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무기 입자의 함량이 조절된 다층 구조의 유무기 하이브리드 고분자 전해질, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 전고체 전지

  • 기술번호 : KST2023005381
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 순차 적층된 제1 전해질층 내지 제N 전해질층을 포함하고, 상기 제1 전해질층 내지 제N 전해질층은 각각 고분자 매트릭스와 무기 입자를 포함하며, 상기 제1 전해질층에서 제N 전해질층으로 또는 제N 전해질층에서 제1 전해질층으로 갈수록 무기 입자의 함량이 증가하는, 무기 입자의 함량이 조절된 다층 구조의 유무기 하이브리드 고분자 전해질, 이의 제조방법 및 이를 포함하는 전고체 리튬이차전지에 관한 것이다.
Int. CL H01M 10/056 (2010.01.01) H01M 10/052 (2010.01.01) H01M 4/38 (2006.01.01)
CPC H01M 10/056(2013.01) H01M 10/052(2013.01) H01M 4/382(2013.01) H01M 2300/0094(2013.01) H01M 2300/0082(2013.01)
출원번호/일자 1020220017141 (2022.02.09)
출원인 한국화학연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2023-0120495 (2023.08.17) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 국내출원/신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2022.02.09)
심사청구항수 14

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국화학연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 우미혜 대전광역시 유성구
2 석정돈 대전광역시 유성구
3 김세희 대전광역시 유성구
4 문산 대전광역시 유성구
5 홍유진 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인(유한) 대아 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로 ***, 한양빌딩*층(역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2022.02.09 수리 (Accepted) 1-1-2022-0147323-42
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2022.10.14 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
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번호 청구항
1 1
순차 적층된 제1 전해질층 내지 제N 전해질층을 포함하고,상기 제1 전해질층 내지 제N 전해질층은 각각 고분자 매트릭스와 무기 입자를 포함하며,상기 제1 전해질층에서 제N 전해질층으로 또는 제N 전해질층에서 제1 전해질층으로 갈수록 무기 입자의 함량이 증가하는, 무기 입자의 함량이 조절된 다층 구조의 유무기 하이브리드 고분자 전해질
2 2
제1항에 있어서, 상기 무기 입자는 탄소계 물질인 것을 특징으로 하는, 무기 입자의 함량이 조절된 다층 구조의 유무기 하이브리드 고분자 전해질
3 3
제2항에 있어서, 상기 무기 입자는 탄소 질화물인 것을 특징으로 하는,무기 입자의 함량이 조절된 다층 구조의 유무기 하이브리드 고분자 전해질
4 4
제1항에 있어서, 상기 N은 2 내지 5인 것을 특징으로 하는,무기 입자의 함량이 조절된 다층 구조의 유무기 하이브리드 고분자 전해질
5 5
제1항에 있어서, 상기 제N 전해질층에서 제1 전해질층으로 갈수록 포함된 무기 입자의 함량이 증가하는 것을 특징으로 하는,무기 입자의 함량이 조절된 다층 구조의 유무기 하이브리드 고분자 전해질
6 6
제1항에 있어서, 상기 제N 전해질층과 제N-1 전해질층 사이에 무기 입자의 함량 차이는 3 중량% 내지 10 중량%인 것을 특징으로 하는,무기 입자의 함량이 조절된 다층 구조의 유무기 하이브리드 고분자 전해질
7 7
제1항에 있어서, 상기 유무기 하이브리드 고분자 전해질은 제1 전해질층 및 상기 제1 전해질층의 일면에 형성된 제2 전해질층으로 이루어져 있고,상기 제1 전해질층에 포함된 무기 입자의 함량은 제2 전해질층에 포함된 무기 입자의 함량보다 높은 것을 특징으로 하는,무기 입자의 함량이 조절된 다층 구조의 유무기 하이브리드 고분자 전해질
8 8
제7항에 있어서, 상기 제1 전해질층에 포함된 무기 입자의 함량은 상기 제1 전해질층에 포함된 고분자 매트릭스 전체 100 중량부에 대하여 5 중량부 내지 15 중량부이고,상기 제2 전해질층에 포함된 무기 입자의 함량은 상기 제2 전해질층에 포함된 고분자 매트릭스 전체 100 중량부에 대하여 1
9 9
제7항에 있어서,상기 제1 전해질층은 액체 전해질을 더 포함하는 것을 특징으로 하는,무기 입자의 함량이 조절된 다층 구조의 유무기 하이브리드 고분자 전해질
10 10
제1항에 있어서,상기 유무기 하이브리드 고분자 전해질의 총 두께는 100 ㎛ 내지 500 ㎛인 것을 특징으로 하는,무기 입자의 함량이 조절된 다층 구조의 유무기 하이브리드 고분자 전해질
11 11
제1 고분자 전해질 전구체 조성물 내지 제N 고분자 전해질 전구체 조성물을 경화시켜 제1 전해질층 내지 제N 전해질층이 순차 적층된 고분자 전해질을 제조하는 단계를 포함하고,상기 제1 고분자 전해질 전구체 조성물 내지 제N 고분자 전해질 전구체 조성물은 각각 고분자 매트릭스와 무기 입자를 포함하고, 상기 제1 고분자 전해질 전구체 조성물에서 제N 고분자 전해질 전구체 조성물로 또는 제N 고분자 전해질 전구체 조성물에서 제1 고분자 전해질 전구체 조성물로 갈수록 무기 입자의 함량이 증가하는,제1항에 따른 무기 입자의 함량이 조절된 다층 구조의 유무기 하이브리드 고분자 전해질의 제조방법
12 12
음극;양극; 및 상기 음극 및 양극 사이에 형성된 제1항에 따른 유무기 하이브리드 고분자 전해질을 포함하는,무기 입자의 함량이 조절된 다층 구조의 유무기 하이브리드 고분자 전해질을 포함하는 전고체 전지
13 13
제12항에 있어서,상기 제1 전해질층 내지 제N 전해질층 중에서 무기 입자의 함량이 높은 전해질층이 음극에 인접하도록 위치하는 것을 특징으로 하는,무기 입자의 함량이 조절된 다층 구조의 유무기 하이브리드 고분자 전해질을 포함하는 전고체 전지
14 14
제12항에 있어서,상기 음극은 리튬 금속을 포함하는 것을 특징으로 하는, 무기 입자의 함량이 조절된 다층 구조의 유무기 하이브리드 고분자 전해질을 포함하는 전고체 전지
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 과학기술정보통신부 한국화학연구원 나노·소재기술개발(R＆D) 차세대 이차전지용 일체형 유무기 전해질/분리막 개발