| 1 |
1
멀티채널로 입자를 하전시키는 하전장치에 있어서, 멀티채널에 대응하는 제 1 채널격자가 형성된 제 1 하우징;판상으로 상기 제 1 채널격자 내측면에 일측 가장자리가 위치하여 격실을 형성하는 복수의 격실판; 및 상기 제 1 채널격자에 대응하는 형태의 제 2 채널격자 및 상기 제 2 채널격자가 형성하는 각 공간을 분할하고 이온발생기를 삽입 배치시키는 복수의 홀이 형성된 제 1 분할격자가 형성되고, 상기 제 2 채널격자 내측면에 상기 격실판의 타측 가장자리가 위치하고 상기 제 1 분할격자 외측면에 상기 이온발생기에 고전압을 공급하는 고전압 전극이 위치하며, 절연물질로 형성되는 제 2 하우징을 포함하는 멀티채널 하전장치
|
| 2 |
2
제 1 항에 있어서, 상기 제 1 분할격자에 대응하는 제 2 분할격자가 형성되고, 상기 제 2 하우징의 외측면을 덮어 상기 제 2 분할격자가 상기 고전압 전극의 노출을 차단하고, 절연물질로 형성되는 제 3 하우징을 더 포함하는 멀티채널 하전장치
|
| 3 |
3
제 1 항에 있어서, 상기 제 1 분할격자 외측면에 고정되어 상기 고전압 전극의 노출을 차단하고, 절연물질로 형성되는 차단부를 더 포함하는 멀티채널 하전장치
|
| 4 |
4
제 1 항에 있어서, 상기 격실판은 금속으로 형성되어 접지되는 멀티채널 하전장치
|
| 5 |
5
제 1 항에 있어서,상기 제 1 하우징의 제 1 채널격자 내측면에는 상기 격실판이 삽입되어 고정되는 고정슬릿이 형성되는 멀티채널 하전장치
|
| 6 |
6
제 1 항에 있어서, 상기 격실판은일 방향으로 이격 배치되는 복수의 제 1 격실판 및 상기 제 1 격실판에 수직 방향으로 교차되어 이격 배치되는 복수의 제 2 격실판을 포함하고, 상기 제 1 격실판의 상단부와 상기 제 2 격실판의 하단부에는 각각 슬릿이 형성되어 상기 제 1 격실판과 상기 제 2 격실판이 상기 슬릿에 상호 삽입되어 교차 배치되는 멀티채널 하전장치
|
| 7 |
7
제 1 항에 있어서, 상기 격실판은일 방향으로 이격 배치되는 복수의 제 1 격실판 및 상기 제 1 격실판에 수직 방향으로 교차되어 이격 배치되는 복수의 제 2 격실판을 포함하고,상기 제 1 격실판과 상기 제 2 격실판은 격실 외부로 돌출되는 연결부를 포함하고, 일 방향으로 이격 배치되는 복수의 격실판 중 일측 가장자리에 위치하는 격실판의 연결부는 절곡되어 타측 가장자리에 위치하는 격실판을 향하여 띠 모양으로 연장되어 다른 격실판의 연결부와 접촉하여 전기적으로 연결되는 멀티채널 하전장치
|
| 8 |
8
제 1 항에 있어서, 상기 격실판은일 방향으로 이격 배치되는 복수의 제 1 격실판 및 상기 제 1 격실판에 수직 방향으로 교차되어 이격 배치되는 복수의 제 2 격실판을 포함하고,상기 제 1 격실판과 상기 제 2 격실판은 격실 외부로 돌출되는 연결부를 포함하고, 이웃하는 격실판의 연결부 사이를 전기적으로 연결하는 연결 프레임을 더 포함하는 멀티채널 하전장치
|
| 9 |
9
제 7 항 또는 제 8 항에 있어서, 상기 연결부는 상기 제 1 하우징에 고정되는 멀티채널 하전장치
|
| 10 |
10
제 1 항에 있어서, 상기 이온발생기는 탄소 섬유로 형성되는 멀티채널 하전장치
|
| 11 |
11
이온을 발생시켜 공기 중에 포함된 입자를 하전시키는 하전장치;상기 하전장치 후단에 배치되고, 전위차를 형성하는 이격된 두 전극판을 포함하고, 전위차에 의한 전기장의 힘으로 하전된 입자를 포집하는 집진장치를 포함하고, 상기 하전장치는 멀티채널에 대응하는 제 1 채널격자가 형성된 제 1 하우징;판상으로 상기 제 1 채널격자 내측면에 일측 가장자리가 위치하여 격실을 형성하는 복수의 격실판; 및 상기 제 1 채널격자에 대응하는 형태의 제 2 채널격자 및 상기 제 2 채널격자가 형성하는 각 공간을 분할하고 이온발생기를 삽입 배치시키는 복수의 홀이 형성된 제 1 분할격자가 형성되고, 상기 제 2 채널격자 내측면에 상기 격실판의 타측 가장자리가 위치하고 상기 제 1 분할격자 외측면에 상기 이온발생기에 고전압을 공급하는 고전압 전극이 위치하며, 절연물질로 형성되는 제 2 하우징을 포함하는 전기집진기
|
