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질소산화물과 결합 반응하는 중심금속이온; 및 상기 중심금속이온과 배위결합하는 리간드를 포함하고,상기 중심금속이온은 산화되었을 때, 결합한 질소산화물을 분리하고,산화된 상기 중심금속이온은 환원되어 질소산화물과 다시 결합할 수 있는, 재사용 가능한 금속 착화합물
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제1항에 있어서,상기 중심금속이온은 철 이온을 포함하는, 금속 착화합물
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제1항에 있어서,상기 리간드는 에틸렌-다이아민-테트라아세트산(ethylene-diamine-tetraacetic acid; EDTA), 소듐 2,3-다이메르캅토프로판술폰산(sodium 2,3-dimercaptopropanesulfonate; DMPS), 시스테인산(cysteic acid; CA), (메틸-피리딘-2-일메틸-아미노)-아세트산(methyl-pyridine-2-ylmethyl-amino)-acetic acid; MPMAA), 트라이페닐포스파인-3,3', 3''-트라이소듐(triphenylphosphine-3,3',3''-trisulfonic acid trisodium; TPPTS), m-설포네이티드 1,2-비스(다이페닐포스피노)에테인(m-sulfonated 1,2-bis(diphenylphosphino)ethane; DPPETS)로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나를 포함하는, 금속 착화합물
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질소산화물을 포함하는 기체의 유동로;상기 유동로를 통해 유입된 질소산화물을 포함하는 기체와 접촉하는 금속 착화합물을 포함하고,상기 금속 착화합물은 질소산화물과 결합 반응하는 중심금속이온; 및 상기 중심금속이온과 배위결합하는 리간드를 포함하고,상기 중심금속이온은 산화되었을 때, 결합한 질소산화물을 분리하고,산화된 상기 중심금속이온은 환원되어 질소산화물과 다시 결합할 수 있는, 재사용 가능한 것인, 질소산화물 제거 장치
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제4항에 있어서,상기 금속 착화합물은 수용액 상태로 제공되는, 질소산화물 제거 장치
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제4항에 있어서,상기 금속 착화합물은 산화전극; 환원전극; 및 상기 산화전극과 상기 환원전극 사이에는 분리막을 포함하는 전기화학전지 내부에 제공되는, 질소산화물 제거 장치
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제6항에 있어서,상기 산화전극 측에서 질소산화물과 결합된 상기 금속 착화합물 내 상기 중심금속이온이 산화되고, 상기 중심금속이온의 산화에 의해 해리된 질소산화물은 상기 전기화학전지 외부에서 포집되는, 질소산화물 제거 장치
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제6항에 있어서,상기 환원전극 측에서 상기 금속 착화합물 내 산화된 상기 중심금속이온이 환원되고, 환원된 상기 중심금속이온을 포함하는 상기 금속 착화합물은 질소산화물과 결합할 수 있도록 상기 전기화학전지 외부로 이송되는, 질소산화물 제거 장치
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질소산화물을 포함하는 기체와 금속 착화합물을 접촉시키는 제1 단계를 포함하고,질소산화물과 상기 금속 착화합물이 접촉했을 때, 질소산화물은 상기 금속 착화합물의 중심금속이온에 결합되고,상기 금속 착화합물은 질소산화물과 결합 반응하는 중심금속이온; 및 상기 중심금속이온과 배위결합하는 리간드를 포함하고,상기 중심금속이온은 산화되었을 때, 결합한 질소산화물을 분리하고, 산화된 상기 중심금속이온은 환원되어 질소산화물과 다시 결합할 수 있는 것인, 질소산화물 제거 방법
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제9항에 있어서,상기 제1 단계 후 질소산화물과 결합된 상기 금속 착화합물을 산화시키고 산화된 상기 중심금속이온으로부터 질소산화물을 분리하는 제2 단계; 및분리된 질소산화물을 포집하는 제3 단계를 더 포함하는, 질소산화물 제거 방법
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제10항에 있어서,상기 제2 단계에서 질소산화물과 결합된 상기 금속 착화합물을 산화시키는 단계와 상기 금속 착화합물로부터 질소산화물을 분리하는 단계는 서로 다른 위치에서 수행되는, 질소산화물 제거 방법
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제10항에 있어서,상기 제2 단계 후 산화된 상기 금속 착화합물을 환원시키고, 환원된 상기 금속 착화합물을 유입된 질소산화물을 포함하는 기체와 접촉시키기 위해 이송하는 제4 단계를 더 포함하는, 질소산화물 제거 방법
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제12항에 있어서,상기 제1 단계 내지 상기 제4 단계를 복수 번 반복하는, 질소산화물 제거 방법
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