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금속 및 상기 금속의 표면에 형성된 유기 물질을 포함하는 식각 촉매를 함유하는 촉매 용액을 준비하는 단계;상기 촉매 용액에 탄소 재료를 침지하는 단계; 및상기 탄소 재료를 열처리하여 표면에 기공을 형성하는 단계;를 포함하고,상기 금속은, 철, 코발트, 구리 및 니켈로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 하나를 포함하는,탄소계 전극 재료의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 유기 물질은, 트리에탄올아민(triethanolamine), 트리프로판올아민(tripropanolamine), 3-(비스(2-하이드록시에틸)아미노)-2-하이드록시프로판-1-설폰산(3-(bis(2-hydroxyethyl)amino)-2-hydroxypropane-1-sulfonic acid) 및 2,2-비스(하이드록시메틸)-2,2',2'-나이트로트리에탄올(2,2-bis(hydroxymethyl)-2,2',2'-nitrotriethanol)로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 하나를 포함하는 것인,탄소계 전극 재료의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 기공을 형성하는 단계는, 제1 열처리하는 단계 및 제2 열처리하는 단계를 포함하는 것이고,상기 제1 열처리하는 단계를 통해 상기 탄소 재료의 표면에 제1 기공이 형성되는 것이고,상기 제2 열처리하는 단계를 통해 상기 제1 기공의 기공 벽에 제2 기공이 형성되는 것인,탄소계 전극 재료의 제조방법
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제1 기공이 표면에 형성되고, 상기 제1 기공의 기공 벽에 제2 기공이 형성되는 탄소 재료를 포함하고,상기 제2 기공의 직경은, 상기 제1 기공의 직경보다 작은 것인,탄소계 전극 재료
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제4항에 있어서,상기 제1 기공의 직경은, 300 ㎚ 내지 1 ㎛이고,상기 제2 기공의 직경은, 3 ㎚ 내지 10 ㎚인 것인,탄소계 전극 재료
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