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오프-컷 사파이어 기판과 에피택셜 측면 성장법을 이용하여 관통전위를 제어한 고품질 산화갈륨 박막 구조물 및 그 제조 방법

  • 기술번호 : KST2023005920
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 관통전위(threading dislocation)를 구비하는 산화갈륨 완충층 상에 에피텍셜 측면 성장법으로 산화갈륨 박막을 성장할 시, 관통전위의 각도를 고려하여 관통전위를 완벽하게 블록킹하도록 마스크 패턴을 설계하여 고품질의 산화갈륨 박막을 성장시킬 수 있는 오프-컷 사파이어 기판과 에피택셜 측면 성장법을 이용하여 관통전위를 제어한 고품질 산화갈륨 박막 구조물 및 그 제조 방법에 대하여 개시한다.
Int. CL C30B 25/18 (2006.01.01) C30B 25/04 (2006.01.01) C30B 29/14 (2006.01.01) H01L 21/02 (2006.01.01)
CPC C30B 25/18(2013.01) C30B 25/186(2013.01) C30B 25/183(2013.01) C30B 25/04(2013.01) C30B 29/14(2013.01) H01L 21/02483(2013.01) H01L 21/02565(2013.01) H01L 21/0243(2013.01) H01L 21/0242(2013.01) H01L 21/02639(2013.01) H01L 21/02647(2013.01) H01L 21/0262(2013.01) H01L 21/02433(2013.01)
출원번호/일자 1020220115632 (2022.09.14)
출원인 한국세라믹기술원
등록번호/일자 10-2557907-0000 (2023.07.17)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20230721) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 국내출원/신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2022.09.14)
심사청구항수 10

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국세라믹기술원 대한민국 경상남도 진주시 소호로 ***

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박지현 전라북도 군산시 궁포*로 ** e편한세상디오션시티 *
2 전대우 경상남도 진주시 충의로 ***, **
3 황종희 경상남도 진주시
4 김진호 경상남도 진주시 초장로 *
5 이영진 경상남도 진주시
6 이미재 경상남도 진주시 소
7 김선욱 경상남도 진주시 대밭골로 **, ***

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인(유한) 대아 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로 ***, 한양빌딩*층(역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국세라믹기술원 경상남도 진주시 소호로 ***
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2022.09.14 수리 (Accepted) 1-1-2022-0963053-37
2 [우선심사신청]심사청구서·우선심사신청서
2022.09.14 수리 (Accepted) 1-1-2022-0963355-10
3 [우선심사신청]선행기술조사의뢰서
[Request for Preferential Examination] Request for Prior Art Search
2022.09.21 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 [우선심사신청]선행기술조사보고서
[Request for Preferential Examination] Report of Prior Art Search
2022.09.23 수리 (Accepted) 9-1-2022-0014449-64
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2023.04.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2023-0370665-08
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견서·답변서·소명서
2023.05.23 수리 (Accepted) 1-1-2023-0568572-46
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2023.05.23 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2023-0568573-92
8 등록결정서
Decision to grant
2023.07.17 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2023-0645320-34
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
(a) 오프-컷 사파이어 기판을 준비하는 단계; (b) 상기 오프-컷 사파이어 기판의 상면 상에 배치되고, 내부에 관통전위를 갖는 산화갈륨 완충층을 형성하는 단계; (c) 상기 관통전위를 갖는 산화갈륨 완충층의 상면 일부만을 선택적으로 덮어 복수의 개구를 구비하고, 상기 관통전위를 블록킹하는 마스크 패턴을 형성하는 단계; 및 (d) 상기 마스크 패턴 외측에 위치하는 복수의 개구에 의해 노출되는 상기 산화갈륨 완충층 상에 에피택셜 측면성장법으로 측면 성장된 산화갈륨 박막을 형성하는 단계;를 포함하며, 상기 (b) 단계에서, 상기 관통전위와 오프-컷 사파이어 기판의 상면이 이루는 각도는 상기 오프-컷 사파이어 기판의 절삭각에 따라 변동되되, 상기 관통전위와 오프-컷 사파이어 기판의 상면이 이루는 각도는 40 ~ 60°이고, 상기 (c) 단계에서, 상기 복수의 개구 각각의 폭은 제1 길이를 갖고, 상기 마스크 패턴의 높이는 상기 제1 길이보다 긴 제2 길이를 가지며, 상기 제2 길이는 상기 제1 길이 대비 10% 이상 긴 길이를 갖고, 상기 (d) 단계에서, 상기 산화갈륨 박막은 상기 마스크 패턴 외측의 복수의 개구와 대응되는 위치의 산화갈륨 완충층을 씨드로 이용하는 측면성장법으로 측면 성장되어, 상기 산화갈륨 완충층의 상면 및 마스크 패턴의 상면 및 측면을 덮도록 형성된 것을 특징으로 하는 오프-컷 사파이어 기판과 에피택셜 측면 성장법을 이용하여 관통전위를 제어한 고품질 산화갈륨 박막 구조물 제조 방법
2 2
제1항에 있어서,상기 (a) 단계에서,상기 오프-컷 사파이어 기판은 x축 방향인 a면(11-20)이 비극성인 사파이어 기판을 이용하는 것을 특징으로 하는 오프-컷 사파이어 기판과 에피택셜 측면 성장법을 이용하여 관통전위를 제어한 고품질 산화갈륨 박막 구조물 제조 방법
3 3
제2항에 있어서,상기 오프-컷 사파이어 기판은 3 ~ 12°의 절삭각(cutting angle)을 갖는 것을 특징으로 하는 오프-컷 사파이어 기판과 에피택셜 측면 성장법을 이용하여 관통전위를 제어한 고품질 산화갈륨 박막 구조물 제조 방법
4 4
제3항에 있어서,상기 오프-컷 사파이어 기판은 4 ~ 10°의 절삭각(cutting angle)을 갖는 것을 특징으로 하는 오프-컷 사파이어 기판과 에피택셜 측면 성장법을 이용하여 관통전위를 제어한 고품질 산화갈륨 박막 구조물 제조 방법
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삭제
6 6
삭제
7 7
제1항에 있어서,상기 (b) 단계에서,상기 산화갈륨 완충층은 α-Ga2O3, β-Ga2O3, κ-Ga2O3 및 ε-Ga2O3 중 적어도 하나 이상의 상으로 형성된 것을 특징으로 하는 오프-컷 사파이어 기판과 에피택셜 측면 성장법을 이용하여 관통전위를 제어한 고품질 산화갈륨 박막 구조물 제조 방법
8 8
제1항에 있어서,상기 (b) 단계에서, 상기 산화갈륨 완충층은 N2, H2 및 Ar 중 1종 이상의 가스 분위기에서 350 ~ 1,000℃의 소스온도 및 400 ~ 1,100℃의 성장온도 조건으로 실시하는 에피 성장으로 형성되는 것을 특징으로 하는 오프-컷 사파이어 기판과 에피택셜 측면 성장법을 이용하여 관통전위를 제어한 고품질 산화갈륨 박막 구조물 제조 방법
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11 11
제1항에 있어서,상기 (d) 단계에서, 상기 산화갈륨 박막은 상기 마스크 패턴 외측의 복수의 개구에 위치하는 산화갈륨 완충층을 씨드로 이용하여, N2, H2 및 Ar 중 1종 이상의 가스 분위기에서 350 ~ 1,000℃의 소스온도 및 400 ~ 1,100℃의 성장온도 조건으로 측면 성장하여 형성된 것을 특징으로 하는 오프-컷 사파이어 기판과 에피택셜 측면 성장법을 이용하여 관통전위를 제어한 고품질 산화갈륨 박막 구조물 제조 방법
12 12
오프-컷 사파이어 기판; 상기 오프-컷 사파이어 기판의 상면 상에 배치되고, 내부에 관통전위를 갖는 산화갈륨 완충층; 상기 관통전위를 갖는 산화갈륨 완충층의 상면 일부를 덮어, 복수의 개구를 구비하고, 상기 관통전위를 블록킹하는 마스크 패턴; 및 상기 마스크 패턴의 외측으로 노출된 산화갈륨 완충층 상에 에피택셜 측면성장법으로 측면 성장되어 형성된 산화갈륨 박막;을 포함하며, 상기 관통전위와 오프-컷 사파이어 기판의 상면이 이루는 각도는 상기 오프-컷 사파이어 기판의 절삭각에 따라 변동되되, 상기 관통전위와 오프-컷 사파이어 기판의 상면이 이루는 각도는 40 ~ 60°이고, 상기 복수의 개구 각각의 폭은 제1 길이를 갖고, 상기 마스크 패턴의 높이는 상기 제1 길이보다 긴 제2 길이를 가지며, 상기 제2 길이는 상기 제1 길이 대비 10% 이상 긴 길이를 갖고, 상기 산화갈륨 박막은 상기 마스크 패턴 외측의 복수의 개구와 대응되는 위치의 산화갈륨 완충층을 씨드로 이용하는 측면성장법으로 측면 성장되어, 상기 산화갈륨 완충층의 상면 및 마스크 패턴의 상면 및 측면을 덮도록 형성된 것을 특징으로 하는 오프-컷 사파이어 기판과 에피택셜 측면 성장법을 이용하여 관통전위를 제어한 고품질 산화갈륨 박막 구조물
13 13
제12항에 있어서,상기 오프-컷 사파이어 기판은 x축 방향인 a면(11-20)이 비극성인 사파이어 기판을 이용하는 것을 특징으로 하는 오프-컷 사파이어 기판과 에피택셜 측면 성장법을 이용하여 관통전위를 제어한 고품질 산화갈륨 박막 구조물
14 14
제12항에 있어서,상기 오프-컷 사파이어 기판은 3 ~ 12°의 절삭각(cutting angle)을 갖는 것을 특징으로 하는 오프-컷 사파이어 기판과 에피택셜 측면 성장법을 이용하여 관통전위를 제어한 고품질 산화갈륨 박막 구조물
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1 과학기술정보통신부 한국세라믹기술원 이공분야기초연구사업 기본연구 도메인 정렬 완충 층을 이용한 고품질 β-Ga2O3 박막 성장기술 개발
2 과학기술정보통신부 한국세라믹기술원 나노 및 소재 기술개발사업 2.5kV 급 수직형, 수평형 전력반도체 소자용 4 인치 대구경산화갈륨 에피 성장 상용화 기술