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기판; 및상기 기판의 일측 표면에서 동일한 방향으로 기울어져 형성된 나노 필러 어레이(Nano pillar array);를 포함하고, 상기 나노 필러 어레이(Nano pillar array)는,상기 기판과 상기 기판 일측에 인접하게 배치된 마스크가 소정각도로 기울어진 상태에서 상기 마스크를 통과한 타겟물질이 상기 기판에 증착됨으로써 형성되는 것을 특징으로 하는 스탠실 리소그래피 기반의 기울임 플라즈모닉 나노구조체
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제 1항에 있어서, 상기 타겟물질은,상기 마스크 일측과 마주보도록 배치된 용기에 구비되고, 가열부에 의하여 가열됨으로써 상기 마스크 일측 방향으로 증발 또는 기화되는 것을 특징으로 하는 스탠실 리소그래피 기반의 기울임 플라즈모닉 나노구조체
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제 1항에 있어서, 상기 마스크는,동일한 지름을 갖는 다수 개의 원형 천공부;를 포함하고,상기 다수 개의 원형 천공부 중에서 인접하는 3개의 원형 천공부가 각각 정삼각형을 이루도록 지그재그 방식으로 배열되는 것을 특징으로 하는 스탠실 리소그래피 기반의 기울임 플라즈모닉 나노구조체
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광원을 방출하는 레이저;상기 광원을 선형 편광시키는 선형 편광판;상기 선형 편광판으로부터 선형 편광된 상기 광원의 편광축을 회전시킴으로써 편광각을 조절하는 반파장판;스탠실 리소그래피 기반의 기울임 플라즈모닉 나노구조체에 입사될 수 있도록 편광축이 회전된 상기 광원을 분리하는 빔 스플리터; 및상기 스탠실 리소그래피 기반의 기울임 플라즈모닉 나노구조체로부터 반사된 상기 광원을 대상으로 상기 반파장판으로부터 조절된 편광각에 따른 스펙트럼을 각각 계측하는 분광기;를 포함하고,상기 레이저, 선형 편광판, 반파장판, 빔 스플리터 및 상기 스탠실 리소그래피 기반의 기울임 플라즈모닉 나노구조체는 일직선상에 배치되고,상기 스탠실 리소그래피 기반의 기울임 플라즈모닉 나노구조체는,기판;상기 기판의 일측 표면에서 동일한 방향으로 기울어져 형성된 나노 필러 어레이(Nano pillar array);를 포함하고, 상기 나노 필러 어레이(Nano pillar array)는,상기 기판과 상기 기판 일측에 인접하게 배치된 마스크가 소정각도로 기울어진 상태에서 상기 마스크를 통과한 타겟물질이 상기 기판에 증착됨으로써 형성되는 것을 특징으로 하는 스탠실 리소그래피 기반의 기울임 플라즈모닉 나노구조체를 이용한 선형 편광 측정 장치
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제 4항에 있어서,상기 스펙트럼은,상기 편광각이 0도 내지 90도 범위이내에서 증가할수록, 700nm 내지 750nm 범위이내 파장에서 강도(Intensity)와 반사율(Reflectance)이 0 내지 1 범위이내에서 지수함수적으로 증가하는 것을 특징으로 하는 스탠실 리소그래피 기반의 기울임 플라즈모닉 나노구조체를 이용한 선형 편광 측정 장치
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광원을 방출하는 레이저;상기 광원의 광대역 파장에서 특정 파장만을 통과시키는 밴드패스 필터;상기 밴드패스 필터로부터 통과된 파장의 중심축을 회전시킴으로써 각도를 조절하는 반파장판;스탠실 리소그래피 기반의 기울임 플라즈모닉 나노구조체에 입사될 수 있도록 파장의 중심축이 회전된 상기 광원을 분리하는 빔 스플리터;상기 스탠실 리소그래피 기반의 기울임 플라즈모닉 나노구조체로부터 반사된 상기 광원을 대상으로 상기 반파장판으로부터 조절된 각도에 따른 스펙트럼을 각각 계측하는 분광기; 및상기 스탠실 리소그래피 기반의 기울임 플라즈모닉 나노구조체로부터 반사된 상기 광원의 광량을 측정하는 카메라;를 포함하고,상기 레이저, 밴드패스 필터, 반파장판, 빔 스플리터 및 상기 스탠실 리소그래피 기반의 기울임 플라즈모닉 나노구조체는 일직선상에 배치되고,상기 스탠실 리소그래피 기반의 기울임 플라즈모닉 나노구조체는,기판;상기 기판의 일측 표면에서 동일한 방향으로 기울어져 형성된 나노 필러 어레이(Nano pillar array);를 포함하고, 상기 나노 필러 어레이(Nano pillar array)는,상기 기판과 상기 기판 일측에 인접하게 배치된 마스크가 소정각도로 기울어진 상태에서 상기 마스크를 통과한 타겟물질이 상기 기판에 증착됨으로써 형성되는 것을 특징으로 하는 스탠실 리소그래피 기반의 기울임 플라즈모닉 나노구조체를 이용한 선형 편광 측정 장치
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제 6항에 있어서,상기 특정 파장은,700nm 내지 750nm 범위이내 파장을 통과시키는 것을 특징으로 하는 스탠실 리소그래피 기반의 기울임 플라즈모닉 나노구조체를 이용한 선형 편광 측정 장치
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제 7항에 있어서,상기 스펙트럼은,상기 반파장판으로부터 조절된 각도가 0도 내지 90도 범위이내에서 증가할수록, 상기 특정 파장에서 강도(Intensity)가 0 내지 1 범위이내에서 지수함수적으로 증가하는 것을 특징으로 하는 스탠실 리소그래피 기반의 기울임 플라즈모닉 나노구조체를 이용한 선형 편광 측정 장치
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