1 |
1
하기 화학식 1로 표시되는 양이온성 염료 및 하기 화학식 2 또는 화학식3으로 표시되는 보레이트 음이온을 포함하는, 근적외선 흡수제
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2 |
2
제 1항에 있어서,상기 화학식 1로 표시되는 양이온성 염료는 하기 화학식 4로 표시되는 것인, 근적외선 흡수제
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3 |
3
제 2항에 있어서,상기 양이온성 염료는 하기 구조에서 선택되는 것인, 근적외선 흡수제
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4 |
4
제 1항에 있어서,상기 화학식 2로 표시되는 보레이트 음이온은 하기 화학식 5 또는 화학식 6으로 표시되는 것인, 근적외선 흡수제
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5 |
5
삭제
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6 |
6
제 1항에 있어서,상기 L1 및 L2는 각각 독립적으로 하기 구조에서 선택되는 것인, 근적외선 흡수제
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7 |
7
제 1항에 있어서,상기 보레이트 음이온은 하기 구조에서 선택되는 것인, 근적외선 흡수제
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8 |
8
제 7항에 있어서,상기 보레이트 음이온은 하기 구조에서 선택되는 것인, 근적외선 흡수제
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9 |
9
제 1항에 있어서,상기 근적외선 흡수제의 최대흡수파장(λmax)은 760 nm 내지 850 nm에 위치하는 것인, 근적외선 흡수제
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10 |
10
제 1항 내지 제 4항 및 제 6항 내지 제 9항에서 선택되는 어느 한 항의 근적외선 흡수제 및 수지를 포함하는, 근적외선 차단용 조성물
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11
제 10항에 있어서,상기 근적외선 흡수제는 조성물 총 중량에 대하여 0
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12
제 11항에 있어서,상기 수지 100 중량부에 대하여 근적외선 흡수제 1 내지 20 중량부로 포함되는 것인, 근적외선 차단용 조성물
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13
제 10항의 근적외선 차단용 조성물을 경화하여 얻은, 근적외선 차단 필터
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14
제 13항에 있어서,상기 근적외선 차단 필터는 가시광선(430 내지 560 nm) 파장의 광투과율이 96% 이상인, 근적외선 차단 필터
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15
제 14항에 있어서,상기 근적외선 차단 필터는 하기 식 1에 따른 광투과도 변화율(△T%)이 15 이하인, 근적외선 차단 필터
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16
제 13항의 근적외선 차단 필터를 포함하는, 고체 촬상 장치
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제 13항의 근적외선 차단 필터를 포함하는, 카메라 모듈
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