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불소계 화합물;리튬염; 및그래핀계 화합물을 포함하는 가교제;를 포함하는 겔 고분자 전해질용 조성물
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제1항에 있어서,상기 불소계 화합물은 폴리(비닐리덴 플루오라이드-헥사플루오로프로필렌) (poly(vinylidene fluoride-co-hexafluoropropylene), PVDF-HFP), 과불소 술폰산계 고분자 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 어느 하나를 포함하는 겔 고분자 전해질용 조성물
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제1항에 있어서,상기 리튬염은 lithium 1-(3-(methacryloyloxy)propylsulfonyl)-1-(trifluoromethanesulfonyl)imide (LiMTFSI), lithium (4-styrenesulfonyl) (trifluoromethanesulfonyl) imide (LiSTFSI) 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 어느 하나를 포함하는 겔 고분자 전해질용 조성물
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제1항에 있어서,상기 가교제는 메타크릴레이트로 표면 개질된 그래핀 옥사이드를 포함하는 겔 고분자 전해질용 조성물
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제1항에 있어서,상기 불소계 화합물 및 리튬염의 질량비는 1 : 0
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제1항에 있어서,상기 불소계 화합물 및 리튬염 98중량% 초과 및 100중량% 미만; 및 상기 가교제 0중량% 초과 및 2중량% 미만를 포함하는 겔 고분자 전해질용 조성물
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제1항에 있어서,벤조일 퍼옥사이드 (Benzoyl peroxide), 아세틸 퍼옥사이드 (Acetyl peroxide), 디라우릴 퍼옥사이드 (Dilauryl peroxide), 디-t-부틸 퍼옥사이드 (Di-tert-butylperoxide), t-부틸 퍼옥시-2-에틸-헥사노에이트 (t-butyl peroxy-2-ethyl-hexanoate), 큐밀 하이드로퍼옥사이드 (Cumyl hydroperoxide), 과산화수소 (Hydrogen peroxide), 2,2-아조비스(2-시아노부탄) [2,2-Azobis(2-cyanobutane)], 2,2-아조비스(메틸부티로니트릴) [2,2-Azobis(Methylbutyronitrile)], 아조비스(이소부티로니트릴) [AIBN (Azobis(isobutyronitrile)], 아조비스디메틸 발레로니트릴 [AMVN (Azobisdimethyl-Valeronitrile)] 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 어느 하나의 개시제를 더 포함하는 겔 고분자 전해질용 조성물
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양극층; 음극층; 및 상기 양극층과 음극층 사이에 위치하는 전해질층;을 포함하고, 상기 전해질층은 겔 고분자 전해질을 포함하며, 상기 겔 고분자 전해질은 불소계 화합물, 리튬염 및 그래핀계 화합물을 포함하는 가교제가 가교된 다공성의 막을 포함하는 리튬이차전지
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제8항에 있어서,상기 불소계 화합물은 폴리(비닐리덴 플루오라이드-헥사플루오로프로필렌) (poly(vinylidene fluoride-co-hexafluoropropylene), PVDF-HFP), 과불소 술폰산계 고분자 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 어느 하나를 포함하는 리튬이차전지
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제8항에 있어서,상기 리튬염은 lithium 1-(3-(methacryloyloxy)propylsulfonyl)-1-(trifluoromethanesulfonyl)imide (LiMTFSI), lithium (4-styrenesulfonyl) (trifluoromethanesulfonyl) imide (LiSTFSI) 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 어느 하나를 포함하는 리튬이차전지
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제8항에 있어서,상기 가교제는 메타크릴레이트로 표면 개질된 그래핀 옥사이드를 포함하는 리튬이차전지
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제8항에 있어서,상기 불소계 화합물 및 리튬염의 질량비는 1 : 0
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제8항에 있어서,상기 겔 고분자 전해질은 상기 불소계 화합물 및 리튬염 98중량% 초과 및 100중량% 미만; 및 상기 가교제 0중량% 초과 및 2중량% 미만를 포함하는 리튬이차전지
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제8항에 있어서,상기 전해질층은 상기 겔 고분자 전해질에 함침된 액체 전해질을 더 포함하는 리튬이차전지
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불소계 화합물, 리튬염 및 그래핀계 화합물을 포함하는 가교제를 포함하는 용액을 준비하는 단계;상기 용액에 개시제를 투입하여 반응물을 준비하는 단계; 및상기 반응물을 기재 상에 도포하고 in-situ 가교하는 단계;를 포함하는 겔 고분자 전해질의 제조방법
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제15항에 있어서,상기 불소계 화합물은 폴리(비닐리덴 플루오라이드-헥사플루오로프로필렌) (poly(vinylidene fluoride-co-hexafluoropropylene), PVDF-HFP), 과불소 술폰산계 고분자 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 어느 하나를 포함하는 겔 고분자 전해질의 제조방법
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제15항에 있어서,상기 리튬염은 lithium 1-(3-(methacryloyloxy)propylsulfonyl)-1-(trifluoromethanesulfonyl)imide (LiMTFSI), lithium (4-styrenesulfonyl) (trifluoromethanesulfonyl) imide (LiSTFSI) 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 어느 하나를 포함하는 겔 고분자 전해질의 제조방법
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제15항에 있어서,상기 가교제는 메타크릴레이트로 표면 개질된 그래핀 옥사이드를 포함하는 겔 고분자 전해질의 제조방법
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제15항에 있어서,상기 불소계 화합물 및 리튬염의 질량비는 1 : 0
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제15항에 있어서,상기 용액은 상기 불소계 화합물 및 단량체 98중량% 초과 및 100중량% 미만; 및 상기 가교제 0중량% 초과 및 2중량% 미만를 포함하는 겔 고분자 전해질의 제조방법
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