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소수성 특성이 향상되도록 표면 개질된 형광체를 제조하는 방법에 있어서,형광체의 표면을 수산화기로 개질하는 개질과정; 및상기 개질과정에 의해 수산화기로 표면이 개질된 형광체의 표면을 소수성을 갖는 표면 코팅물질로 코팅하는 코팅과정을 포함하는 것을 특징으로 하는 표면 개질 형광체 제조방법
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제1항에 있어서,상기 형광체는,할라이드(Halide) 계열 형광체, 질화물(Nitride) 형광체, LuAg 형광체, 실리케이트(Silicate) 계열 형광체 또는 YAG 형광체인 것을 특징으로 하는 표면 개질 형광체 제조방법
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제1항에 있어서,상기 개질과정은,챔버 내부로 상기 형광체를 주입하는 제1 주입과정;상기 챔버와는 다른 용기에 수산화기 공급물질 및 아르곤 가스를 혼합하는 혼합과정;기 설정된 제1 온도로 용기를 가열하여 수산화기 공급물질을 기화시키는 기화과정;상기 챔버 내부로 기화된 수산화기 공급물질 및 아르곤 가스를 주입하는 제2 주입과정; 및 상기 챔버가 외부로부터 전원을 공급받아, 상압 플라즈마를 내부로 인가하는 인가과정을 포함하는 것을 특징으로 하는 표면 개질 형광체 제조방법
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제3항에 있어서,상기 수산화기 공급물질은,수산화 암모늄(NH4OH)인 것을 특징으로 하는 표면 개질 형광체 제조방법
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제3항에 있어서,상기 기 설정된 제1 온도는,70℃를 기준으로 기 설정된 범위 내인 것을 특징으로 하는 표면 개질 형광체 제조방법
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제1항에 있어서,상기 코팅과정은,챔버 내부로 상기 개질과정에 의해 수산화기로 표면이 개질된 형광체를 주입하는 제3 주입과정;상기 챔버와는 다른 용기에 표면 코팅물질 및 아르곤 가스를 혼합하는 혼합과정;기 설정된 제2 온도로 용기를 가열하여 표면 코팅물질 을 기화시키는 기화과정;상기 챔버 내부로 기화된 표면 코팅물질 및 아르곤 가스를 주입하는 제4 주입과정; 및 상기 챔버가 외부로부터 전원을 공급받아, 상압 플라즈마를 내부로 인가하는 인가과정을 포함하는 것을 특징으로 하는 표면 개질 형광체 제조방법
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제6항에 있어서,상기 표면 코팅물질은,실란 계열물질인 것을 특징으로 하는 표면 개질 형광체 제조방법
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제7항에 있어서,상기 표면 코팅물질은,HDTMS(Hexadecyl Trimethoxy Silane), Propyl Trimetoxy Silnae, 3-aminopropyl Triethoxy Silane 또는 Hexyl Trimethoxy Silane인 것을 특징으로 하는 표면 개질 형광체 제조방법
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제6항에 있어서,상기 기 설정된 제2 온도는,150℃를 기준으로 기 설정된 범위 내인 것을 특징으로 하는 표면 개질 형광체 제조방법
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소수성 특성이 향상되도록 형광체의 표면을 개질하는 챔버에 있어서,외부로부터 전압을 공급받아 상압 플라즈마를 내부로 인가하는 플라즈마 전극을 포함하며,상기 챔버는,내부로 상기 형광체, 기화된 수산화기 공급물질 및 아르곤 가스를 주입받으며, 상기 플라즈마 전극이 외부로부터 전원을 공급받아 상압 플라즈마를 내부로 인가함으로서, 상기 형광체의 표면을 수산화기로 개질하고,내부로 수산화기로 표면이 개질된 형광체, 기화된 표면 코팅물질 및 아르곤 가스를 주입받으며, 상기 플라즈마 전극이 외부로부터 전원을 공급받아 상압 플라즈마를 내부로 인가함으로서, 형광체의 표면을 소수성을 갖는 표면 코팅물질로 코팅하는 것을 특징으로 하는 챔버
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11
제10항에 있어서,상기 수산화기 공급물질은,수산화 암모늄(NH4OH)인 것을 특징으로 하는 챔버
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제10항에 있어서,상기 표면 코팅물질은,HDTMS(Hexadecyl Trimethoxy Silane), Propyl Trimetoxy Silnae, 3-aminopropyl Triethoxy Silane 또는 Hexyl Trimethoxy Silane인 것을 특징으로 하는 챔버
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제1항 내지 제9항 중 어느 한 항의 방법에 의해 제조되는 형광체
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