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반도체 구조체 결함 모니터링 방법 및 장치

  • 기술번호 : KST2023006710
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 반도체 구조체 내에 여기된 캐리어를 형성할 수 있도록 레이저광을 반도체 구조체에 입사하는 단계; 반도체 구조체 내 여기된 캐리어가 재결합하는 동안 반도체 구조체에 전자기파를 조사하는 단계; 반도체 구조체 내 여기된 캐리어와 반응하는 전자기파의 특성 정보를 측정하는 단계; 및 측정된 전자기파의 특성 정보를 포함하는 파라미터를 이용하여 반도체 구조체의 결함 밀도 또는 결함 분포를 판별하는 단계;를 포함하는, 반도체 구조체 결함 모니터링 방법을 제공한다.
Int. CL H01L 21/66 (2006.01.01) G01N 21/95 (2006.01.01) G01N 21/956 (2006.01.01)
CPC H01L 22/12(2013.01) G01N 21/9501(2013.01) G01N 21/956(2013.01)
출원번호/일자 1020220013501 (2022.01.28)
출원인 연세대학교 산학협력단, 동국대학교 산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2023-0117006 (2023.08.07) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 국내출원/신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2022.01.28)
심사청구항수 20

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 연세대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 서대문구
2 동국대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 중구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 조만호 서울특별시 강남구
2 김종훈 경기도 김포시 전원
3 정광식 서울특별시 서대문구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김남식 대한민국 서울특별시 서초구 남부순환로***길 *-*, *층 (양재동, 가람빌딩)(율민국제특허법률사무소)
2 김한 대한민국 서울특별시 서초구 남부순환로***길 *-*, *층 (양재동, 가람빌딩)(율민국제특허법률사무소)
3 이인행 대한민국 서울특별시 서초구 남부순환로***길 *-*, *층 (양재동, 가람빌딩)(율민국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2022.01.28 수리 (Accepted) 1-1-2022-0115385-78
2 보정요구서
Request for Amendment
2022.02.14 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2022-0024257-13
3 [출원서 등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2022.03.14 수리 (Accepted) 1-1-2022-0273801-32
4 [출원서 등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2022.09.21 불수리 (Non-acceptance) 1-1-2022-0995381-92
5 서류반려이유통지서
Notice of Reason for Return of Document
2022.09.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2022-0144922-59
6 [출원인지분변경]권리관계변경신고서
[Applicant Share Change] Report on Change of Proprietary Status
2022.10.06 수리 (Accepted) 1-1-2022-1052599-54
7 특허고객번호 정보변경(경정)신고서·정정신고서
2022.10.07 수리 (Accepted) 4-1-2022-5235822-97
8 서류반려통지서
Notice for Return of Document
2022.11.08 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2022-0167228-64
9 특허고객번호 정보변경(경정)신고서·정정신고서
2022.12.09 수리 (Accepted) 4-1-2022-5292360-75
10 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2023.08.18 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
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번호 청구항
1 1
반도체 구조체 내에 여기된 캐리어를 형성할 수 있도록 레이저광을 반도체 구조체에 입사하는 단계;반도체 구조체 내 여기된 캐리어가 재결합하는 동안 반도체 구조체에 전자기파를 조사하는 단계;반도체 구조체 내 여기된 캐리어와 반응하는 전자기파의 특성 정보를 측정하는 단계; 및측정된 전자기파의 특성 정보를 포함하는 파라미터를 이용하여 반도체 구조체의 결함 밀도 또는 결함 분포를 판별하는 단계;를 포함하는,반도체 구조체 결함 모니터링 방법
2 2
제 1 항에 있어서,레이저광을 반도체 구조체에 입사하는 단계는, 레이저광의 반도체 구조체 내 투과 깊이를 제어하도록 레이저광의 파장을 조절하는 단계를 포함하는,반도체 구조체 결함 모니터링 방법
3 3
제 1 항에 있어서,레이저광을 반도체 구조체에 입사하는 단계는, 레이저광의 반도체 구조체 내 투과 깊이를 제어하도록 레이저광이 반도체 구조체에 입사하는 입사각을 조절하는 단계를 포함하는,반도체 구조체 결함 모니터링 방법
4 4
제 1 항에 있어서,전자기파의 특성 정보는 전자기파의 투과율 또는 반사율을 포함하는,반도체 구조체 결함 모니터링 방법
5 5
제 1 항에 있어서,측정된 전자기파의 특성 정보를 포함하는 파라미터는 시간에 따른 전자기파의 투과율 감쇠 변화량인,반도체 구조체 결함 모니터링 방법
6 6
제 1 항에 있어서,측정된 전자기파의 특성 정보를 포함하는 파라미터는 시간에 따른 전자기파의 투과율 감쇠 함수에 대하여 라플라스 역변환 연산을 통해 산출된 캐리어 재결합 시상수인,반도체 구조체 결함 모니터링 방법
7 7
제 6 항에 있어서,캐리어 재결합 시상수는, 반도체 구조체 내 결함의 유형 별로 분리될 수 있으며, 반도체 구조체 내 결함 밀도와 반비례하는,반도체 구조체 결함 모니터링 방법
8 8
제 7 항에 있어서,캐리어 재결합 시상수는 반도체 구조체 내 제1 유형의 결함에 따른 제1 캐리어 재결합 시상수 및 반도체 구조체 내 제2 유형의 결함에 따른 제2 캐리어 재결합 시상수로 분리될 수 있는,반도체 구조체 결함 모니터링 방법
9 9
제 6 항에 있어서,시간에 따른 전자기파의 투과율 감쇠 함수는 하기의 수학식 1에 의하여 모사될 수 있는,반도체 구조체 결함 모니터링 방법
10 10
제 1 항에 있어서,레이저광은 펨토초 레이저광을 포함하고, 전자기파는 테라헤르츠 파를 포함하는,반도체 구조체 결함 모니터링 방법
11 11
제 1 항에 있어서,반도체 구조체 내 여기된 캐리어는 반도체 구조체 내 여기된 자유전자 또는 정공을 포함하는,반도체 구조체 결함 모니터링 방법
12 12
반도체 구조체 내에 여기된 캐리어를 형성할 수 있도록 반도체 구조체에 입사하는 레이저광을 생성하는 발광부;반도체 구조체 내 여기된 캐리어가 재결합하는 동안 반도체 구조체에 전자기파를 조사하는 전자기파 조사부;반도체 구조체를 투과하거나 반사된 전자기파를 수신하는 전자기파 수신부;전자기파 수신부로 수신된 전자기파의 특성 정보를 측정하는 측정부; 및측정된 전자기파의 특성 정보를 포함하는 파라미터를 이용하여 반도체 구조체의 결함 밀도 또는 결함 분포를 판별하는 연산제어부;를 포함하는,반도체 구조체 결함 모니터링 장치
13 13
제 12 항에 있어서,발광부는 레이저광의 반도체 구조체 내 투과 깊이를 제어하도록 레이저광의 파장을 조절하는 파장 제어유닛을 구비하는,반도체 구조체 결함 모니터링 장치
14 14
제 12 항에 있어서,발광부는 레이저광의 반도체 구조체 내 투과 깊이를 제어하도록 레이저광이 반도체 구조체에 입사하는 입사각을 조절하는 입사각 제어유닛을 구비하는,반도체 구조체 결함 모니터링 장치
15 15
제 12 항에 있어서,발광부는 레이저광의 반도체 구조체 내 투과 깊이를 제어하도록 레이저광의 파장을 조절하는 파장 제어유닛 및 레이저광이 반도체 구조체에 입사하는 입사각을 조절하는 입사각 제어유닛을 구비하는,반도체 구조체 결함 모니터링 장치
16 16
제 12 항에 있어서,전자기파 조사부는 기판의 상방에 위치하고, 전자기파 수신부는 반도체 구조체를 투과한 전자기파를 수신하기 위하여 기판의 하방에 위치하는,반도체 구조체 결함 모니터링 장치
17 17
제 12 항에 있어서,전자기파 조사부는 기판의 상방에 위치하고, 전자기파 수신부는 반도체 구조체에서 반사된 전자기파를 수신하기 위하여 기판의 상방에 위치하는,반도체 구조체 결함 모니터링 장치
18 18
제 12 항에 있어서,측정부는 전자기파의 특성 정보로서 전자기파의 투과율 또는 반사율을 측정하는,반도체 구조체 결함 모니터링 장치
19 19
제 12 항에 있어서,연산제어부는 측정된 전자기파의 특성 정보를 이용한 결과로서 시간에 따른 전자기파의 투과율 감쇠 함수에 대하여 라플라스 역변환 연산을 통해 캐리어 재결합 시상수를 산출하되, 캐리어 재결합 시상수는, 반도체 구조체 내 결함의 유형 별로 분리될 수 있으며, 반도체 구조체 내 결함 밀도와 반비례하는,반도체 구조체 결함 모니터링 장치
20 20
제 12 항에 있어서,발광부는 펨토초 레이저광을 생성하며, 전자기파 조사부는 테라헤르츠 파를 조사하는,반도체 구조체 결함 모니터링 장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.