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기판;상기 기판의 표면 상 층을 이루는 형상으로 형성되고, 복수 개의 웰(well)을 구비하는 웰부;상기 복수 개의 웰 각각의 바닥면에 코팅되어 형성되는 희생층; 및웰의 바닥면 상 상기 희생층의 표면에서 돌출되는 형상으로 형성되고, 외부의 회전 자기장에 의해 회전을 수행하는 스터러를 포함하고,상기 스터러의 회전에 의해 상기 웰 내 용액의 혼합이 수행되는 것을 특징으로 하는 마이크로 스터러를 구비한 미세 웰 플레이트
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청구항 1에 있어서,상기 스터러는, 자성을 띄는 입자인 자성입자를 포함하는 것을 특징으로 하는 마이크로 스터러를 구비한 미세 웰 플레이트
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청구항 2에 있어서,복수 개의 스터러 중 하나의 스터러의 자화 자기장 세기와 다른 스터러의 자화 자기장 세기가 서로 상이한 것을 특징으로 하는 마이크로 스터러를 구비한 미세 웰 플레이트
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4
청구항 1에 있어서,상기 스터러에 회전 자기장을 공급하는 자기장공급부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 마이크로 스터러를 구비한 미세 웰 플레이트
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5
청구항 1에 있어서,상기 스터러의 최장축 길이는, 200 마이크로미터(㎛) 이상인 것을 특징으로 하는 마이크로 스터러를 구비한 미세 웰 플레이트
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6
청구항 1에 있어서,상기 희생층은, 상기 웰에 주입된 용액의 용매에 의해 분해되는 것을 특징으로 하는 마이크로 스터러를 구비한 미세 웰 플레이트
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7
청구항 1에 있어서,상기 기판은 PDMS, PS, PTFE 및 SOG(Spin On Glasses) 소재로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상의 소재로 형성되는 것을 특징으로 하는 마이크로 스터러를 구비한 미세 웰 플레이트
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8
청구항 1에 있어서,상기 웰부는 PDMS, PS, PTFE 및 SOG(Spin On Glasses) 소재로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상의 소재로 형성되는 것을 특징으로 하는 마이크로 스터러를 구비한 미세 웰 플레이트
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9
청구항 1 내지 청구항 8 중 선택되는 어느 하나의 항에 의한 마이크로 스터러를 구비한 미세 웰 플레이트를 포함하는 것을 특징으로 하는 세포 배양 시스템
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10
청구항 1의 마이크로 스터러를 구비한 미세 웰 플레이트의 제조방법에 있어서,상기 기판을 마련하고, 상기 기판 표면에 탄성중합체를 적층시켜 상기 웰부를 형성시키는 제1단계;상기 웰의 내측 바닥면에 상기 희생층이 코팅되는 제2단계; 및상기 웰의 바닥면 상의 희생층에 스터러 형성용 물질을 적층시켜 상기 희생층의 표면에 상기 스터러가 형성되는 제3단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 마이크로 스터러를 구비한 미세 웰 플레이트의 제조방법
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청구항 10에 있어서,상기 제3단계에서, 상기 스터러 형성용 물질은 PDMS, 자성입자, 나노실리카(SiO2) 및 솔벤트의 혼합물인 것을 특징으로 하는 마이크로 스터러를 구비한 미세 웰 플레이트의 제조방법
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청구항 11에 있어서,상기 솔벤트는 DCM(Dichloromethane), Chloroform, MIBK(4-methyl-2-penthanone) 및 IPA(isopropyl alcohol)로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 이상의 물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 마이크로 스터러를 구비한 미세 웰 플레이트의 제조방법
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청구항 10에 있어서,상기 제3단계에서, 상기 스터러의 경화 전 상기 스터러에 외부의 회전 자기장을 제공하여 상기 스터러에 인가된 자기장 방향과 세기를 통해 자성입자의 자화 방향과 최장축 방향 및 길이를 조절하는 것을 특징으로 하는 마이크로 스터러를 구비한 미세 웰 플레이트의 제조방법
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청구항 10에 있어서,상기 웰부, 상기 희생층 및 상기 스터러 각각은 3D 프린팅을 이용하여 형성되는 것을 특징으로 하는 마이크로 스터러를 구비한 미세 웰 플레이트의 제조방법
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