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표면개질된 입자 전극을 이용한 방사성 제염폐액의 처리 시스템 및 그 방법

  • 기술번호 : KST2023009139
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 방사성 제염폐액의 처리 방법은, 방사성 물질로 오염된 원자력발전소의 계통 또는 기기를 제염시켜 방사성 제염폐액이 발생하는 단계, 그리고 전력 공급원이 연결되어 있는 애노드 전극과 캐소드 전극이 제염폐액 내에 위치하고, 애노드 전극과 캐소드 전극의 사이에 위치하고 표면에 OH기가 생성된 표면개질된 입자 전극의 표면에서, OH기가 이온화되어 상기 입자 전극의 표면에 국부적인 양전하가 형성되고, 입자 전극의 표면에 흡착된 OH 라디칼 및 입자 전극의 분극에 의해 생성된 OH 라디칼이 함께 제염폐액을 화학 반응에 의해 분해하는 단계를 포함한다.
Int. CL G21F 9/12 (2006.01.01) C02F 1/467 (2006.01.01) C02F 1/461 (2006.01.01)
CPC G21F 9/12(2013.01) C02F 1/4672(2013.01) C02F 1/46109(2013.01)
출원번호/일자 1020220021752 (2022.02.18)
출원인 한국원자력연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2023-0124426 (2023.08.25) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 국내출원/신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2022.02.18)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국원자력연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 최정훈 대전광역시 유성구
2 이병관 대전광역시 유성구
3 박근일 대전광역시 유성구
4 이기락 대전광역시 유성구
5 강현우 대전광역시 서구
6 박환서 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 유미특허법인 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 서림빌딩 **층 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2022.02.18 수리 (Accepted) 1-1-2022-0187136-37
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2022.06.15 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2022.09.16 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2023-0158803-63
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2023.08.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2023-0785326-57
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견서·답변서·소명서
2023.10.04 수리 (Accepted) 1-1-2023-1089204-36
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2023.10.04 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2023-1089205-82
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번호 청구항
1 1
방사성 물질로 오염된 원자력발전소의 계통 또는 기기를 제염시켜 발생하는 방사성 제염폐액을 담고 있는 용기,상기 용기 안의 일 측에 위치하는 애노드 전극,상기 용기 안의 타 측에 위치하고, 상기 애노드 전극과 대면하는 캐소드 전극,상기 애노드 전극과 상기 캐소드 전극에 연결되어 있는 전력 공급원, 그리고상기 애노드 전극과 상기 캐소드 전극의 사이에 위치하고, 표면에 OH기가 생성된 표면개질된 입자 전극을 포함하고,상기 입자 전극의 분극에 의해 생성된 OH 라디칼이 상기 제염폐액을 분해하고, 상기 OH기가 이온화되어 상기 입자 전극의 표면에 국부적인 양전하가 형성되고, 상기 입자 전극의 표면에 흡착된 OH 라디칼에 의해 상기 제염폐액을 분해하는 것인, 방사성 제염폐액의 처리 시스템
2 2
제1항에서, 상기 애노드 전극에서 물 분자로부터 제1 OH 라디칼이 생성되는 제1 전기화학 반응이 일어나며, 그리고 상기 입자 전극에서 추가적인 제2 OH 라디칼의 생성으로 인하여 제염폐액이 분해되어 이산화탄소와 물이 생성되는 제2 전기화학 반응이 일어나는 것인, 방사성 제염폐액의 처리 시스템
3 3
제2항에서, 상기 입자 전극은 일측이 (-)로 분극되어 있는 분극 캐소드(polarized cathode), 그리고 타측이 (+)로 분극되어 있는 분극 애노드(polarized anode)를 포함하고, 상기 분극 애노드에서 상기 제2 전기화학 반응이 일어나는 것인, 방사성 제염폐액의 처리 시스템
4 4
제1항에서, 상기 입자 전극은 상기 제염폐액 내에 분산되어 있는 복수의 Y2O3 입자들을 포함하고, 상기 복수의 Y2O3 입자들 각각이 분극되어 있는 것인, 방사성 제염폐액의 처리 시스템
5 5
방사성 물질로 오염된 원자력발전소의 계통 또는 기기를 제염시켜 방사성 제염폐액이 발생하는 단계, 그리고전력 공급원이 연결되어 있는 애노드 전극과 캐소드 전극이 상기 제염폐액 내에 위치하고, 상기 애노드 전극과 상기 캐소드 전극의 사이에 위치하고 표면에 OH기가 생성된 표면개질된 입자 전극의 표면에서, OH기가 이온화되어 상기 입자 전극의 표면에 국부적인 양전하가 형성되고, 상기 입자 전극의 표면에 흡착된 OH 라디칼 및 상기 입자 전극의 분극에 의해 생성된 OH 라디칼이 함께 제염폐액을 화학 반응에 의해 분해하는 단계를 포함하는, 방사성 제염폐액의 처리 방법
6 6
제5항에서, 상기 입자 전극의 표면은 수산화 방법에 의해 표면개질되는 것인, 방사성 제염폐액의 처리 방법
7 7
제6항에서, 상기 입자 전극은 복수의 Y2O3 입자들을 포함하는, 방사성 제염폐액의 처리 방법
8 8
제5항에서, 상기 애노드 전극에서, 물 분자로부터 제1 OH 라디칼을 생성하는 단계를 더 포함하는, 방사성 제염폐액의 처리 방법
9 9
제5항에서, 상기 입자 전극에서, 추가적으로 생성된 제2 OH 라디칼에 의해 상기 제염폐액을 분해시켜 이산화탄소와 물을 생성하는 단계를 더 포함하는, 방사성 제염폐액의 처리 방법
10 10
제5항에서, 상기 입자 전극에서, 일측을 (-)로 분극시키고, 타측을 (+)로 분극시키는 분극 단계를 더 포함하는, 방사성 제염폐액의 처리 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 산업통상자원부 한국원자력연구원 산업부 국가연구개발사업 원전 해체 발생 유기 제염폐액 처리 공정 시제품 개발