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플라즈마를 발생시키는 플라즈마 장치에서 방출되는 방출 신호 중 투과 광신호 및 투과 배경신호를 검출하는 광 센서 어레이; 그리고상기 광 센서 어레이에 연결되며, 상기 투과 광신호와 상기 투과 배경신호를 연산하여 상기 투과 광신호의 세기만을 측정하는 신호 처리부를 포함하는 플라즈마 장치용 공정 모니터링 시스템
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제1항에서,상기 광 센서 어레이는상기 투과 광신호를 검출하는 복수의 제1 광 센서, 그리고상기 투과 배경신호를 검출하는 복수의 제2 광 센서를 포함하는 플라즈마 장치용 공정 모니터링 시스템
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제2항에서,상기 제1 광 센서는 상기 방출 신호에서 상기 방출 광신호 대역의 방출 광신호를 투과시키는 광신호 대역 투과 필터, 그리고상기 광신호 대역 투과 필터를 투과한 상기 투과 광신호를 검출하는 제1 광 검출기를 포함하는 플라즈마 장치용 공정 모니터링 시스템
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제2항에서,상기 제2 광 센서는 상기 방출 신호에서 상기 배경신호 대역의 배경 신호를 투과시키는 배경신호 대역 투과 필터, 그리고상기 배경신호 대역 투과 필터를 투과한 상기 투과 배경신호를 검출하는 제2 광 검출기를 포함하는 플라즈마 장치용 공정 모니터링 시스템
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제1항에서,상기 신호 처리부는 상기 투과 광신호에서, 상기 투과 광신호의 파장 대역의 최저점 및 최고점에 각각 인접하여 위치하는 상기 투과 배경신호들의 평균값을 제거하는 플라즈마 장치용 공정 모니터링 시스템
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제5항에서,상기 신호 처리부에 연결되며,적외선 히터에서 방출되는 적외선 배경신호를 검출하는 적외선 배경신호 검출기를 더 포함하는 플라즈마 장치용 공정 모니터링 시스템
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제6항에서,상기 신호 처리부는 상기 투과 광신호에서 상기 적외선 배경신호 검출기에 의해 검출된 상기 적외선 배경신호를 제거하는 플라즈마 장치용 공정 모니터링 시스템
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제2항에서,상기 제1 광 센서는 적어도 하나 이상의 제1 고감도 대역 광 센서, 그리고상기 제1 고감도 대역 광 센서보다 감도가 낮은 복수의 제1 저감도 대역 광 센서를 포함하고, 상기 제1 저감도 대역 광 센서의 개수는 상기 제1 고감도 대역 광 센서의 개수보다 많으며, 상기 제2 광 센서는적어도 하나 이상의 제2 고감도 대역 광 센서, 그리고상기 제2 고감도 대역 광 센서보다 감도가 낮은 제2 저감도 대역 광 센서를 포함하며,상기 제2 저감도 대역 광 센서의 개수는 상기 제2 고감도 대역 광 센서의 개수보다 많은 플라즈마 장치용 공정 모니터링 시스템
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제8항에서,상기 제1 고감도 대역 광 센서는상기 방출 신호에서 고감도의 상기 방출 광신호 대역의 방출 광신호를 투과시키는 고감도 광신호 대역 투과 필터, 그리고상기 고감도 광신호 대역 투과 필터를 투과한 고감도의 상기 투과 광신호를 검출하는 제1 고감도 광 검출기를 포함하고,상기 제1 저감도 대역 광 센서는상기 방출 신호에서 저감도의 상기 방출 광신호 대역의 방출 광신호를 투과시키는 저감도 광신호 대역 투과 필터, 그리고상기 저감도 광신호 대역 투과 필터를 투과한 저감도의 상기 투과 광신호를 검출하는 제1 저감도 광 검출기를 포함하며,상기 제1 고감도 대역 광 센서는 방출 광신호의 세기 및 검출기의 감도가 상기 제1 저감도 대역 광 센서보다 높은 플라즈마 장치용 공정 모니터링 시스템
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제9항에서,상기 제2 고감도 대역 광 센서는상기 방출 신호에서 고감도의 상기 배경신호 대역의 배경신호를 투과시키는 고감도 배경신호 대역 투과 필터, 그리고상기 고감도 배경신호 대역 투과 필터를 투과한 고감도의 상기 투과 배경신호를 검출하는 제2 고감도 광 검출기를 포함하고,상기 제2 저감도 대역 광 센서는상기 방출 신호에서 저감도의 상기 배경신호 대역의 배경신호를 투과시키는 저감도 배경신호 대역 투과 필터, 그리고상기 저감도 배경신호 대역 투과 필터를 투과한 저감도의 상기 투과 배경신호를 검출하는 제2 저감도 광 검출기를 포함하며,상기 제2 고감도 대역 광 센서는 방출 광신호의 세기 및 검출기의 감도가 상기 제2 저감도 대역 광 센서보다 높은 플라즈마 장치용 공정 모니터링 시스템
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