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베이스 기판;상기 베이스 기판의 일면에 형성된 제1 금속 산화물층;상기 제1 금속 산화물층의 상면에 형성된 금속층;상기 금속층의 상면에 형성된 제2 금속 산화물층; 및상기 제2 금속 산화물층의 상면에 증착하여 형성되는 투습 방지층을 포함하는투명 면상 발열체
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제1항에 있어서,상기 제1 및 제2 금속 산화물층은 ZTO(Zinc Tin Oxide), IGZO(Indium Gallium Zinc Oxide), ZAO(Zinc Aluminum Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide) 및 ZnO(Zinc Oxide)로 이루어진 군으로부터 선택되는투명 면상 발열체
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제1항에 있어서,상기 금속층은 Ag, Au, Pt, Al, Cu, Cr, V, Mg, Ti, Sn, Pb, Pd, W 및 이들의 합금으로 이루어진 군에서 선택되는투명 면상 발열체
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제1항에 있어서,상기 투습 방지층은 Al2O3 박막층이며,상기 Al2O3 박막층은 반응성 스퍼터링법(reactive sputtering)을 이용하여 증착된 것인투명 면상 발열체
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제1항에 있어서,상기 제2 금속 산화물층의 두께는 10 내지 50nm이며,상기 투습 방지층의 두께는 20 내지 50 nm인투명 면상 발열체
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1) 베이스 기판을 준비하는 단계;2) 상기 베이스 기판의 일면에 제1 금속 산화물층; 금속층; 및 제2 금속 산화물층의 순으로 적층된 발열층을 형성하는 단계;3) 상기 제2 금속 산화물층의 상면에 투습 방지층을 형성하는 단계; 및4) 상기 발열층의 양 측면에 전극을 형성하는 단계를 포함하며,상기 투습 방지층은 반응성 스퍼터링법(reactive sputtering)에 의해 증착된 Al2O3 박막층인투명 면상 발열체의 제조방법
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제1항 내지 제5항에 따른 투명 면상 발열체를 포함하는투명 히터
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