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임시 기판 상에 금속층을 형성하는 것; 상기 금속층 상에 멤브레인을 형성하는 것; 상기 임시 기판을 상기 금속층으로부터 물리적 방법에 의해 분리하여, 상기 금속층의 하면을 노출시키는 것; 및 상기 금속층의 상기 노출된 하면 상에 식각 공정을 수행하여, 상기 멤브레인의 하면을 노출시키는 것을 포함하는 펠리클 구조체 제조 방법
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제 1항에 있어서,상기 멤브레인의 상면 상에 제1 지지층을 형성하는 것을 더 포함하되, 상기 제1 지지층은: 상기 멤브레인의 엣지 영역 상의 바디부; 및상기 바디부와 연결되고, 상기 바디부로부터 수평적으로 연장된 핸들링부를 포함하고, 상기 핸들링부는 평면적 관점에서 상기 멤브레인과 이격된 펠리클 구조체 제조 방법
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제 2항에 있어서,상기 임시 기판을 상기 금속층으로부터 분리하는 것은 상기 제1 지지층의 상기 핸들링부에 외력을 가하여 상기 임시 기판을 상기 금속층으로부터 이격시키는 것을 포함하는 펠리클 구조체 제조 방법
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제 1항에 있어서,상기 임시 기판, 상기 금속층, 및 상기 멤브레인을 용액 내에 제공하는 것을 더 포함하되, 상기 임시 기판을 상기 금속층으로부터 분리하는 것은 상기 용액 내에서 수행되는 펠리클 구조체 제조 방법
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제 4항에 있어서,상기 멤브레인의 엣지 영역 상에 제1 지지층을 형성하여, 상기 멤브레인의 센터 영역을 노출시키 것; 및상기 제1 지지층 상에 제2 지지층을 형성하는 것을 더 포함하되, 상기 제2 지지층은 상기 멤브레인의 상기 센터 영역과 수직적으로 이격되는 펠리클 구조체 제조 방법
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제 5항에 있어서,상기 제1 지지층, 상기 제2 지지층 및 상기 멤브레인에 둘러싸인 빈 공간이 제공되고, 상기 멤브레인의 상기 센터 영역은 상기 용액에 노출되지 않는 펠리클 구조체 제조 방법
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제 1항에 있어서,상기 멤브레인의 상기 노출된 하면 상에 펠리클 프레임을 부착하는 것을 더 포함하는 펠리클 구조체 제조 방법
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제 1항에 있어서,상기 멤브레인의 센터 영역의 상면을 덮는 승화성 지지층을 형성하는 것을 더 포함하되, 상기 승화성 지지층을 형성하는 것 이후 상기 식각 공정을 수행하는 펠리클 구조체 제조 방법
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제 1항에 있어서,상기 임시 기판 및 상기 금속층 사이에 버퍼층을 형성하는 것을 더 포함하되, 상기 임시 기판을 상기 금속층으로부터 분리하는 것은 상기 버퍼층을 상기 금속층으로부터 분리하는 것을 포함하는 펠리클 구조체 제조 방법
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제 1항에 있어서,상기 임시 기판의 분리 속도는 0
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임시 기판 상에 금속 촉매층을 형성하는 것; 상기 금속 촉매층 상에 멤브레인을 형성하는 것;상기 멤브레인의 상면 상에 제1 지지층을 형성하는 것; 및상기 임시 기판을 상기 금속 촉매층으로부터 분리하여, 상기 금속 촉매층의 하면을 노출시키는 것을 포함하되, 상기 제1 지지층은: 상기 멤브레인의 엣지 영역 상의 바디부; 및상기 바디부와 연결되는 핸들링부를 포함하되, 상기 핸들링부는 평면적 관점에서 상기 멤브레인과 이격된 펠리클 구조체 제조 방법
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제 11항에 있어서,상기 임시 기판을 상기 금속 촉매층으로부터 분리하는 것은 상기 제1 지지층의 상기 핸들링부에 외력을 가하여 상기 임시 기판을 상기 금속 촉매층으로부터 이격시키는 것을 포함하는 펠리클 구조체 제조 방법
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제 11항에 있어서,상기 금속 촉매층의 상기 노출된 하면 상에 식각 공정을 수행하여, 상기 멤브레인의 하면을 노출시키는 것을 더 포함하는 펠리클 구조체 제조 방법
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제 11항에 있어서,상기 금속 촉매층의 상면은 (100) 결정면을 가지고, 상기 금속 촉매층의 두께는 400nm 내지 5μm인 펠리클 구조체 제조 방법
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제 11항에 있어서,상기 제1 지지층 상에 제2 지지층을 형성하는 것을 더 포함하되, 상기 제1 지지층, 상기 제2 지지층 및 상기 멤브레인에 둘러싸인 빈 공간이 제공되는 펠리클 구조체 제조 방법
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임시 기판 상에 금속층을 형성하는 것; 상기 금속층 상에 멤브레인을 형성하는 것, 상기 멤브레인은 엣지 영역 및 센터 영역을 갖고; 상기 멤브레인의 상기 엣지 영역 상에 제1 지지층을 형성하는 것;상기 제1 지지층 상에 제2 지지층을 형성하는 것, 상기 제2 지지층은 상기 멤브레인의 상기 센터 영역의 상면과 수직적으로 이격되고; 상기 임시 기판을 상기 금속층으로부터 분리하여, 상기 금속층의 하면을 노출시키는 것; 상기 제2 지지층을 상기 제1 지지층으로부터 분리하는 것; 상기 멤브레인의 상기 센터 영역의 상기 상면을 덮는 승화성 지지층을 형성하는 것; 상기 금속층의 상기 노출된 하면 상에 식각 공정을 수행하여, 상기 멤브레인의 하면을 노출시키는 것; 상기 멤브레인의 상기 노출된 하면 상에 펠리클 프레임을 부착하되, 상기 펠리클 프레임은 상기 멤브레인의 센터 영역과 오버랩되는 것; 및상기 멤브레인 상에 커팅 공정을 수행하여, 상기 멤브레인의 상기 엣지 영역을 제거하는 것을 포함하는 펠리클 구조체 제조 방법
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제 16항에 있어서,상기 임시 기판을 상기 금속층으로부터 분리하는 것은 용액 내에서 수행되는 펠리클 구조체 제조 방법
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제 16항에 있어서,상기 제2 지지층을 형성하는 것은 상기 멤브레인, 상기 제1 지지층, 및 상기 제2 지지층에 둘러싸인 빈 공간을 형성하는 것을 더 포함하고, 상기 멤브레인의 상기 센터 영역의 상기 상면은 상기 빈 공간에 노출된 펠리클 구조체 제조 방법
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제 16항에 있어서,상기 식각 공정을 수행하는 것 및 상기 펠리클 프레임을 부착하는 것은 상기 승화성 지지층이 형성된 후 수행되는 펠리클 구조체 제조 방법
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제 16항에 있어서,상기 멤브레인의 상기 노출된 하면 상에 제3 지지층을 형성하는 것을 더 포함하되, 상기 제3 지지층은 상기 멤브레인의 상기 엣지 영역과 오버랩되고, 상기 펠리클 프레임과 수평적으로 이격된 펠리클 구조체 제조 방법
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