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스프레이형 오염물 분해 및 제거용 조성물

  • 기술번호 : KST2023006386
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 스프레이형 오염물 분해 및 제거용 조성물로, 옷과 같은 의류 제품이 오염되는 경우, 오염 부위를 별도로 세탁하지 않고, 상기 조성물을 스프레이 분사하여, 가시광 조사에 의해 오염원이 분해되어 세정 효과를 나타낼 수 있다. 또한, 섬유 제품 내 흡수를 용이하게 하여, 쉽게 제거되지 않는 오염원을 광촉매에 의해 분해시켜, 오염물의 제거 효과를 높일 수 있다.
Int. CL C11D 3/00 (2006.01.01) C11D 3/48 (2006.01.01) C11D 3/12 (2006.01.01) C11D 3/28 (2006.01.01) C11D 11/00 (2006.01.01) C11D 17/00 (2006.01.01)
CPC C11D 3/0068(2013.01) C11D 3/48(2013.01) C11D 3/1213(2013.01) C11D 3/28(2013.01) C11D 11/0017(2013.01) C11D 17/00(2013.01)
출원번호/일자 1020220020547 (2022.02.17)
출원인 충남대학교산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2023-0123615 (2023.08.24) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 국내출원/신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2022.02.17)
심사청구항수 9

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 충남대학교산학협력단 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 손영아 대전광역시 유성구
2 라말린감 마니바난 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 원대규 대한민국 서울특별시 금천구 디지털로 ***, ***호(세인특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2022.02.17 수리 (Accepted) 1-1-2022-0177320-53
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2022.09.15 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
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번호 청구항
1 1
용매; 및이산화티탄 광촉매를 포함하며, 상기 이산화티탄 광촉매는,이산화티탄(TiO2); 및 하기 화학식 1로 표시되는 포피린 화합물을 포함하는스프레이형 오염물 분해 및 제거용 조성물:[화학식 1]여기서,X1 및 X3는 서로 동일하거나 상이하며 각각 독립적으로 N(R13), C(R14)(R15), O 및 S로 이루어진 군으로부터 선택되며,X2 및 X4는 서로 동일하거나 상이하며, 각각 독립적으로 N 또는 C(R16)이며,L1 내지 L4는 서로 동일하거나 상이하며, 각각 독립적으로 단일결합, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴렌기, 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 30의 헤테로아릴렌기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 20의 알킬렌기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 20의 시클로알킬렌기, 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 20의 알케닐렌기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 20의 시클로알케닐렌기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 20의 헤테로알킬렌기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 20의 헤테로시클로알킬렌기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 20의 헤테로알케닐렌기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 20의 헤테로시클로알케닐렌기 및 탄소수 2 내지 20의 알키닐렌기로 이루어진 군에서 선택되며,R1 내지 R16은 서로 동일하거나 상이하며, 각각 독립적으로, 수소, 시아노기, 트리플루오로메틸기, 니트로기, 할로겐기, 히드록시기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 4의 알킬티오기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 20의 시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 30의 알케닐기, 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 24의 알키닐기, 치환 또는 비치환된 탄소수 7 내지 30의 아르알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 60의 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 헤테로아릴알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알콕시기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알킬아미노기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴아미노기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아르알킬아미노기, 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 24의 헤테로 아릴아미노기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알킬실릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴실릴기 및 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴옥시기로 이루어진 군으로부터 선택되며, 인접하는 기와 서로 결합하거나, 결합하여 치환 또는 비치환된 고리를 형성할 수 있으며,상기 L1 내지 L4 및 R1 내지 R16이 치환되는 경우, 수소, 시아노기, 트리플루오로메틸기, 니트로기, 할로겐기, 히드록시기, 카복실기, 탄소수 1 내지 10의 알콕시기, 탄소수 1 내지 4의 알킬티오기, 탄소수 1 내지 30의 알킬기, 탄소수 1 내지 20의 시클로알킬기, 탄소수 2 내지 30의 알케닐기, 탄소수 2 내지 24의 알키닐기, 탄소수 7 내지 30의 아르알킬기, 탄소수 6 내지 30의 아릴기, 탄소수 2 내지 60의 헤테로아릴기, 탄소수 6 내지 30의 헤테로아릴알킬기, 탄소수 1 내지 30의 알콕시기, 탄소수 1 내지 30의 알킬아미노기, 탄소수 6 내지 30의 아릴아미노기, 탄소수 6 내지 30의 아르알킬아미노기, 탄소수 2 내지 24의 헤테로 아릴아미노기, 탄소수 1 내지 30의 알킬실릴기, 탄소수 6 내지 30의 아릴실릴기 및 탄소수 6 내지 30의 아릴옥시기로 이루어진 군으로부터 선택되는 치환기로 치환되며, 복수 개의 치환기로 치환되는 경우 이들은 서로 동일하거나 상이하다
2 2
제1항에 있어서,상기 용매는 탄소수 1 내지 10의 알코올 및 물인스프레이형 오염물 분해 및 제거용 조성물
3 3
제1항에 있어서, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 하기 화학식 2로 표시되는 화합물인스프레이형 오염물 분해 및 제거용 조성물:[화학식 2]여기서, R1 내지 R8 및 L1 내지 L4는 제1항에서 정의한 바와 같고, R9' 내지 R12'은 서로 동일하거나 상이하며, 각각 독립적으로 수소, -SO3H, -SO3- 및 -COO-로 이루어진 군으로부터 선택된다
4 4
제1항에 있어서,상기 L1 내지 L4는 단일결합 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴렌기인 화합물
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제1항에 있어서,상기 조성물은 가시광선 하에서 광촉매 활성을 나타내는스프레이형 오염물 분해 및 제거용 조성물
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제1항에 있어서,상기 세정 조성물은 상기 화학식 1로 표시되는 포피린 화합물 및 이산화티탄을 1:1 내지 1:15의 몰 비율로 포함하는스프레이형 오염물 분해 및 제거용 조성물
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제1항에 있어서,상기 조성물은 오염 부위에 흡수되어 오염원과 이산화티탄 광촉매가 접촉하며, 가시광 조사에 의해 오염원을 분해하는 스프레이형 오염물 분해 및 제거용 조성물
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제1항에 따른 오염물 분해 및 제거용 조성물을 포함하는휴대용 세탁제
9 9
제1항에 따른 오염물 분해 및 제거용 조성물을 포함하는세탁 보조용 조성물
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