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상변화 메모리 장치 및 이의 제조 방법

  • 기술번호 : KST2023008066
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명에 의하면, 전극, 전극 상에 위치하는 제1 레이어, 및 제1 레이어 상에 위치하는 제2 레이어를 포함하고, 제1 레이어는 국소적으로 형성된 상변화 물질 영역을 포함하는 것인, 상변화 메모리를 제공할 수 있다.
Int. CL H10N 70/20 (2023.01.01) H10N 70/00 (2023.01.01) H10B 63/00 (2023.01.01)
CPC H10N 70/231(2013.01) H10N 70/826(2013.01) H10B 63/20(2013.01)
출원번호/일자 1020230006942 (2023.01.17)
출원인 한국과학기술원
등록번호/일자 10-2581503-0000 (2023.09.18)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20230921) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보 대한민국  |   1020220142950   |   2022.10.31
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 국내출원/신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2023.01.17)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 최신현 대전광역시 유성구
2 박시온 대전광역시 유성구
3 홍석만 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 박창선 대한민국 서울특별시 송파구 송파대로 ***, A동 ***-*호 (문정동, 송파 테라타워*)(태창특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술원 대한민국 대전광역시 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2023.01.17 수리 (Accepted) 1-1-2023-0064873-07
2 [우선심사신청]심사청구서·우선심사신청서
2023.01.17 수리 (Accepted) 1-1-2023-0065386-41
3 특허고객번호 정보변경(경정)신고서·정정신고서
2023.01.31 수리 (Accepted) 4-1-2023-5023571-05
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2023.04.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2023-0364895-06
5 특허고객번호 정보변경(경정)신고서·정정신고서
2023.05.04 수리 (Accepted) 4-1-2023-5110236-33
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견서·답변서·소명서
2023.06.19 수리 (Accepted) 1-1-2023-0673325-16
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2023.06.19 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2023-0673355-86
8 등록결정서
Decision to grant
2023.08.25 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2023-0775686-99
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
전극;상기 전극 상에 위치하는 제1 레이어; 및상기 제1 레이어 상에 위치하는 제2 레이어를 포함하고,상기 제1 레이어는 국소적으로 형성된 상변화 물질 영역을 포함하는 것이고,상기 상변화 물질 영역은 상기 제1 레이어의 물질과 상기 제2 레이어의 물질의 결합물로 구성되는 것이고,상기 제1 레이어의 물질은 14족 원소를 포함하고, 상기 제2 레이어의 물질은 15족 또는 16족 원소를 포함하는 것인, 상변화 메모리
2 2
제1항에 있어서, 상기 제2 레이어 상에 위치하는 상부 전극을 더 포함하는 상변화 메모리
3 3
삭제
4 4
제1항에 있어서, 상기 제1 레이어의 물질은 Si를 포함하고, 상기 제2 레이어의 물질은 Te를 포함하는 것인, 상변화 메모리
5 5
삭제
6 6
제1항에 있어서, 상기 제2 레이어는 상부 전극으로서 기능하는 것인, 상변화 메모리
7 7
제1항에 있어서, 상기 상변화 물질 영역은 나노스케일의 필라멘트 형태를 갖는 것인, 상변화 메모리
8 8
제1항에 있어서, 상기 상변화 물질 영역은 상기 제2 레이어에 가해지는 전압에 의해 상기 제2 레이어의 물질이 상기 제1 레이어에 제공되어 형성되는 것인, 상변화 메모리
9 9
전극;상기 전극 상에 위치하는 제1 레이어; 및상기 제1 레이어 상에 위치하는 제2 레이어를 포함하고,상기 제1 레이어는 국소적으로 형성된 나노 필라멘트를 포함하고, 상기 나노 필라멘트는 상변화 물질 특성을 갖는 것이고,상기 나노 필라멘트는 상기 제1 레이어의 물질과 상기 제2 레이어의 물질의 결합물로 구성되는 것이고,상기 제1 레이어의 물질은 14족 원소를 포함하고, 상기 제2 레이어의 물질은 15족 또는 16족 원소를 포함하는 것인, 상변화 메모리
10 10
전극을 형성하는 단계;상기 전극 상에 제1 레이어를 형성하는 단계;상기 제1 레이어 상에 제2 레이어를 형성하는 단계; 및상기 제2 레이어에 가해지는 전압에 의해 상기 제1 레이어에 국소적으로 상변화 물질 영역을 형성하는 단계를 포함하고,상기 상변화 물질 영역은 상기 제1 레이어의 물질과 상기 제2 레이어의 물질의 결합물로 구성되는 것이고,상기 제1 레이어의 물질은 14족 원소를 포함하고, 상기 제2 레이어의 물질은 15족 또는 16족 원소를 포함하는 것인, 상변화 메모리 제조 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.