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이차전지용 다공성 전극 기재의 코팅장치 및 이를 이용한 건식 코팅방법

  • 기술번호 : KST2023005247
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명의 일실시예는 기공이 형성된 다공성 금속 박막과, 상기 다공성 금속 박막의 일면에 전극을 코팅하기 위해, 상기 다공성 금속 박막의 일면에 도포된 슬러리를 코팅하는 코팅 부재와, 표면에 기체 공급 홀이 형성되며, 상기 다공성 금속 박막의 하부에 위치하고, 상기 다공성 금속 박막의 일면에 도포되는 슬러리가 상기 다공성 금속 박막 상에 형성된 기공을 통해 하부로 흘러내려오는 현상을 방지하기 위하여, 상기 기체 공급 홀을 통해 상기 다공성 금속 박막의 하부로 기체를 공급하는 하부 롤을 포함하는 이차전지용 다공성 전극 기재의 코팅장치를 제공한다.
Int. CL H01M 4/04 (2006.01.01) H01M 4/80 (2006.01.01) H01M 4/66 (2006.01.01) B05C 1/08 (2006.01.01) B05C 5/02 (2006.01.01)
CPC H01M 4/0404(2013.01) H01M 4/0409(2013.01) H01M 4/80(2013.01) H01M 4/661(2013.01) B05C 1/0808(2013.01) B05C 5/0254(2013.01)
출원번호/일자 1020220123343 (2022.09.28)
출원인 한국에너지기술연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2023-0080300 (2023.06.07) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보 대한민국  |   1020210167216   |   2021.11.29
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 국내출원/신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2022.09.28)
심사청구항수 12

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국에너지기술연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 최신호 울산광역시 남구
2 김태희 울산광역시 남구
3 정규남 대전광역시 서구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인지담 대한민국 경기도 성남시 분당구 대왕판교로***, A동 ***호(삼평동, 유스페이스*)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2022.09.28 수리 (Accepted) 1-1-2022-1022759-15
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번호 청구항
1 1
기공이 형성된 다공성 금속 박막과,상기 다공성 금속 박막의 일면에 전극을 코팅하기 위해, 상기 다공성 금속 박막의 일면에 도포된 슬러리를 코팅하는 코팅 부재와,표면에 기체 공급 홀이 형성되며, 상기 다공성 금속 박막의 하부에 위치하고, 상기 다공성 금속 박막의 일면에 도포되는 슬러리가 상기 다공성 금속 박막 상에 형성된 기공을 통해 하부로 흘러내려오는 현상을 방지하기 위하여, 상기 기체 공급 홀을 통해 상기 다공성 금속 박막의 하부로 기체를 공급하는 하부 롤을 포함하는 이차전지용 다공성 전극 기재의 코팅장치
2 2
제1항에 있어서,상기 하부 롤의 상기 기체 공급 홀은,동일한 크기의 원형의 형태로 형성되고, 소정의 간격 거리로 이격 배열되어 상기 하부 롤의 외주면에 따른 전면에 형성되는 것을 특징으로 하는 이차전지용 다공성 전극 기재의 코팅장치
3 3
제1항에 있어서,상기 하부 롤의 상기 기체 공급 홀은,소정의 홀 간격을 가지며 상기 하부 롤의 일단부터 타단까지 일직선 상으로 상기 다공성 금속 박막과 수평하는 방향으로 형성되는 것을 특징으로 하는 이차전지용 다공성 전극 기재의 코팅장치
4 4
제1항에 있어서,상기 하부 롤의 상기 기체 공급 홀은,소정의 홀 간격을 가지며 상기 하부 롤의 일단부터 타단까지 상기 다공성 금속 박막과 수평하는 방향으로 지그재그 형태로 형성되되, 상기 하부 롤의 외주면에 따른 전면에 소정의 간격 거리로 이격 형성되는 것을 특징으로 하는 이차전지용 다공성 전극 기재의 코팅장치
5 5
제1항에 있어서,상기 하부 롤의 상기 기체 공급 홀은,서로 다른 크기의 원형으로 마련되며, 상기 서로 다른 크기의 기체 공급 홀이 서로 교번 배열되어 상기 하부 롤의 외주면에 따른 전면에 소정의 간격 거리로 이격 형성되는 것을 특징으로 하는 이차전지용 다공성 전극 기재의 코팅장치
6 6
제1항에 있어서,상기 하부 롤의 상기 기체 공급 홀은,서로 다른 홀 간격을 가지는 복수의 기체 공급 홀 유형들로 마련되며, 상기 하부 롤의 일단부터 타단까지 일직선 상으로 상기 다공성 금속 박막과 수평하는 방향으로 형성되는 것을 특징으로 하는 이차전지용 다공성 전극 기재의 코팅장치
7 7
제1항에 있어서,상기 코팅 부재는,상기 다공성 금속 박막의 상부에 위치하여, 상기 하부 롤과 함께 축 회전함에 따라 상기 다공성 금속 박막을 가압하며 상기 다공성 금속 박막의 표면에 있는 슬러리를 도포하여 코팅하는 코팅 롤인 것을 특징으로 하는 이차전지용 다공성 전극 기재의 코팅장치
8 8
제1항에 있어서,상기 코팅 부재는,상기 다공성 금속 박막의 상부에 위치하여, 상기 다공성 금속 박막 위로 슬러리를 도포하여 코팅하는 코팅 슬롯 다이(slot-die)인 것을 특징으로 하는 이차전지용 다공성 전극 기재의 코팅장치
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제1항에 따른 이차전지용 다공성 전극 기재의 코팅장치를 이용한 건식 코팅방법에 있어서,상기 하부 롤이, 상기 다공성 금속 박막의 하부에 위치하여, 상기 다공성 금속 박막 측으로 압축공기 또는 불활성 기체를 공급하는 단계와,상기 코팅 부재가, 상기 다공성 금속 박막의 상부에 위치하여, 상기 다공성 금속 박막 측으로 슬러리를 도포하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 건식 코팅방법
10 10
제9항에 있어서,상기 하부 롤이 압축공기 또는 불활성 기체를 공급하는 단계는,100cc/min 내지 2000cc/min의 유량으로 상기 압축공기 또는 불활성 기체의 유량을 제어하여 공급하고,상기 코팅 부재는, 상기 압축공기 또는 불활성 기체의 유량이 상기 하부 롤에 의해 제어될 때, 상기 다공성 금속 박막에 슬러리를 도포하여 코팅하는 코팅 속도를 함께 제어하는 것을 특징으로 하는 건식 코팅방법
11 11
제9항에 있어서,상기 하부 롤이 압축공기 또는 불활성 기체를 공급하는 단계는,상기 압축공기 또는 불활성 기체의 온도를 섭씨 0℃ 내지 섭씨 150℃로 제어하여 공급하는 것을 특징으로 하는 건식 코팅방법
12 12
제9항에 있어서,상기 불활성 기체는 물(water), 에탄올, 및 노말메틸피롤리돈(NMP; N-Methyl-2-Pyrrolidone) 중 적어도 하나 용매를 포함한 기체인 것을 특징으로 하는 건식 코팅방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 과학기술정보통신부 한국에너지기술연구원 한국에너지기술연구원연구운영비지원(주요사업비) ESS 장주기 대응을 위한 저가 고안정성 수계 아연이온전지(ZIB) 기술