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다수의 기공과 이에 의해 형성된 마이크로 구조를 갖는 베이스 기재;상기 베이스 기재 내부의 기공을 채우고 상기 베이스 기재 표면의 기공 및 이에 의해 형성된 마이크로 구조를 노출하는 수지층;상기 베이스 기재 표면의 마이크로 구조 내부 및 이의 상부에 배치된 색변환체 나노입자들; 및상기 색변환체 나노입자들이 배치된 상기 베이스 기재 표면을 덮는 봉지층을 포함하는 광학 요소
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청구항 1에 있어서,상기 베이스 기재는 섬유 또는 패브릭인 광학 요소
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청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,상기 베이스 기재는 고분자 기재인 광학 요소
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청구항 1에 있어서,상기 수지층 내에 분산된 유기 형광체 결정들을 더 포함하는 광학 요소
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청구항 1에 있어서,상기 색변환체 나노입자들은 양자점인 광학 요소
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청구항 1에 있어서,상기 색변환체 나노입자들과 더불어 상기 베이스 기재 표면의 마이크로 구조 내부 및 이의 상부에 배치된 고굴절 나노 입자들을 더 포함하는 광학 요소
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7
다수의 기공과 이에 의해 형성된 마이크로 구조를 갖는 베이스 기재를 제공하는 단계;상기 베이스 기재의 적어도 일면 상에 액상 수지를 도포한 후 열처리하여 상기 액상 수지를 상기 베이스 기재 내부의 기공을 채우고 상기 베이스 기재 표면의 기공 및 이에 의해 형성된 마이크로 구조를 노출하도록 하는 단계;상기 액상 수지를 경화시키는 단계;상기 베이스 기재 표면의 마이크로 구조 내부 및 이의 상부에 색변환체 나노입자들을 도포하는 단계;상기 색변환체 나노입자들이 도포된 상기 베이스 기재 표면을 덮는 봉지층을 형성하는 단계를 포함하는 광학 요소 제조방법
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8
청구항 7에 있어서,상기 베이스 기재는 고분자 기재이고,상기 열처리는 상기 베이스 기재의 유리전이온도보다 높은 온도에서 수행하는 광학 요소 제조방법
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9
청구항 7 또는 청구항 8에 있어서,상기 액상 수지는 UV에 의해 경화하는 광학 요소 제조방법
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10
청구항 1의 광학요소의 봉지층 상에 배치된 제1 전극;상기 제1 전극 상에 배치된 발광층;상기 발광층 상에 배치된 제2 전극을 포함하는 발광소자
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11
청구항 10에 있어서,상기 발광층은 유기 발광층이고,상기 제1 전극과 상기 유기 발광층 사이에 위치하는 제1 전자 주입층 및/또는 제1 전자 수송층; 및상기 유기 발광층과 상기 제2 전극 사이에 위치하는 제2 전자 수송층 및/또는 제1 전자 주입층을 더 포함하는 발광소자
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