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금속 기판을 질소 분위기에서 열처리하여 금속 기판 표면을 질화시키는 단계; 및상기 질화된 금속 기판 상에 탄소계 물질 용액을 코팅하여 탄소계 코팅층을 형성하는 단계를 포함하는, 고열전도성 금속-탄소 적층체의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 금속 기판이 알루미늄, 금, 은, 텅스텐, 철, 주철, 구리, 납, 니켈, 백금 및 이들의 합금으로 구성된 군에서 선택된 하나 이상을 포함하는, 고열전도성 금속-탄소 적층체의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 금속 기판을 열처리하기 전에, 금속 기판을 세척하는 단계를 더 포함하는, 고열전도성 금속-탄소 적층체의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 질소 분위기가 질소(N2) 또는 암모니아(NH3)를 포함하는 질화 가스를 주입하여 형성되는, 고열전도성 금속-탄소 적층체의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 질화 단계의 열처리가 300 내지 800℃에서 수행되는, 고열전도성 금속-탄소 적층체의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 질화 단계의 열처리가 30분 내지 18시간 동안 수행되는, 고열전도성 금속-탄소 적층체의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 탄소계 물질이 그래핀, 흑연, 탄소나노튜브, 다중벽 탄소나노튜브, 풀러렌 및 이들의 산화물로 구성된 군에서 선택되는 하나 이상을 포함하는, 고열전도성 금속-탄소 적층체의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 탄소계 물질 용액의 농도가 0
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제 1 항에 있어서,상기 탄소계 코팅층의 형성이 롤투롤 코팅, 스크린 프린팅, 브러싱 코팅, 스프레이 코팅, 스핀 코팅 또는 딥 코팅으로 수행되는, 고열전도성 금속-탄소 적층체의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 탄소계 코팅층 형성 단계가 10분 내지 10시간 동안 수행되는, 고열전도성 금속-탄소 적층체의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 탄소계 코팅층 형성 단계가 0 내지 100℃에서 수행되는, 고열전도성 금속-탄소 적층체의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 탄소계 코팅층 형성 단계 이후, 상온에서 건조하는 단계를 더 포함하는, 고열전도성 금속-탄소 적층체의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 탄소계 코팅층의 두께가 0
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금속 기판;상기 금속 기판 상에 형성된, 금속 질화물을 포함하는 표면층; 및상기 표면층 상에 형성된 탄소계 코팅층을 포함하는, 고열전도성 금속-탄소 적층체
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제 14 항에 따른 고열전도성 금속-탄소 적층체를 포함하는 방열소재
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제 15 항에 있어서,상기 방열소재가 배터리용 또는 자동차용인, 방열소재
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