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염소 도입용 화합물과 금속 전구체를 이용하여, 표면에 염소가 도입된 금속 나노 입자를 제조하는 단계;를 포함하는 이산화탄소 환원용 촉매의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 염소 도입용 화합물은 암모늄 클로라이드계 화합물을 포함하는 것인 이산화탄소 환원용 촉매의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 염소 도입용 화합물은 폴리디알릴디메틸 암모늄 클로라이드, 디알릴디메틸 암모늄 클로라이드, 세틸트리메틸 암모늄 클로라이드, 폴리아크릴아미드-co-디알릴디메틸 암모늄 클로라이드, 및 폴리디알릴디메틸 암모늄 클로라이드-co-술폰 중 적어도 하나를 포함하는 것인 이산화탄소 환원용 촉매의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 염소 도입용 화합물의 중량평균분자량은 200,000 g/mol 이상 600,000 g/mol 이하인 것인 이산화탄소 환원용 촉매의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 금속 전구체는 금, 은 및 아연 중 적어도 하나를 포함하는 것인 이산화탄소 환원용 촉매의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 표면에 염소가 도입된 금속 나노 입자를 제조하는 단계는,상기 염소 도입용 화합물, 산 수용액 및 폴리올을 혼합하여 제1 혼합 용액을 제조하는 단계;상기 제1 혼합 용액에 상기 금속 전구체를 첨가하여 제2 혼합 용액을 제조하는 단계; 및상기 제2 혼합 용액을 열처리하여, 표면에 염소가 도입된 상기 금속 나노 입자를 제조하는 단계;를 포함하는 이산화탄소 환원용 촉매의 제조방법
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제6항에 있어서,상기 산 수용액은 인산, 염산, 질산 및 황산 중 적어도 하나를 포함하는 것인 이산화탄소 환원용 촉매의 제조방법
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제6항에 있어서,상기 폴리올은 에틸렌 글리콜, 트라이에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜 및 폴리프로필렌 글리콜 중 적어도 하나를 포함하는 것인 이산화탄소 환원용 촉매의 제조방법
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제6항에 있어서,상기 제1 혼합 용액은,상기 염소 도입용 화합물과 상기 폴리올의 중량비가 1:20 내지 1:120인 것인 이산화탄소 환원용 촉매의 제조방법
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제6항에 있어서,상기 제2 혼합 용액은,상기 염소 도입용 화합물과 상기 금속 전구체의 몰비가 1:10 내지 1:40인 것인 이산화탄소 환원용 촉매의 제조방법
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제6항에 있어서,상기 열처리는 180 ℃ 이상 250 ℃ 이하의 온도에서 20 분 이상 60 분 이하의 시간 동안 수행되는 것인 이산화탄소 환원용 촉매의 제조방법
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제6항에 있어서,상기 금속 나노 입자를 추가의 금속 전구체와 혼합하여 화학적 에칭을 수행하는 단계;를 더 포함하는 것인 이산화탄소 환원용 촉매의 제조방법
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제12항에 있어서,상기 추가의 금속 전구체의 농도는 0
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제1항에 있어서,상기 표면에 염소가 도입된 금속 나노 입자를 제조하는 단계는,금속 전구체 분말을 상기 염소 도입용 화합물을 포함하는 용액에서 20 ℃ 이상 40 ℃ 이하의 온도로 반응시켜, 표면에 염소가 도입된 상기 금속 나노 입자를 제조하는 단계;를 포함하는 이산화탄소 환원용 촉매의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 금속 나노 입자는 다면체 또는 구형인 것인 이산화탄소 환원용 촉매의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 금속 나노 입자의 크기는 30 nm 이상 300 nm 이하인 것인 이산화탄소 환원용 촉매의 제조방법
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금속 나노 입자; 및상기 금속 나노 입자의 표면에 구비되며 암모늄 클로라이드계 화합물을 포함하는 캡핑층을 포함하는 이산화탄소 환원용 촉매
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