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금속 적층 제조품의 처리방법으로서,(a) 직접 조사 방식(DED, Directed Energy Deposition) 또는 분말 소결 방식(PBF, Powder Bed Fusion)에 의해 층을 제조하는 단계(S1);(b) 상기 층의 표면에 초음파 나노 결정 표면 개질(UNSM, Ultrasonic Nano crystal Surface Modification)을 수행하는 단계(S2); 및 (c) 상기 초음파 나노 결정 표면 개질이 수행된 층의 표면에 직접 조사 방식 또는 분말 소결 방식에 의해 층을 더 제조하고, 상기 더 제조된 층의 표면에 초음파 나노 결정 표면 개질을 수행하는 단계(S3);를 포함하는,방법
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제 1 항에 있어서,상기 (c) 단계는 미리 정해진 횟수만큼 반복 수행되는, 방법
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금속 적층 제조품의 처리방법으로서, (a) 직접 조사 방식 또는 분말 소결 방식에 의해 층을 제조하는 단계(S10); (b) 상기 층의 표면에 버니싱(Burnishing)을 수행하는 단계(S20); 및(c) 상기 버니싱이 수행된 층의 표면에 직접 조사 방식 또는 분말 소결 방식에 의해 층을 더 제조하고, 상기 더 제조된 층의 표면에 버니싱을 수행하는 단계(S30);를 포함하는,방법
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제 3 항에 있어서,상기 (c) 단계는 미리 정해진 횟수만큼 반복 수행되는, 방법
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금속 적층 제조품의 처리방법으로서, (a) 직접 조사 방식 또는 분말 소결 방식에 의해 층을 제조하는 단계(S100); (b) 상기 층의 표면에 버니싱을 수행하는 단계(S200); 및(c) 상기 버니싱이 수행된 층의 표면에 초음파 나노 결정 표면 개질을 수행하는 단계(S300);를 포함하는, 방법
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제 5 항에 있어서,상기 (c) 단계 이후에,(d) 상기 초음파 나노 결정 표면 개질이 수행된 층의 표면에 직접 조사 방식 또는 분말 소결 방식에 의해 층을 더 제조하고, 상기 더 제조된 층의 표면에 버니싱을 수행하며, 상기 더 제조된 층의 버니싱이 수행된 표면에 초음파 나노 결정 표면 개질을 수행하는 단계(S400);를 더 포함하고,상기 (d) 단계는 미리 정해진 횟수만큼 반복 수행되는,방법
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