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플라즈마 처리를 진행하는 내부 공간을 제공하는 플라즈마 챔버;상기 플라즈마 챔버의 외벽에 설치되는 외부 전극; 그리고상기 플라즈마 챔버를 사이에 두고 상기 외부 전극과 대향하며 상기 플라즈마 챔버의 상기 내부 공간에 설치되는 내부 전극; 그리고상기 내부 전극 및 상기 외부 전극에 전원을 공급하는 전원부를 포함하고,상기 플라즈마 챔버는 사이클론 구조를 가지며, 상기 플라즈마 챔버는 상기 플라즈마 처리 물질을 상기 사이클론 구조를 이용하여 분리하는 플라즈마 반응 장치
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제1항에서,상기 플라즈마 챔버는 원통 형상을 가지는 사이클론 챔버,상기 사이클론 챔버의 측벽에 설치되며 처리 대상 물질이 유입되는 통로를 제공하는 유입부,상기 사이클론 챔버의 하부에 연결되며 플라즈마 처리된 플라즈마 처리 물질을 유출하는 통로를 제공하는 유출부를 포함하는 플라즈마 반응 장치
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제2항에서,상기 유출부는 역원뿔대 형상을 가지는 제1 유출부, 그리고상기 제1 유출부에서 연장되며 원통 형상을 가지는 제2 유출부를 포함하는 플라즈마 반응 장치
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제3항에서,상기 외부 전극은 상기 사이클론 챔버를 둘러싸는 제1 외부 전극, 그리고상기 제1 유출부를 둘러싸는 제2 외부 전극을 포함하는 플라즈마 반응 장치
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제4항에서,상기 내부 전극은 원통 형상을 가지는 원통 내부 전극을 포함하는 플라즈마 반응 장치
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제4항에서,상기 원통 내부 전극에 연결되며 상기 내부 공간의 압력을 조절하는 압력 조절부를 더 포함하는 플라즈마 반응 장치
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제4항에서,상기 내부 전극은 상기 원통 내부 전극의 외벽에서 연장되는 복수의 가지 전극을 더 포함하는 플라즈마 반응 장치
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제7항에서,상기 내부 전극은 상기 원통 내부 전극의 하단부에서 연장되는 내부 연장 전극을 더 포함하는 플라즈마 반응 장치
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제8항에서,상기 플라즈마 챔버는 상기 내부 전극의 내부에 설치되며 상기 처리 대상 물질이 유입되는 통로를 제공하는 보조 유입부를 더 포함하며,상기 원통 내부 전극은 상기 보조 유입부에 유입된 상기 처리 대상 물질을 상기 내부 전극과 상기 사이클론 챔버 사이의 공간으로 제공하는 복수의 유입홀을 가지는 플라즈마 반응 장치
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제4항에서,상기 내부 전극은 상기 사이클론 챔버의 내측벽에 인접하여 설치되며 복수의 제1 격자 개구부를 가지는 제1 격자 내부 전극, 그리고상기 유출부의 내측벽에 인접하여 설치되며 복수의 제2 격자 개구부를 가지는 제2 격자 내부 전극을 포함하는 플라즈마 반응 장치
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제3항에서,상기 내부 전극은 코일 형상의 코일 내부 전극을 포함하는 플라즈마 반응 장치
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제11항에서,상기 외부 전극은 상기 사이클론 챔버를 둘러싸는 제1 외부 전극, 그리고상기 제1 유출부를 둘러싸는 제2 외부 전극을 포함하는 플라즈마 반응 장치
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제11항에서,상기 외부 전극은 코일 형상의 코일 외부 전극을 포함하는 플라즈마 반응 장치
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제11항에서,상기 전원부는상기 내부 전극에 연결되는 제1 전원부, 그리고상기 외부 전극에 연결되는 제2 전원부를 포함하는 플라즈마 반응 장치
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제11항에서,상기 전원부는 상기 내부 전극과 상기 외부 전극에 함께 연결되는 플라즈마 반응 장치
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플라즈마 처리를 진행하는 내부 공간을 제공하는 플라즈마 챔버;상기 플라즈마 챔버의 상기 내부 공간에 설치되는 코일 형상의 코일 내부 전극; 그리고상기 코일 내부 전극에 전원을 공급하는 전원부를 포함하고,상기 플라즈마 챔버는 사이클론 구조를 가지며, 상기 플라즈마 챔버는 상기 플라즈마 처리 물질을 상기 사이클론 구조를 이용하여 분리하는 플라즈마 반응 장치
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제16항에서,상기 플라즈마 챔버는원통 형상을 가지는 사이클론 챔버,상기 사이클론 챔버의 측벽에 설치되며 처리 대상 물질이 유입되는 통로를 제공하는 유입부,상기 사이클론 챔버의 하부에 연결되며 플라즈마 처리된 플라즈마 처리 물질을 유출하는 통로를 제공하는 유출부를 포함하는 플라즈마 반응 장치
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제16항에서,상기 코일 내부 전극에 연결되며 상기 내부 공간의 압력을 조절하는 압력 조절부를 더 포함하는 플라즈마 반응 장치
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플라즈마 처리를 진행하는 내부 공간을 제공하며 접지 전극으로 기능하는 플라즈마 챔버;상기 플라즈마 챔버의 상기 내부 공간에 설치되는 내부 전극; 그리고상기 플라즈마 챔버와 상기 내부 전극을 전기적으로 분리하는 절연 부재를 포함하고,상기 플라즈마 챔버는 사이클론 구조를 가지며, 상기 플라즈마 챔버는 상기 플라즈마 처리 물질을 상기 사이클론 구조를 이용하여 분리하는 플라즈마 반응 장치
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제19항에서,상기 플라즈마 챔버는원통 형상을 가지는 사이클론 챔버,상기 사이클론 챔버의 측벽에 설치되며 처리 대상 물질이 유입되는 통로를 제공하는 유입부,상기 사이클론 챔버의 하부에 연결되며 플라즈마 처리된 플라즈마 처리 물질을 유출하는 통로를 제공하는 유출부를 포함하는 플라즈마 반응 장치
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제19항에서,상기 내부 전극은원통 형상을 가지는 원통 내부 전극, 그리고상기 원통 내부 전극의 외벽에서 연장되는 복수의 가지 전극을 포함하는 플라즈마 반응 장치
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제19항에서,상기 플라즈마 챔버는 도전성 물질을 포함하는 플라즈마 반응 장치
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