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지지층; 및 상기 지지층 상에 배치된 패턴층으로서 복수의 돌출 패턴을 포함하는 패턴층을 포함하되,상기 돌출 패턴은 제1 그루브 및 평면상 만입부를 가지고,평면 시점에서, 상기 제1 그루브는 상기 돌출 패턴의 가장자리에 둘러싸인 영역에 위치하고, 상기 제1 그루브의 평면 형상은 폐루프를 이루는 연마 패드
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제1항에 있어서, 단면 상에서, 상기 제1 그루브는 적어도 부분적으로 수직한 내측벽을 갖는 연마 패드
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제1항에 있어서, 상기 패턴층은, 기준면을 형성하는 베이스, 및 상기 베이스 상에 배치된 상기 돌출 패턴을 포함하고, 상기 만입부는 곡선형 만입부이고,상기 돌출 패턴은, 상기 만입부의 기저면에 의해 형성된 단차를 갖는 연마 패드
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제3항에 있어서, 단면 상에서, 상기 곡선형 만입부는 적어도 부분적으로 수직한 내측벽을 갖는 연마 패드
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제3항에 있어서, 상기 베이스는, 평면상 폐루프 형상을 갖는 제2 그루브를 갖는 연마 패드
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제5항에 있어서,상기 제1 그루브의 평면상 면적은, 상기 제2 그루브의 평면상 면적의 ±10% 범위 내에 있는 연마 패드
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제1항에 있어서,상기 패턴층은, 기준면을 형성하는 베이스, 및 상기 베이스 상에 배치된 상기 돌출 패턴을 포함하고,상기 베이스는,평면상 폐루프 형상을 가지고, 상기 돌출 패턴과 이격된 제2 그루브, 및평면상 폐루프 형상을 가지고, 상기 돌출 패턴과 인접한 제3 그루브를 갖는 연마 패드
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8
제1항에 있어서,상기 패턴층은, 기준면을 형성하는 베이스, 및 상기 베이스 상에 배치된 상기 돌출 패턴을 포함하고,상기 베이스는,평면상 폐루프 형상을 가지고, 상기 돌출 패턴과 이격된 제2 그루브, 및평면상 폐루프 형상을 가지고, 그 내부에 단차면을 갖는 제3 그루브를 갖는 연마 패드
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제8항에 있어서,상기 패턴층의 타면으로부터 상기 제3 그루브의 최저 기저면까지의 거리는, 상기 패턴층의 타면으로부터 상기 제2 그루브의 최저 기저면까지의 거리의 ±10% 범위 내에 있는 연마 패드
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10
제8항에 있어서,상기 제1 그루브의 최대 깊이는, 상기 제2 그루브의 최대 깊이의 ±10% 범위 내에 있는 연마 패드
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11
제1항에 있어서,상기 패턴층은, 기준면을 형성하는 베이스, 및 상기 베이스 상에 배치된 상기 돌출 패턴을 포함하고,상기 베이스는,평면상 폐루프 형상을 가지고, 상기 돌출 패턴과 이격된 제2 그루브, 및평면상 폐루프 형상을 가지고, 상기 제2 그루브 보다 작은 평면상 크기를 갖는 제3 그루브를 갖는 연마 패드
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12
제1항에 있어서,상기 돌출 패턴이 갖는 하나 이상의 만입부 중 최대 폭을 갖는 만입부의 폭은, 상기 제1 그루브의 폭의 ±10% 범위 내에 있는 연마 패드
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13
제1항에 있어서,상기 제1 그루브의 최대 폭은, 상기 돌출 패턴의 최소폭의 40% 이상 100% 미만인 연마 패드
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14
제1항에 있어서,상기 돌출 패턴이 갖는 어느 만입부와 다른 만입부 간의 최소 이격 거리는, 어느 돌출 패턴과 다른 돌출 패턴 간의 최소 이격 거리 보다 작은 연마 패드
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15
제1항에 있어서,평면 시점에서, 상기 제1 그루브를 둘러싸는 부분은, 그 외의 부분에 비해 HSV 좌표 상 낮은 채도 또는 낮은 명도 갖는 색인 연마 패드
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16
제1항에 있어서,상기 제1 그루브의 기저면이 형성하는 표면 왜도는, 상기 돌출 패턴의 최상면의 표면 왜도 보다 큰, 연마 패드
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17
제1항에 있어서,상기 패턴층은 동심원 형상 또는 방사상으로 형성된 하나 이상의 트렌치를 더 포함하되, 연마 패드 전체 면적에 대해 트렌치가 점유하는 면적의 비율은 10% 내지 50% 범위에 있는 연마 패드
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18
지지층; 및 상기 지지층 상에 배치된 패턴층으로서 베이스 및 베이스 상에 배치된 복수의 돌출 패턴을 포함하는 패턴층을 포함하고,상기 복수의 돌출 패턴은 서로 이격된 제1 돌출 패턴과 제2 돌출 패턴으로서, 상면으로부터 함몰된 제1 그루브를 갖는 제1 돌출 패턴, 및 가장자리가 만입된 평면상 만입부를 갖는 제2 돌출 패턴을 포함하되,상기 패턴층의 타면으로부터 상기 제1 그루브의 기저면까지의 거리는, 상기 패턴층의 타면으로부터 상기 만입부의 기저면까지의 거리의 ±10% 범위 내에 있거나, 또는상기 제1 그루브의 최대 깊이는, 상기 베이스에 형성된 제2 그루브의 최대 깊이의 ±10% 범위 내에 있는, 연마 패드
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지지층; 및 상기 지지층 상에 배치된 패턴층으로서 베이스 및 베이스 상에 배치된 복수의 돌출 패턴을 포함하는 패턴층을 포함하되,상기 돌출 패턴은 적어도 부분적으로 수직한 내측벽을 갖는 제1 그루브를 가지고,상기 베이스는 단면상 적어도 부분적으로 수직한 내측벽을 갖는 제2 그루브를 갖는 연마 패드
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20
제1항 내지 제19항 중 어느 한 항에 따른 연마 패드를 포함하는 연마 장치
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돌출 패턴을 포함하는 패턴층을 형성하는 단계; 및상기 패턴층에 레이저를 조사하는 단계를 포함하되,상기 레이저를 조사하는 단계에서, 상기 레이저는 적어도 부분적으로 돌출 패턴에 조사되어, 돌출 패턴 상면의 제1 그루브, 또는 돌출 패턴 가장자리의 평면상 만입부를 형성하는, 패턴층을 포함하는 연마 패드의 제조 방법
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