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기재층용 폴리머 및 기공 형성성 무기 입자를 포함하는 원료 조성물을 도포하여 경화막을 형성하는 단계;상기 경화막으로부터 상기 기공 형성성 무기 입자를 식각에 의해 제거하여서, 상기 기공 형성성 무기 입자에서 유래된 구형의 기공이 형성된 다공성 기재층을 얻는 단계; 및상기 다공성 기재층의 일면에, 반복 패턴을 갖는 코팅층을 형성하는 단계;를 포함하는, 복사 냉각용 적층체의 제조 방법
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청구항 1에 있어서,상기 기재층용 폴리머는 불소계 고분자, 아크릴계 고분자, 비닐계 고분자, 다당류 고분자로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 고분자를 포함하는 것인, 복사 냉각용 적층체의 제조 방법
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청구항 2에 있어서,상기 기재층용 폴리머는 폴리비닐리덴 플루오라이드-헥사플루오로프로필렌(Polyvinylidene fluoride-hexafluoropropylene), 또는 그의 공중합체를 포함하는 것인, 복사 냉각용 적층체의 제조 방법
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청구항 1에 있어서,상기 기공 형성성 무기 입자는 SiO2, TiO2, Al2O3, Al 및 Si3N4로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상을 포함하는, 복사 냉각용 적층체의 제조 방법
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청구항 1에 있어서,상기 기공 형성성 무기 입자는 평균 직경이 100 내지 5,000 nm인, 복사 냉각용 적층체의 제조 방법
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청구항 1에 있어서,상기 원료 조성물은 상기 기재층용 폴리머 및 상기 기공 형성성 무기 입자를 1: 0
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청구항 1에 있어서,상기 경화막을 형성하는 단계는, 상기 원료 조성물의 경화막을 40 내지 80 ℃에서 2 내지 5 시간 동안 가열하는 것을 추가로 포함하는 것인, 복사 냉각용 적층체의 제조 방법
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청구항 1에 있어서,상기 구형의 기공의 형성은 상기 기공 형성성 무기 입자를 약산(weak acid) 용액에 의한 식각으로 제거하는 것을 포함하는 것인, 복사 냉각용 적층체의 제조 방법
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청구항 1에 있어서,상기 코팅층을 형성하는 단계는 반복 패턴을 갖는 몰드의 홈부에 코팅층용 폴리머 함유 조성물을 충전하여 상기 몰드의 반복 패턴과 역상인 상기 코팅층용 폴리머의 반복 패턴을 형성하는 단계;상기 코팅층용 폴리머의 반복 패턴의 반대측에 상기 다공성 기재층을 적층하는 단계; 및상기 몰드를 제거하는 단계;를 포함하는, 복사 냉각용 적층체의 제조 방법
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기공 형성성 무기 입자에서 유래된 구형의 기공이 형성된 다공성 기재층; 및상기 다공성 기재층의 일면에 형성된, 반복 패턴을 갖는 코팅층;을 포함하는, 복사 냉각용 적층체
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청구항 10에 있어서,상기 다공성 기재층은 기재층용 폴리머를 포함하고,상기 기재층용 폴리머는 불소계 고분자, 아크릴계 고분자, 비닐계 고분자, 다당류 고분자로 이루어진 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 고분자를 포함하는 것인, 복사 냉각용 적층체
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청구항 11에 있어서,상기 기재층용 폴리머는 폴리비닐리덴 플루오라이드-헥사플루오로프로필렌)(Polyvinylidene fluoride-hexafluoropropylene), 또는 그의 공중합체를 포함하는 것인, 복사 냉각용 적층체
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청구항 10에 있어서,상기 다공성 기재층에서의 구형의 기공은 평균 직경이 100 내지 5,000 nm 이고, 기공률이 40 내지 70 %인, 복사 냉각용 적층체
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청구항 10 내지 청구항 13 중 어느 한 항의 복사 냉각용 적층체를 포함하는, 복사 냉각 소재
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청구항 14의 복사 냉각 소재를 포함하는, 자동차
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