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광학소자의 형상오차를 분석하는 방법에 있어서,(a) 컴퓨터 프로그램에 의해 구현되며, 상기 광학소자의 PV(Peak-to-Valley) 형상오차와 RMS(Root Mean Square) 형상오차의 조합(m)의 개수(M), 상기 PV 형상오차 CPVm, 상기 RMS 형상오차 CRMSm, 프린지 제르니케(ZFR) 다항식의 ZFR 계수(프린지 제르니케 계수) 세트 개수(N), 광학성능 분석 횟수(L), 요구하는 광학성능(Orequired), 요구하는 광학성능 만족 확률(Prequired)이 상기 프로그램에 입력되는 단계;(b) 상기 PV 형상오차 CPVm을 입력으로 하여, ±CPVm 범위에서 난수를 발생시키고, 상기 ZFR 계수의 초기값을 생성하는 단계;(c) 상기 ZFR 계수를 변수로 하여 상기 ZFR 계수의 최적해를 생성하는 단계;(d) 상기 ZFR 계수의 최적해를 생성하는 단계에 의해 최적화된 ZFR 계수 C1m,n, C2m,n, C3m,n,
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청구항 1에 있어서,상기 ZFR 계수의 최적해를 생성하는 단계는,하기와 같은 상기 프린지 제르니케 다항식 W(R,θ)(수학식 1), W(R,θ)의 PV값인 CPV′을 구하는 방정식(수학식 2), W(R,θ) rms값인 CRMS'을 구하는 방정식(수학식 3), 상기 CPV'와 상기 CPV가 같은 값을 가지는 방정식(수학식 4), 상기 CRMS'와 상기 CRMS가 같은 값을 가지는 방정식(수학식 5)을 모두 만족하는 최적화된 상기 ZFR 계수의 최적해를 생성하는 것을 특징으로 하는,광학소자 형상오차 분석방법
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청구항 2에 있어서,상기 ZFR 계수의 최적해를 생성하는 단계에 의해 생성된 상기 ZFR 계수의 최적해의 유효성을 판단하는 단계를 더 포함하는,광학소자 형상오차 분석방법
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청구항 1에 있어서,상기 ZFR 계수 적용 단계는,적용할 형상오차 조합 m을 선정하는 단계;상기 형상오차 조합 m에 대한 N개의 상기 ZFR 계수 세트 중에서 임의의 세트를 선정하는 단계;선정된 상기 ZFR 계수 세트를 상기 광학면(s)의 간섭무늬 데이터에 적용하는 단계;상기 간섭무늬 데이터에 적용하는 단계를 상기 광학면 s=1에서 s=S(광학면의 총 개수)가 될 때까지 반복 수행하여 광학성능을 분석하는 단계를 포함하는,광학소자 형상오차 분석방법
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청구항 4에 있어서,상기 형상오차 분석 단계에 의해 계산된 상기 확률 P가 상기 요구하는 광학성능 만족 확률(Prequired)을 만족하지 않는 경우, 상기 입력하는 단계의 상기 PV 형상오차 CPVm, 상기 RMS 형상오차 CRMSm을 수정 입력하는 것을 특징으로 하는,광학소자 형상오차 분석방법
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청구항 2에 있어서,상기 ZFR 계수의 최적해를 생성하는 단계는 상기 ZFR 계수 C1, C2, 내지 C13을 모두 변수로 설정하거나, 상기 ZFR 계수 C1, C2, 내지 C13 중 일부항만 변수로 설정하는 것을 특징으로 하는,광학소자 형상오차 분석방법
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