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히드록시기 및 에스터기를 포함하는 열경화성 수지 전구체; 및광-잠재성 촉매를 포함하는 열경화성 수지 조성물로서,상기 광-잠재성 촉매는,미리 정해진 파장 범위의 빛에 노출되어 산 또는 염기를 발생하는 것이며,상기 열경화성 수지는,경화된 상태에서 상기 빛에 노출된 이후 열 처리를 통해 변형 가능한 것인, 열경화성 수지 조성물
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제1항에 있어서,상기 열경화성 수지 전구체는 히드록시기와 에스터기를 0
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제1항에 있어서,상기 열경화성 수지 전구체는 티올기를 포함하는 제1 단량체 및 티올기 반응성기를 포함하는 제2 단량체의 티올-마이클 첨가 반응 생성물인, 열경화성 수지 조성물
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제3항에 있어서,상기 티올기 반응성기는 아크릴레이트기 및 메타크릴레이트기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 하나 이상인, 열경화성 수지 조성물
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제3항에 있어서,상기 열경화성 수지 전구체는 티올기 및 티올기 반응성기를 0
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제3항에 있어서,상기 광-잠재성 촉매는 상기 제1 단량체 대비 1 내지 10 mol%로 포함되는 것인, 열경화성 수지 조성물
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제1항에 있어서,상기 광-잠재성 촉매는 1,5,7-트리아자바이시클로[4
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제1항에 있어서,상기 파장 범위는 200 내지 600 nm인, 열경화성 수지 조성물
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제1항에 있어서,상기 열 처리는 100 내지 240℃에서 경화된 열경화성 수지를 가열하는 것인, 열경화성 수지 조성물
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(S10) 티올기를 포함하는 제1 단량체, 티올기 반응성기를 포함하는 제2 단량체, 라디칼 개시제 및 광-잠재성 촉매를 혼합하는 단계; 및(S20) 상기 (S10) 단계의 혼합물을 100 내지 240℃에서 10분 내지 3시간 동안 가열하는 단계를 포함하는 열경화성 수지 조성물의 제조 방법
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제10항에 있어서,상기 (S10) 단계는 상기 제1 단량체 및 상기 제2 단량체를 0
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제11항에 있어서,상기 (S10) 단계는 상기 광-잠재성 촉매를 상기 제1 단량체 대비 1 내지 10 mol%로 혼합하는 것인, 열경화성 수지 조성물의 제조 방법
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제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 따른 열경화성 수지 조성물을 경화하여 얻어지는 열경화성 수지
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(S100) 제13항에 따른 열경화성 수지에 미리 정해진 파장 범위의 빛을 조사하는 단계;(S200) 상기 열경화성 수지를 원하는 형상으로 변형하는 단계; 및(S300) 상기 열경화성 수지를 열 처리하는 단계를 포함하며,상기 (S200) 단계 및 상기 (S300) 단계는,상기 (S100) 단계의 이후에 동시에 이루어지거나, 상기 (S100) 단계 이후에 임의의 순서로 이시에 이루어지는 것인, 열경화성 수지의 가공 방법
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제14항에 있어서,상기 (S100) 단계는 200 내지 600 nm 파장 범위의 빛을 10 초 내지 2 분 동안 조사하는 것인, 열경화성 수지의 가공 방법
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제14항에 있어서,상기 (S300) 단계는 상기 열경화성 수지를 100 내지 240℃로 가열하는 것인, 열경화성 수지의 가공 방법
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제14항에 있어서,상기 (S300) 단계는 상기 열경화성 수지를 1 내지 50 MPa로 가압하는 것을 더 포함하는, 열경화성 수지의 가공 방법
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