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복수개의 홀(hole)을 갖는 리튬저항성(lithiophobic) 멤브레인, 및상기 리튬저항성 멤브레인의 일면에 형성된 복수개의 리튬친화적(lithiophilic) 촉매를 포함하는, 리튬 전지용 음극재
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제 1 항에 있어서,상기 리튬저항성 멤브레인이 2차원 나노탄소 물질로 이루어진, 리튬 전지용 음극재
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제 1 항에 있어서,상기 홀의 입경이 50 내지 1,000nm인, 리튬 전지용 음극재
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제 1 항에 있어서,상기 리튬저항성 멤브레인에서 홀의 밀도가 0
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제 1 항에 있어서,상기 리튬친화적 촉매가, 산화아연(ZnO), 산화니켈(NiO) 및 산화구리(CuO)로 구성된 군에서 선택되는 1종 이상의 금속산화물; 또는 은(Ag), 금(Au), 백금(Pt) 및 아연(Zn)으로 구성된 군에서 선택되는 1종 이상의 금속을 포함하는, 리튬 전지용 음극재
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제 1 항에 있어서,상기 리튬친화적 촉매가, 로드(rod), 스피어(sphere), 플레이트(plate), 플레이크(flake), 튜브(tube) 및 와이어(wire)로 구성된 군에서 선택된 1종 이상의 3차원 형상을 갖는, 리튬 전지용 음극재
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제 1 항에 있어서,상기 리튬친화적 촉매가 집전체 방향을 향하도록 배치되는, 리튬 전지용 음극재
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제 1 항에 있어서,상기 리튬저항성 멤브레인의 리튬 환원에 대한 에너지 장벽이, 리튬친화적 촉매의 리튬 환원에 대한 에너지 장벽의 2배 이상인, 리튬 전지용 음극재
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마스킹(masking)된 기판에 리튬저항성 물질을 성장시키는 단계; 상기 마스킹을 제거하여 복수개의 홀(hole)을 갖는 리튬저항성 멤브레인을 형성하는 단계; 및 상기 리튬저항성 멤브레인의 일면에 수열합성(hydrothermal method)을 통해 복수개의 리튬친화적 촉매를 형성하는 단계를 포함하는, 리튬 전지용 음극재의 제조방법
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제 9 항에 있어서,상기 마스킹이 기판 상에 마스킹 입자 분산액을 코팅하여 수행되는, 리튬 전지용 음극재의 제조방법
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제 9 항에 있어서,상기 리튬저항성 물질의 성장이 화학기상증착(chemical vapor deposition, CVD) 공정을 통해 수행되는, 리튬 전지용 음극재의 제조방법
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제 9 항에 있어서,상기 리튬저항성 멤브레인 형성 단계 후, 리튬저항성 멤브레인의 양면 중 리튬친화적 촉매가 형성되는 면의 반대면에 보호층을 형성하는 단계를 더 포함하는, 리튬 전지용 음극재의 제조방법
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제 9 항에 있어서,상기 수열합성이 리튬저항성 멤브레인을 금속 이온 수용액에 침지시킨 후 50 내지 100℃에서 12 내지 60시간 동안 열처리함으로써 수행되는, 리튬 전지용 음극재의 제조방법
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양극, 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항의 음극재를 포함하는 음극, 및 전해질을 포함하는, 리튬 전지
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제 14 항에 있어서,상기 리튬 전지가 양극 및 음극 사이에 분리막을 더 포함하는, 리튬 전지
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