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광촉매 헤파 필터, 그 제조 방법, 살균 장치의 조사량 제어 장치, 및 이를 포함하는 공기 청정기

  • 기술번호 : KST2023008769
  • 담당센터 : 광주기술혁신센터
  • 전화번호 : 062-360-4654
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 개시는 미세 먼지를 제거하는 헤파 필터 소재; 및 헤파 필터 소재의 상부에 형성된 광촉매 층; 을 포함하고, 광촉매 층은, 원자층 증착 장치에 의해 극박막 코팅 처리되어 헤파 필터 소재와 일체형으로 형성되고, 살균 기능을 수행하는 것을 특징으로 할 수 있다.
Int. CL B01D 39/14 (2006.01.01) C23C 16/455 (2006.01.01) A61L 9/20 (2006.01.01) F24F 8/167 (2021.01.01) B01D 53/86 (2006.01.01) B01D 46/00 (2022.01.01)
CPC B01D 39/14(2013.01) C23C 16/45525(2013.01) A61L 9/205(2013.01) F24F 8/167(2013.01) B01D 53/86(2013.01) B01D 46/0001(2013.01) B01D 46/0028(2013.01) B01D 46/0038(2013.01) B01D 2239/0471(2013.01) B01D 2239/0442(2013.01) B01D 2239/045(2013.01) B01D 2239/10(2013.01)
출원번호/일자 1020220038981 (2022.03.29)
출원인 제로웰 주식회사, 광주과학기술원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2023-0140650 (2023.10.10) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 국내출원/신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2022.03.29)
심사청구항수 10

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 제로웰 주식회사 대한민국 광주광역시 북구
2 광주과학기술원 대한민국 광주광역시 북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김상진 광주광역시 북구
2 정상호 광주광역시 북구
3 강홍규 광주광역시 북구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인비엘티 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로*길**, *층(역삼동, 청원빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2022.03.29 수리 (Accepted) 1-1-2022-0338722-81
2 직권정정안내서
Notification of Ex officio Correction
2022.04.01 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2022-0050265-33
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2023.03.21 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 특허고객번호 정보변경(경정)신고서·정정신고서
2023.06.15 수리 (Accepted) 4-1-2023-5155578-20
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
미세 먼지를 제거하는 헤파 필터 소재; 및상기 헤파 필터 소재의 상부에 형성된 광촉매 층; 을 포함하고,상기 광촉매 층은,원자층 증착 장치에 의해 극박막 코팅 처리되어 상기 헤파 필터 소재와 일체형으로 형성되고, 살균 기능을 수행하는 것을 특징으로 하는, 광촉매 헤파 필터
2 2
제1항에 있어서,상기 광촉매 층의 구성 물질은, ZnO, TiO2, ZrO2, SnO2, WO3, SrTiO3 중 어느 하나 또는 둘 이상의 합금을 포함하는 것을 특징으로 하는, 광촉매 헤파 필터
3 3
제2항에 있어서,상기 광촉매 층은, 살균 장치의 조사에 의해 서로 다른 수산기(OH Radical)를 생성하는 것을 특징으로 하는, 광촉매 헤파 필터
4 4
제3항에 있어서,상기 서로 다른 수산기(OH Radical)의 생성량은,상기 구성 물질의 종류, 상기 살균 장치의 조사량, 및 상기 살균 장치의 조사에 따라 반응하는 구성 물질의 반응성에 의해 결정되는 것을 특징으로 하는, 광촉매 헤파 필터
5 5
제1항에 있어서,상기 헤파 필터 소재 또는 상기 광촉매 층의 일측에 악취를 제거하는 탈취 필터가 더 장착된 것을 특징으로 하는, 광촉매 헤파 필터
6 6
제1항에 있어서,상기 헤파 필터 소재 또는 상기 광촉매 층의 일측에 상기 미세 먼지보다 큰 먼지를 제거하는 프리 필터가 더 장착된 것을 특징으로 하는, 광촉매 헤파 필터
7 7
미세 먼지를 제거하는 헤파 필터 소재를 형성하는 단계; 및상기 헤파 필터 소재의 상부에 광촉매 층을 형성하는 단계를 포함하고,상기 광촉매 층은,원자층 증착 장치에 의해 극박막 코팅 처리되어 상기 헤파 필터 소재와 일체형으로 형성되고, 살균 기능을 수행하는 것을 특징으로 하는, 광촉매 헤파 필터의 제조 방법
8 8
제7항에 있어서,상기 광촉매 층의 구성 물질은, ZnO, TiO2, ZrO2, SnO2, WO3, SrTiO3 중 어느 하나 또는 둘 이상의 합금을 포함하는 것을 특징으로 하는, 광촉매 헤파 필터의 제조 방법
9 9
제8항에 있어서,상기 광촉매 층은, 살균 장치의 조사에 의해 서로 다른 수산기(OH Radical)를 생성하는 것을 특징으로 하는, 광촉매 헤파 필터의 제조 방법
10 10
제9항에 있어서,상기 서로 다른 수산기(OH Radical)의 생성량은,상기 구성 물질의 종류, 상기 살균 장치의 조사량, 및 상기 살균 장치의 조사에 따라 반응하는 구성 물질의 반응성에 의해 결정되는 것을 특징으로 하는, 광촉매 헤파 필터의 제조 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
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