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페로브스카이트 패턴을 포함하고,상기 페로브스카이트 패턴은,기판 위에 희생 패턴을 형성하는 단계;상기 기판 위에 페로브스카이트층을 형성하는 단계; 및상기 희생 패턴을 팽창시켜 상기 페로브스카이트층을 패터닝하는 단계를 포함하는 패턴 형성 방법에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 페로브스카이트 장치
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제 1 항에 있어서,상기 페로브스카이트층을 패터닝하는 단계는 상기 희생 패턴에 역용매를 제공하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 페로브스카이트 장치
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제 2 항에 있어서,상기 희생 패턴은 상기 기판 위에 배치되는 제1 희생 패턴 및 상기 제1 희생 패턴 위에 배치되는 제2 희생 패턴을 포함하고,상기 역용매에 의해 상기 제1 희생 패턴이 용해되고, 상기 제2 희생 패턴이 팽창하는 것을 특징으로 하는 페로브스카이트 장치
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제 3 항에 있어서,상기 제1 희생 패턴은 폴리(메틸 메타크릴레이트)를 포함하고, 상기 제2 희생패턴은 폴리이미드를 포함하며,상기 역용매는 클로로포름을 포함하는 것을 특징으로 하는 페로브스카이트 장치
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제 1 항에 있어서,상기 페로브스카이트 패턴 아래에 배치되는 제1 전하 수송층,상기 제1 전하 수송층 아래에 배치되는 제1 전극,상기 페로브스카이트 패턴 위에 배치되는 제2 전하 수송층, 및상기 제2 전하 수송층 위에 배치되는 상부 전극을 더 포함하고,상기 패턴 형성 방법은 상기 페로브스카이트층을 형성하기 전에 상기 기판 위에 예비 전하 수송층을 형성하는 단계를 더 포함하고,상기 희생 패턴의 팽창에 의해 상기 예비 전하 수송층이 패터닝되어 상기 제1 전하 수송층이 형성되는 것을 특징으로 하는 페로브스카이트 장치
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제 5 항에 있어서,상기 예비 전하 수송층과 상기 페로브스카이트층은 동시에 패터닝되는 것을 특징으로 하는 페로브스카이트 장치
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제 5 항에 있어서,상기 제2 전하 수송층과 상기 제2 전극 사이에 배치되는 버퍼층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 페로브스카이트 장치
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제 5 항에 있어서,상기 제1 전극 아래에 배치되는 제1 나방-눈 구조체, 및상기 제2 전극 위에 배치되는 제2 나방-눈 구조체를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 페로브스카이트 장치
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기판 위에 희생 패턴을 형성하는 단계;상기 기판 위에 페로브스카이트층을 형성하는 단계; 및상기 희생 패턴을 팽창시켜 상기 페로브스카이트층을 패터닝하는 단계를 포함하는 페로브스카이트 장치의 형성 방법
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제 9 항에 있어서,상기 페로브스카이트층을 패터닝하는 단계는 상기 희생 패턴에 역용매를 제공하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 페로브스카이트 장치의 형성 방법
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제 10 항에 있어서,상기 희생 패턴을 형성하는 단계는,상기 기판 위에 제1 희생층을 형성하는 단계,상기 제1 희생층 위에 제2 희생층을 형성하는 단계, 및상기 제1 희생층 및 상기 제2 희생층을 패터닝하여 제1 희생 패턴 및 상기 제1 희생 패턴 위에 배치되는 제2 희생 패턴을 형성하는 단계를 포함하고,상기 역용매에 의해 상기 제1 희생 패턴이 용해되고, 상기 제2 희생 패턴이 팽창하는 것을 특징으로 하는 페로브스카이트 장치의 형성 방법
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제 11 항에 있어서,상기 제1 희생층은 폴리(메틸 메타크릴레이트)로 형성되고, 상기 제2 희생층은 폴리이미드로 형성되며,상기 역용매는 클로로포름을 포함하는 것을 특징으로 하는 페로브스카이트 장치의 형성 방법
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제 10 항에 있어서,상기 페로브스카이트층을 형성하기 전에 상기 기판 위에 예비 전하 수송층을 형성하는 단계를 더 포함하고,상기 희생 패턴의 팽창에 의해 상기 예비 전하 수송층이 패터닝되어 전하 수송층이 형성되는 것을 특징으로 하는 페로브스카이트 장치의 형성 방법
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제 13 항에 있어서,상기 예비 전하 수송층과 상기 페로브스카이트층은 동시에 패터닝되는 것을 특징으로 하는 페로브스카이트 장치의 형성 방법
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