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제1 기판 상에 에피택셜층을 형성하는 단계; 투명 웨이퍼 상에 광학 필터 어레이를 형성하는 단계;상기 에피택셜층과 상기 광학 필터 어레이를 접합하는 단계;상기 제1 기판과 상기 에피택셜층을 분리하는 단계;상기 광학 필터 어레이에 대응되도록 상기 에피택셜층을 패터닝하여 활성층 어레이를 구성하는 단계; 및상기 활성층 어레이와 판독집적회로를 전기적으로 연결하는 단계를 포함하는, 적외선 어레이 이미지 센서의 제조 방법
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제1 항에 있어서, 상기 에피택셜층은 III/V 족 화합물 반도체 물질로 구성되고, 상기 제1 기판은 상기 III/V 족 화합물 반도체 물질을 포함하며,상기 투명 웨이퍼는 적외선을 투과하는 실리콘 웨이퍼 또는 사파이어 웨이퍼인,적외선 어레이 이미지 센서의 제조 방법
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제1 항에 있어서, 상기 에피택셜층과 상기 광학 필터 어레이를 접합하는 단계는, 상기 에피택셜층과 상기 광학 필터 어레이가 서로 마주보도록 상기 투명 웨이퍼 상에 상기 제1 기판을 배치하는 단계;상기 에피택셜층과 상기 광학 필터 어레이 사이에 투명 접착층을 개재하는 단계; 및상기 제1 기판 및 상기 투명 웨이퍼 중 적어도 하나를 이동하여 상기 투명 접착층을 통해 상기 에피택셜층과 상기 광학 필터 어레이를 접합하는 단계를 포함하는적외선 어레이 이미지 센서의 제조 방법
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제1 항에 있어서, 상기 광학 필터 어레이는 복수의 광학 필터를 포함하며, 상기 활성층 어레이는 상기 복수의 광학 필터 각각에 대응하는 복수의 활성층을 포함하고, 상기 복수의 광학 필터 각각은 대응되는 활성층에 서로 상이한 광학 특성을 가진 광이 전달되도록 구성되는,적외선 어레이 이미지 센서의 제조 방법
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제4 항에 있어서, 상기 광학 필터 어레이에 대응되도록 상기 에피택셜층을 패터닝하여 활성층 어레이를 구성하는 단계는, 상기 복수의 광학 필터를 기준으로 상기 복수의 활성층을 패터닝하는 것을 포함하는, 적외선 어레이 이미지 센서의 제조 방법
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제1 항에 있어서, 상기 활성층 어레이와 판독집적회로를 전기적으로 연결하는 단계는,상기 활성층 어레이와 접촉하는 제1 전극을 형성하는 단계;상기 제1 전극에 범프를 형성하는 단계; 및 상기 범프를 제2 전극을 통해 판독집적회로와 연결하는 단계를 포함하는적외선 어레이 이미지 센서의 제조 방법
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복수의 활성층을 포함하는 활성층 어레이;상기 활성층 어레이와 전기적으로 연결된 판독집적회로;상기 복수의 활성층과 대응되는 복수의 광학 필터를 포함하는 광학 필터 어레이;상기 활성층 어레이와 상기 광학 필터 어레이 사이에 배치되어 상기 활성층 어레이와 상기 광학 필터 어레이를 연결하는 투명 접착층; 상기 광학 필터 어레이 상에 배치된 투명 웨이퍼;상기 활성층 어레이 하부에 배치된 제1 전극;상기 제1 전극과 전기적으로 연결된 범프; 및상기 판독집적회로와 상기 범프를 전기적으로 연결하는 제2 전극을 포함하는, 적외선 어레이 이미지 센서
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제7 항에 있어서, 상기 복수의 활성층은 III/V 족 화합물 반도체 물질로 구성되고, 상기 투명 웨이퍼는 적외선 광이 투과되는 실리콘 웨이퍼 또는 사파이어 웨이퍼인적외선 어레이 이미지 센서
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제7 항에 있어서, 상기 투명 웨이퍼는 상기 광학 필터 어레이 상에 바로 배치되는 적외선 어레이 이미지 센서
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