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격자 형상의 금속 패턴층 위에 고분자를 포함하는 전구체층을 형성하는 단계; 및상기 전구체층에 레이저를 조사하여 그래핀층을 형성하는 단계를 포함하는 그래핀 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 금속 패턴층은 상기 격자 형상을 정의하는 돌출부를 포함하고, 상기 돌출부의 높이는 100 nm 내지 500 nm이고, 상기 격자 형상의 주기는 100 ㎛ 내지 200 ㎛인, 그래핀 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 금속 패턴층은 상기 격자 형상을 정의하는 돌출부 및 상기 돌출부 아래에 배치되어 상기 금속 패턴층 내에서 전체적으로 연결되는 공통층을 포함하는, 그래핀 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 전구체층의 두께는 10 ㎛ 내지 30 ㎛인, 그래핀 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 전구체층은 폴리이미드(PI), 폴리에테르이미드(PEI), 폴리에테르에테르케톤(PEEK) 및 에폭시 수지로 이루어진 그룹에서 선택된 적어도 하나를 포함하는, 그래핀 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 전구체층은 벤젠고리와 이미드 그룹을 동시에 갖는 고분자를 포함하는, 그래핀 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 레이저는 CO2 레이저인, 그래핀 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 금속 패턴층은 상기 격자 형상을 정의하는 돌출부를 포함하고, 상기 돌출부는 역테이퍼 형상을 갖는, 그래핀 제조 방법
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제8항에 있어서, 상기 금속 패턴층은 상기 돌출부 아래에 배치되어 상기 금속 패턴층 내에서 전체적으로 연결되는 공통층을 더 포함하고, 상기 공통층은 상기 돌출부와 다른 금속을 포함하는, 그래핀 제조 방법
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제1 전극;상기 제1 전극과 이격된 제2 전극;상기 제1 전극과 상기 제2 전극 사이에 배치된 분리막; 및상기 제1 전극과 상기 제2 전극 사이에서 이온을 전달하는 전해질을 포함하고,상기 제1 전극은, 격자 형상의 금속 패턴층 및 상기 격자 형상을 형성하는 요철면을 커버하는 그래핀층을 포함하는, 이차전지
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제10항에 있어서, 상기 금속 패턴층은 상기 격자 형상을 정의하는 돌출부를 포함하고, 상기 돌출부의 높이는 100 nm 내지 500 nm이고, 상기 격자 형상의 주기는 100 ㎛ 내지 200 ㎛인, 이차전지
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제10항에 있어서, 상기 금속 패턴층은 상기 격자 형상을 정의하는 돌출부 및 상기 돌출부 아래에 배치되어 상기 금속 패턴층 내에서 전체적으로 연결되는 공통층을 포함하는, 이차전지
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제10항에 있어서, 상기 금속 패턴층은 상기 격자 형상을 정의하는 돌출부를 포함하고, 상기 돌출부는 역테이퍼 형상을 갖는, 이차 전지
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제13항에 있어서, 상기 금속 패턴층은 상기 돌출부 아래에 배치되어 상기 금속 패턴층 내에서 전체적으로 연결되는 공통층을 더 포함하고, 상기 공통층은 상기 돌출부와 다른 금속을 포함하는, 이차 전지
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제10항에 있어서, 상기 그래핀층은 레이저 유도 그래핀을 포함하는, 이차 전지
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