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실란, 상기 실란에 결합된 반응기 및 과불화기를 포함하는 베이스 코팅 조성물; 및상기 베이스 코팅 조성물과 결합된 광 경화성 고분자물질;을 포함하되,고투명성 용도 및 고발수성 용도 중에서 선택되는 적어도 어느 하나의 용도에 따라, 상기 베이스 코팅 조성물의 첨가량이 조절된, 고투명성 및 고발수성을 갖는 광 경화형 코팅 조성물
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제1 항에 있어서,상기 베이스 코팅 조성물은,하이퍼브랜치(hyperbranch) 구조를 가지는, 고투명성 및 고발수성을 갖는 광 경화형 코팅 조성물
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제1 항에 있어서,상기 반응기는, 티올(thiol) 및 메타아크릴레이트(methacrylate) 중에서 적어도 어느 하나를 포함하는, 고투명성 및 고발수성을 갖는 광 경화형 코팅 조성물
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제1 항에 있어서, 90
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실란 및 상기 실란에 결합된 반응기를 포함하는 제1 소스로부터, 소스 조성물을 제조하는 단계;상기 소스 조성물과 과불화기를 포함하는 제2 소스를 혼합하여, 베이스 코팅 조성물을 제조하는 단계; 및상기 베이스 코팅 조성물과 광 경화성 고분자물질을 포함하는 제3 소스를 혼합하여, 광 경화형 코팅 조성물을 제조하는 단계;를 포함하는, 고투명성 및 고발수성을 갖는 광 경화형 코팅 조성물 제조방법
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제5 항에 있어서, 상기 소스 조성물을 제조하는 단계에서,상기 소스 조성물은, 하이퍼브랜치 구조를 가지는, 고투명성 및 고발수성을 갖는 광 경화형 코팅 조성물 제조방법
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제5 항에 있어서, 상기 소스 조성물을 제조하는 단계는,상기 제1 소스와 가소제를 혼합하고 부산물로 메탄올이 형성되는 제1 온도범위에서 열처리하여, 상기 소스 조성물을 제조하는 것을 포함하되,상기 제1 온도범위는,100 ℃ 이상 내지 160 ℃ 이하를 포함하는, 고투명성 및 고발수성을 갖는 광 경화형 코팅 조성물 제조방법
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제5 항에 있어서, 상기 베이스 코팅 조성물을 제조하는 단계는,상온보다 높은 제2 온도범위의 용매 중에, 상기 소스 조성물 및 상기 제2 소스와 촉매를 혼합하여, 상기 베이스 코팅 조성물을 제조하는 것을 포함하되,상기 제2 소스는,상기 베이스 코팅 조성물 전체 중량 대비 30 중량% 이상 내지 50 중량% 이하로 첨가되고,상기 제2 온도범위는,40 ℃ 이상 내지 50 ℃ 이하를 포함하는, 고투명성 및 고발수성을 갖는 광 경화형 코팅 조성물 제조방법
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제5 항에 있어서, 상기 광 경화형 코팅 조성물을 제조하는 단계는,상기 베이스 코팅 조성물 및 상기 제3 소스와 희석제를 혼합하여, 상기 광 경화형 코팅 조성물을 제조하는 것을 포함하되,상기 제3 소스와 상기 희석제는, 상기 제3 소스와 상기 희석제의 전체 중량 대비 60 중량%:40 중량%로 혼합되는 것을 포함하고,상기 베이스 코팅 조성물은,상기 제3 소스와 상기 희석제의 혼합 중량% 기준으로 1 part 초과 내지 7 part 이하로 첨가되는, 고투명성 및 고발수성을 갖는 광 경화형 코팅 조성물 제조방법
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제9 항에 있어서, 상기 광 경화형 코팅 조성물이, 고투명성 용도 및 고발수성 용도로 사용되는 경우,상기 베이스 코팅 조성물을 제조하는 단계에서, 상기 제2 소스는,상기 베이스 코팅 조성물 전체 중량 대비 40 중량%로 첨가되고,상기 광 경화형 코팅 조성물을 제조하는 단계에서, 상기 베이스 코팅 조성물은,상기 제3 소스와 상기 희석제의 혼합 중량% 기준으로 1 part 초과 내지 6 part 미만으로 첨가되는, 고투명성 및 고발수성을 갖는 광 경화형 코팅 조성물 제조방법
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제9 항에 있어서, 상기 광 경화형 코팅 조성물이, 고투명성 용도로 사용되는 경우,상기 베이스 코팅 조성물을 제조하는 단계에서, 상기 제2 소스가,상기 베이스 코팅 조성물 전체 중량 대비 40 중량%로 첨가되면,상기 광 경화형 코팅 조성물을 제조하는 단계에서, 상기 베이스 코팅 조성물은,상기 제3 소스와 상기 희석제의 혼합 중량% 기준으로 1 part 초과 내지 6 part 미만으로 첨가되고,상기 베이스 코팅 조성물을 제조하는 단계에서, 상기 제2 소스가,상기 베이스 코팅 조성물 전체 중량 대비 50 중량%로 첨가되면,상기 광 경화형 코팅 조성물을 제조하는 단계에서, 상기 베이스 코팅 조성물은,상기 제3 소스와 상기 희석제의 혼합 중량% 기준으로 1 part 이상 내지 3 part 이하로 첨가되는, 고투명성 및 고발수성을 갖는 광 경화형 코팅 조성물 제조방법
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제9 항에 있어서, 상기 광 경화형 코팅 조성물이, 고발수성 용도로 사용되는 경우,상기 베이스 코팅 조성물을 제조하는 단계에서, 상기 제2 소스가,상기 베이스 코팅 조성물 전체 중량 대비 30 중량%로 첨가되면,상기 광 경화형 코팅 조성물을 제조하는 단계에서, 상기 베이스 코팅 조성물은,상기 제3 소스와 상기 희석제의 혼합 중량% 기준으로 1 part 초과 내지 7 part 이하로 첨가되고,상기 베이스 코팅 조성물을 제조하는 단계에서, 상기 제2 소스가,상기 베이스 코팅 조성물 전체 중량 대비 40 중량%로 첨가되면,상기 광 경화형 코팅 조성물을 제조하는 단계에서, 상기 베이스 코팅 조성물은,상기 제3 소스와 상기 희석제의 혼합 중량% 기준으로 1 part 초과 내지 6 part 이하로 첨가되고,상기 베이스 코팅 조성물을 제조하는 단계에서, 상기 제2 소스가,상기 베이스 코팅 조성물 전체 중량 대비 50 중량%로 첨가되면,상기 광 경화형 코팅 조성물을 제조하는 단계에서, 상기 베이스 코팅 조성물은,상기 제3 소스와 상기 희석제의 혼합 중량% 기준으로 1 part 초과 내지 4 part 이하로 첨가되는, 고투명성 및 고발수성을 갖는 광 경화형 코팅 조성물 제조방법
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제5 항에 있어서, 상기 소스 조성물을 제조하는 단계에서,상기 제1 소스는, 상기 반응기로 티올 및 메타아크릴레이트 중에서 적어도 어느 하나를 포함하고,상기 베이스 코팅 조성물을 제조하는 단계에서,상기 제2 소스는, 트리데카플루오로옥틸 아크릴레이트(tridecafluorooctyl acrylate) 및 퍼플루오로데칸티올(perfluorodecanethiol) 중에서 적어도 어느 하나를 포함하고,상기 용매는, 크롤로폼(chloroform)을 포함하고,상기 촉매는, 트리에틸아민(triethylamine)을 포함하고, 상기 광 경화형 코팅 조성물을 제조하는 단계에서,상기 제3 소스는, 상기 광 경화성 고분자물질로 우레탄올리고머(urethane oligomer)를 포함하고,상기 희석제는, 헥산다이올 다이아크릴레이트(hexanediol diacrylate)를 포함하는, 고투명성 및 고발수성을 갖는 광 경화형 코팅 조성물 제조방법
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제5 항에 따른 고투명성 및 고발수성을 갖는 광 경화형 코팅 조성물을 준비하는 단계; 및유리 및 플라스틱을 포함하는 피-코팅소재 군에서 선택되는 어느 하나의 표면 상에 상기 광 경화형 코팅 조성물을 제공하고 광 경화하여, 상기 피-코팅소재 상에 고투명성 및 고발수성을 갖는 코팅층을 형성하는 단계;를 포함하는, 고투명성 및 고발수성을 갖는 코팅층 형성방법
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