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기판에 패턴을 가공하기 위한 장치로서,상기 기판에 가압력이 제공되도록 몰드가 상기 기판에 접촉되는 위치에 상기 몰드를 고정하는 몰드 고정부;상기 기판을 일방향으로 직선 이동시키는 리니어 액츄에이터를 포함하는 기판 이송 모듈; 및상기 일방향과 상기 몰드가 소정의 회전 각도를 이루도록 상기 몰드 고정부 및 상기 리니어 액츄에이터 중 어느 하나를 회전시키는 회전 스테이지를 포함하는 패턴 가공 장치
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제1 항에 있어서,상기 몰드 고정부는 상기 몰드가 고정되는 몰드 암을 포함하고,상기 몰드 암은 고정되는 상기 몰드의 일측 모서리가 상기 기판의 일측면에 접촉되도록 상하 방향에 대해 소정의 구배 각도로 기울어지게 배치되는 패턴 가공 장치
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제2 항에 있어서,상기 몰드 고정부는 상기 기판 이송 모듈에 대한 상기 몰드 암의 상대 위치를 조절 가능한 마이크로 미터를 더 포함하는 패턴 가공 장치
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제1 항에 있어서,상기 몰드 고정부의 일측에 제공되어, 상기 몰드를 기 설정된 온도로 가열시키는 스틱 히터를 더 포함하는 패턴 가공 장치
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제1 항에 있어서,상기 기판 이송 모듈은 상기 가압력을 측정하는 로드셀을 더 포함하는 패턴 가공 장치
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제5 항에 있어서,상기 로드셀은 복수 개로 제공되고, 복수 개의 상기 로드셀은 상기 일방향에 대해 전후방으로 이격되어 배치되는 패턴 가공 장치
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제1 항에 있어서,상기 기판 이송 모듈은 상기 기판이 안착되는 안착 플레이트의 기울기를 조절하도록 롤링(rolling) 구동되는 틸트 스테이지를 더 포함하는 패턴 가공 장치
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제1 항에 따른 패턴 가공 장치를 이용한 패턴 가공 방법으로서,기판에 가압력을 제공하도록 기 설정된 온도의 몰드가 상기 기판에 접촉되는 위치에 고정되는 단계;회전 스테이지에 의해, 상기 기판의 직선 이동 방향과 상기 몰드가 소정의 회전 각도를 이루도록, 상기 기판 및 상기 몰드 중 어느 하나가 회전되는 단계; 및리니어 액츄에이터에 의해, 상기 기판이 기 설정된 속도로 직선 이동되는 단계를 포함하는 패턴 가공 방법
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제8 항에 있어서,상기 기판은 폴리머 소재로 제공되는 패턴 가공 방법
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제9 항에 있어서,상기 기판의 소재는 polycarbonate(PC), polyethylene terephthalate(PET), paraformaldehyde(PFA) 및 polyimide(PI) 중 어느 하나인 패턴 가공 방법
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제8 항에 있어서,상기 기판이 직선 이동되는 단계 이전에, 마이크로 미터에 의해, 상기 리니어 액츄에이터에 대한 상기 몰드의 상대 위치가 변화되어, 상기 가압력이 조절되는 단계를 더 포함하는 패턴 가공 방법
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제8 항에 있어서,상기 기판이 직선 이동되는 단계 이전에, 스틱 히터에 의해, 상기 몰드의 온도가 조절되는 단계를 더 포함하는 패턴 가공 방법
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제8 항에 있어서,상기 패턴은 비대칭 사다리꼴 형상이고,상기 회전 각도는 20° 내지 40°인 패턴 가공 방법
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제13 항에 있어서,상기 기 설정된 온도는 100℃ 내지 120℃이고,상기 가압력은 1
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제8 항에 있어서,상기 패턴은 평행사면형 형상이고,상기 회전 각도는 20° 내지 40°인 패턴 가공 방법
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제15 항에 있어서,상기 기 설정된 온도는 100℃ 내지 120℃이고,상기 가압력은 0
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제8 항에 있어서,상기 패턴은 비대칭 삼각형 형상이고,상기 회전 각도는 50° 내지 70°인 패턴 가공 방법
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제17 항에 있어서,상기 기 설정된 온도는 10℃ 내지 30℃이고,상기 가압력은 1
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제8 항에 있어서,상기 패턴은 직사각형 형상이고,상기 회전 각도는 0°인 패턴 가공 방법
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제19 항에 있어서,상기 기 설정된 온도는 140℃ 내지 160℃이고,상기 가압력은 1
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