,방법
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